粒子检测装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104380079B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201380033276.3

    申请日:2013-07-30

    CPC classification number: G01N21/64 G01N15/0612 G01N21/645 G01N2015/0065

    Abstract: 粒子检测装置(10)是检测源自生物的粒子的粒子检测装置。粒子检测装置(10)具备:捕集片(12);捕集部(21),其将空气中的粒子导入装置内,并由捕集片(12)将其捕获收集;加热部(31),其对由捕集片(12)捕获收集到的粒子进行加热,使得从粒子发出的荧光增大;荧光检测部(41),其检测从由捕集片(12)捕获收集到的粒子发出的荧光;以及移动机构部(51),其使捕集片(12)移动。通过这种构成,提供实现测定时间缩短、测定费用降低的粒子检测装置。

    微透镜阵列的曝光装置和曝光方法

    公开(公告)号:CN1284009C

    公开(公告)日:2006-11-08

    申请号:CN03159386.0

    申请日:2003-09-12

    CPC classification number: G03B21/208

    Abstract: 本发明提供位置对准容易、高精度的微透镜阵列的曝光装置和高精度且光效率高的微透镜阵列的曝光方法。微透镜阵列的曝光装置,包括对来自光源的光束作二次点光源化的微蝇眼透镜(2),调节二次点光源化后光的亮度的透过率分布掩膜(3),使被所述亮度调节后的光成多个平行光束、并通过预先形成的第1微透镜阵列、以及导向形成第2微透镜阵列的感光性树脂层的视准透镜(4)。从光源射出的光,透过微蝇眼透镜(2)、透过率分布掩膜(3)和视准透镜(4),在调节成所需的照度后对微透镜基板(6)的感光性树脂层进行曝光。

    光学头装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1547738A

    公开(公告)日:2004-11-17

    申请号:CN02816487.3

    申请日:2002-08-13

    CPC classification number: G11B7/1356 G11B7/1359 G11B7/1369 G11B7/13927

    Abstract: 在包括光源、在从光源至光记录媒体的光路中的物镜、及像差校正光学系统的光学头装置中,所述像差校正光学系统为校正规定的像差对透过的光束提供相位分布,校正所述像差时的所述像差校正光学系统的相位量被设定得使随着离开所述像差校正光学系与光轴相交点的距离增大,所述像差校正光学系统提供的相位量增大。这样,相对于物镜的中心偏移的容许量增大,能防止因中心偏移产生的像差的劣化。

    粒子检测装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104380079A

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN201380033276.3

    申请日:2013-07-30

    CPC classification number: G01N21/64 G01N15/0612 G01N21/645 G01N2015/0065

    Abstract: 粒子检测装置(10)是检测源自生物的粒子的粒子检测装置。粒子检测装置(10)具备:捕集片(12);捕集部(21),其将空气中的粒子导入装置内,并由捕集片(12)将其捕获收集;加热部(31),其对由捕集片(12)捕获收集到的粒子进行加热,使得从粒子发出的荧光增大;荧光检测部(41),其检测从由捕集片(12)捕获收集到的粒子发出的荧光;以及移动机构部(51),其使捕集片(12)移动。通过这种构成,提供实现测定时间缩短、测定费用降低的粒子检测装置。

    光学头装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1266689C

    公开(公告)日:2006-07-26

    申请号:CN02816487.3

    申请日:2002-08-13

    CPC classification number: G11B7/1356 G11B7/1359 G11B7/1369 G11B7/13927

    Abstract: 在包括光源、在从光源至光记录媒体的光路中的物镜、及像差校正光学系统的光学头装置中,所述像差校正光学系统为校正规定的像差对透过的光束提供相位分布,校正所述像差时的所述像差校正光学系统的相位量被设定得使随着离开所述像差校正光学系与光轴相交点的距离增大,所述像差校正光学系统提供的相位量增大。这样,相对于物镜的中心偏移的容许量增大,能防止因中心偏移产生的像差的劣化。

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