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公开(公告)号：CN1493890A
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN03159386.0
申请日：2003-09-12
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G03B21/208
Abstract: 本发明提供位置对准容易、高精度的微透镜阵列的曝光装置和高精度且光效率高的微透镜阵列的曝光方法。微透镜阵列的曝光装置，包括对来自光源的光束作二次点光源化的微蝇眼透镜(2)，调节二次点光源化后光的亮度的透过率分布掩膜(3)，使被所述亮度调节后的光成多个平行光束、并通过预先形成的第1微透镜阵列、以及导向形成第2微透镜阵列的感光性树脂层的视准透镜(4)。从光源射出的光，透过微蝇眼透镜(2)、透过率分布掩膜(3)和视准透镜(4)，在调节成所需的照度后对微透镜基板(6)的感光性树脂层进行曝光。
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公开(公告)号：CN1284009C
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN03159386.0
申请日：2003-09-12
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G03B21/208
Abstract: 本发明提供位置对准容易、高精度的微透镜阵列的曝光装置和高精度且光效率高的微透镜阵列的曝光方法。微透镜阵列的曝光装置，包括对来自光源的光束作二次点光源化的微蝇眼透镜(2)，调节二次点光源化后光的亮度的透过率分布掩膜(3)，使被所述亮度调节后的光成多个平行光束、并通过预先形成的第1微透镜阵列、以及导向形成第2微透镜阵列的感光性树脂层的视准透镜(4)。从光源射出的光，透过微蝇眼透镜(2)、透过率分布掩膜(3)和视准透镜(4)，在调节成所需的照度后对微透镜基板(6)的感光性树脂层进行曝光。
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公开(公告)号：CN1249455C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN03160358.0
申请日：2003-09-25
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02B3/00 , G02F1/1335 , G03B21/00 , H04N9/31
CPC classification number: G02F1/133526 , B29D11/00278 , G02B3/0012 , G02B3/0068 , G02B5/045
Abstract: 本发明的一个目的是提供制造能够提高光线的使用效率的微透镜矩阵和液晶显示设备，以及方便制造微透镜矩阵的方法和降低设备成本。通过只是用具有对应于第二微透镜矩阵形状的强度分布的平行光线照射第一透镜(12)以及采用透射光线来照射紫外线固化树脂层(33)，就可以高对准精度的相互位置关系来设置第一和第二透镜(12，14)。通过用平行光线照射第一透镜(12)，就可能均匀地曝光一较大的区域，并且有可能曝光晶片。
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公开(公告)号：CN1223872C
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN02105669.2
申请日：2002-03-29
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G11B7/1374 , G02B3/02 , G11B7/00 , G11B7/1378 , G11B7/13922 , G11B7/13925 , G11B7/1398 , G11B2007/13727
Abstract: 提供一种物镜及其制造误差的校正方法以及使用该物镜的光拾取装置，物镜是两个面为非球面的单面物镜。物镜的数值孔径为0.75以上，设使用波长的至少一个的上述玻璃的折射率为n，设d线中的阿贝数为v时，满足1.75＜n，且35＜v。由此，可实现小型化，另外，不伴随光利用效率的降低，像差小，且可简单地校正该像差。
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公开(公告)号：CN1547738A
公开(公告)日：2004-11-17
申请号：CN02816487.3
申请日：2002-08-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G11B7/1356 , G11B7/1359 , G11B7/1369 , G11B7/13927
Abstract: 在包括光源、在从光源至光记录媒体的光路中的物镜、及像差校正光学系统的光学头装置中，所述像差校正光学系统为校正规定的像差对透过的光束提供相位分布，校正所述像差时的所述像差校正光学系统的相位量被设定得使随着离开所述像差校正光学系与光轴相交点的距离增大，所述像差校正光学系统提供的相位量增大。这样，相对于物镜的中心偏移的容许量增大，能防止因中心偏移产生的像差的劣化。
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