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公开(公告)号：CN112661636A
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202011101779.8
申请日：2020-10-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C67/11 , C07C45/64 , C07C49/23 , C07C69/24 , C07C49/242 , C07C69/78 , C07C69/145 , C07C69/74 , C07C69/75 , C07C69/608 , C07C69/533 , C07C69/76
Abstract: 一种制备以下通式(6)的2‑(1,2,2‑三甲基‑3‑环戊烯基)‑2‑氧乙基羧酸酯化合物的方法，其中R代表具有1至9个碳原子的一价烃基，该方法包括：酯化以下通式(5)的2‑(1,2,2‑三甲基‑3‑环戊烯基)‑2‑氧乙基化合物，其中X代表羟基或卤原子，以形成所述2‑(1,2,2‑三甲基‑3‑环戊烯基)‑2‑氧乙基羧酸酯化合物(6)。
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公开(公告)号：CN112441894A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010903582.X
申请日：2020-09-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C45/51 , C07C47/20 , C07C41/48 , C07C43/303
Abstract: 一种制备下式(2)的4‑戊烯‑2‑炔醛的方法：CH2＝CHC≡CCHO (2)该方法包括水解以下通式(1)的5,5‑二烷氧基＝‑C1H‑C戊≡烯C‑C3‑H炔(O化R合1)物(O以R得2) 到(14)‑其戊中烯，‑R2‑1和炔R醛2彼(2此)的独步立骤地：表CH示2具有1至15个、优选1至8个、更优选1至4个碳原子的一价烃基，或者R1和R2可以彼此键合以形成具有2至10个碳原子的二价烃基R1‑R2。
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公开(公告)号：CN107200687B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201710157895.3
申请日：2017-03-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供用于以较低的成本，通过较少的步骤并且以较高的产率生产4‑甲基辛酸乙酯的方法。更具体地，提供一种用于生产4‑甲基辛酸乙酯的方法，其包括以下步骤：通过丙二酸酯合成使1‑氯‑2‑甲基己烷反应获得2‑甲基己基丙二酸二乙酯，并且使所述2‑甲基己基丙二酸二乙酯进行Krapcho反应以获得4‑甲基辛酸乙酯。
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公开(公告)号：CN110651787A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201910568064.4
申请日：2019-06-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供一种使用信息素制品控制梨圆蚧的方法，所述信息素制品包含梨圆蚧的信息素物质。提供一种用于控制梨圆蚧的方法，该方法至少包括在田间安装信息素制品的步骤，使得所安装的信息素制品的数量范围为每公顷200至5000，每个信息素制品包括梨圆蚧的信息素物质和将该信息素物质装入其中的容器，以允许该信息素物质渗透出该容器并释放到田间。
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公开(公告)号：CN109467504A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201811038409.7
申请日：2018-09-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C67/10 , C07C69/145 , C07C17/263 , C07C21/22
CPC classification number: C07C67/10 , C07C17/2632 , C07C17/354 , C07C67/11 , C07F3/02 , C07C21/19 , C07C69/145 , C07C21/22
Abstract: 本发明的一个目的是提供一种高收率的制备(4Z,7Z)-4,7-癸二烯-1-基乙酸酯的方法，其减少了步骤数，且不使用保护基。提供一种制备(4Z,7Z)-4,7-癸二烯-1-基乙酸酯的方法，该方法包括至少以下步骤：还原通式(1)的10-卤代-3,6-癸二炔以形成通式(2)的(3Z,6Z)-10-卤代-3,6-癸二烯；以及将所述(3Z,6Z)-10-卤代-3,6-癸二烯转化为具有乙酰氧基取代(3Z,6Z)-10-卤代-3,6-癸二烯的卤原子的式(4)的(4Z,7Z)-4,7-癸二烯-1-基乙酸酯。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104592017B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201410601659.2
