公开(公告)号：CN108623506B

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN201810234145.6

申请日：2018-03-21

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  三井亮 ,  片山和弘

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/30 ,  C07C309/31 ,  C07C303/32 ,  C07C59/115 ,  C07C51/41 ,  C07D335/02 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种锍盐，其中，通过将其用作光产酸剂，在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN109422672B

公开(公告)日：2021-08-20

申请号：CN201810970031.8

申请日：2018-08-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  三井亮 ,  大桥正树 ,  谷口良辅 ,  长谷川幸士

IPC: C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C08F220/18 ,  C08F220/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明为锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。包含特定结构的锍化合物作为PAG的抗蚀剂组合物具有优异的光刻性能因素，如最小的缺陷、高感光度、改善的LWR和CDU，并且是用于精确微图案化的相当有效的抗蚀剂材料。

公开(公告)号：CN118620392A

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202410255911.2

申请日：2024-03-06

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 佐藤健裕 ,  菊地骏 ,  三井亮 ,  橘诚一郎

IPC: C08L83/07 ,  G03F7/09 ,  G03F1/76 ,  C08L83/06

Abstract: 本发明涉及含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供含有使上层抗蚀剂的感度、LWR、分辨度改善，对图案崩塌防止有贡献的热硬化性含硅材料的抗蚀剂下层膜形成用组成物以及使用该抗蚀剂下层膜形成用组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物，含有为聚硅氧烷树脂的缩合反应型热硬化性含硅的材料(Sx)，其特征为：该材料具有会和自由基化学物种进行反应的非缩合反应性有机基团，该树脂中含有超过0且为70mol％以下的下述通式(Sx‑4)表示的重复单元或通式(Sx‑5)表示的重复单元中任一者以上，且该有机基团在聚硅氧烷树脂的热硬化反应后仍为未反应的状态而残留。#imgabs0#

公开(公告)号：CN111208710A

公开(公告)日：2020-05-29

申请号：CN201911139299.8

申请日：2019-11-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 荻原勤 ,  渡边司 ,  美谷岛祐介 ,  金山昌广 ,  三井亮

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明涉及含碘的热固性含硅材料、含该材料的极紫外线光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物、及图案形成方法。本发明提供用于形成能够保持着上层抗蚀剂的LWR而贡献于感度提升的抗蚀剂下层膜的热固性含硅材料、含有该材料的含硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物、及使用该组合物的图案形成方法。一种热固性含硅材料，其特征在于含有下列通式(Sx-1)所示的重复单元、下列通式(Sx-2)所示的重复单元、及下列通式(Sx-3)所示的部分结构中的任一个以上。[化学式1]式中，R1为含有碘的有机基团。R2、R3分别独立地和R1相同、或为氢原子或碳数1～30的1价有机基团。

公开(公告)号：CN111057088A

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201910984985.9

申请日：2019-10-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 三井亮 ,  渡边武 ,  橘诚一郎 ,  荻原勤

IPC: C07F7/18

Abstract: 本发明的目的在于提供一种在产业上有用的、具有脂环结构(特别是降冰片烷环)与羰基的水解性硅化合物的高效的工业制备方法。一种硅化合物的制备方法，其为基于下述通式(1)所示的氢硅烷化合物与下述通式(2)所示的含羰基脂环烯烃化合物的氢化硅烷化反应的下述通式(3)所示的硅化合物的制备方法，其特征在于，在铂类催化剂的存在下，逐渐添加酸性化合物或酸性化合物前体，并同时进行氢化硅烷化反应。[化学式1]

公开(公告)号：CN108623506A

公开(公告)日：2018-10-09

申请号：CN201810234145.6

申请日：2018-03-21

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  三井亮 ,  片山和弘

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/30 ,  C07C309/31 ,  C07C303/32 ,  C07C59/115 ,  C07C51/41 ,  C07D335/02 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C08K5/098 ,  C08K5/42 ,  C08L33/06 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/029 ,  G03F7/2059

Abstract: 本发明提供一种锍盐，其中，通过将其用作光产酸剂，在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐。[化学式1][化学式2]