申请日：2014-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C67/14 , C07C69/24 , C07C67/333 , C07C69/587
Abstract: 提供了制备2‑异亚丙基‑5‑甲基‑4‑己烯基丁酸酯的简单且有效的方法。更具特地，提供了制备2‑异亚丙基‑5‑甲基‑4‑己烯基丁酸酯的方法，所述方法包括步骤：将2‑异丙烯基‑5‑甲基‑4‑己烯酸酯(1)异构化成2‑异亚丙基‑5‑甲基‑4‑己烯酸酯(2)，将由此形成的2‑异亚丙基‑5‑甲基‑4‑己烯酸酯(2)还原成2‑异亚丙基‑5‑甲基‑4‑己烯醇(3)，以及将由此形成的2‑异亚丙基‑5‑甲基‑4‑己烯醇(3)丁酰化成2‑异亚丙基‑5‑甲基‑4‑己烯基丁酸酯(4)，其中R表示C1‑10烃基。
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公开(公告)号：CN104040429A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280061534.4
申请日：2012-12-13
Applicant: 国际商业机器公司 , 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及用于在集成半导体晶片的图案化中的垂直对准和校正的近红外线(NIR)膜组合物及使用该组合物的图案形成方法。该NIR吸收膜组合物包括具有聚甲炔阳离子和可交联阴离子的NIR吸收染料、可交联聚合物和交联剂。该图案形成方法包括通过感测从含有光致抗蚀剂层和在该光致抗蚀剂层下方的、由所述NIR吸收膜组合物形成的NIR吸收层的基材反射的近红外线发射来对准和聚焦光致抗蚀剂层的焦点平面位置。该NIR吸收膜组合物和图案形成方法特别可用于在具有复杂的隐埋形貌的半导体基材上形成材料图案。
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公开(公告)号：CN102591152A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201110442501.1
申请日：2009-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0382 , Y10S430/114 , Y10S430/128
Abstract: 本发明是一种化学增幅型光阻组合物，其至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物，但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。由此，可提供一种化学增幅光阻材料等的光阻材料、及使用此材料的图案形成方法，该光阻材料在用于微加工的微影成像术且特别是使用KrF激光、ArF激光、F2激光、极短紫外线、电子射线、X射线等作为曝光光源的微影术中，可赋予高解像性，同时在基板界面也能赋予良好图案形状。
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公开(公告)号：CN101625524A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200910140187.4
申请日：2009-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0382 , Y10S430/114 , Y10S430/128
Abstract: 本发明是一种化学增幅型光阻组合物，其至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物，但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。由此，可提供一种化学增幅光阻材料等的光阻材料、及使用此材料的图案形成方法，该光阻材料在用于微加工的微影成像术且特别是使用KrF激光、ArF激光、F2激光、极短紫外线、电子射线、X射线等作为曝光光源的微影术中，可赋予高解像性，同时在基板界面也能赋予良好图案形状。
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公开(公告)号：CN112209807B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202010651273.8
申请日：2020-07-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C17/263 , C07C21/04 , C07F3/02 , C07C41/48 , C07C43/303 , C07C45/51 , C07C47/21
Abstract: 本发明提供制备X1代表卤原子的11‑卤代‑3‑十一烯化合物(7)的方法，包括使M2代表Li或MgZ2、Z2代表卤原子或3‑己烯基的亲核试剂3‑己烯基化合物(5)与X3和X4可相同或不同并代表卤原子的1‑卤代‑5‑卤代戊烷化合物(6)偶联反应制备11‑卤代‑3‑十一烯化合物(7)的步骤，还提供制备9‑十二烯醛化合物(4)的方法，包括使M1代表Li或MgZ1、Z1代表卤原子的亲核试剂8‑十一烯基化合物(1)和R彼此相同或不同且代表具有1至6个碳原子的脂族烃基的原甲酸酯化合物(2)亲核取代反应制备R如上限定的1,1‑二脂族烃氧基‑9‑十二烯化合物(3)，并将其水解制备9‑十二烯醛化合物(4)的步骤。#imgabs0#
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