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公开(公告)号：CN1524265A
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN02813586.5
申请日：2002-11-05
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G11B7/1353 , G11B7/0901 , G11B7/094 , G11B7/123 , G11B7/131
Abstract: 本发明以使用主束光量不减小的1光束跟踪法时，抑制物镜移位和盘片倾斜造成的偏移的产生，取得稳定的各自伺服性能为目的。此外，在全息透镜与感光部之间配置衍射光栅，并使其衍射效率在光栅纵向不同。例如，作为偏移，衍射光栅的入射光在光栅纵向移位时，各感光区中的感光光量发生变化。进行跟踪伺服，以便消除该变化，从而可补偿偏移，能得到稳定的跟踪伺服性能。
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公开(公告)号：CN1497268A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN03160358.0
申请日：2003-09-25
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02B3/00 , G02F1/1335 , G03B21/00 , H04N9/31
CPC classification number: G02F1/133526 , B29D11/00278 , G02B3/0012 , G02B3/0068 , G02B5/045
Abstract: 本发明的一个目的是提供制造能够提高光线的使用效率的微透镜矩阵和液晶显示设备，以及方便制造微透镜矩阵的方法和降低设备成本。通过只是用具有对应于第二微透镜矩阵形状的强度分布的平行光线照射第一透镜(12)以及采用透射光线来照射紫外线固化树脂层(33)，就可以高对准精度的相互位置关系来设置第一和第二透镜(12，14)。通过用平行光线照射第一透镜(12)，就可能均匀地曝光一较大的区域，并且有可能曝光晶片。
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公开(公告)号：CN1249455C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN03160358.0
申请日：2003-09-25
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02B3/00 , G02F1/1335 , G03B21/00 , H04N9/31
CPC classification number: G02F1/133526 , B29D11/00278 , G02B3/0012 , G02B3/0068 , G02B5/045
Abstract: 本发明的一个目的是提供制造能够提高光线的使用效率的微透镜矩阵和液晶显示设备，以及方便制造微透镜矩阵的方法和降低设备成本。通过只是用具有对应于第二微透镜矩阵形状的强度分布的平行光线照射第一透镜(12)以及采用透射光线来照射紫外线固化树脂层(33)，就可以高对准精度的相互位置关系来设置第一和第二透镜(12，14)。通过用平行光线照射第一透镜(12)，就可能均匀地曝光一较大的区域，并且有可能曝光晶片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1501140A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN03159308.9
申请日：2003-09-02
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 藤田升
IPC: G02F1/1335 , G03B21/00
CPC classification number: G02B3/0031 , B29C35/0888 , B29C43/021 , B29C2035/0827 , B29D11/00278 , B29D11/00365 , B29K2021/00 , B29L2011/0016
Abstract: 本发明揭示一种微透镜阵列基板的制造方法，是在相互相向对置的第一透明基板与第二透明基板之间配置在一个表面形成第一微透镜阵列型、同时在另一个表面形成第二微透镜阵列型的压模，在第一及第二透明基板与上述压模之间分别形成各自由第一透光性树脂及第二透光性树脂构成的微透镜阵列之后，使压模移开，上述两个微透镜阵列之间用第三透光性树脂固定，通过这样制成微透镜阵列基板。这样，由于对第一与第二透明基板上分别形成的微透镜阵列相互之间不需要进行光轴调整，因此能够简化制造工序，同时能够高效地大量生产高精度的微透镜阵列基板。
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公开(公告)号：CN104379244A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380031750.9
申请日：2013-05-15
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B01F3/04503 , B01D19/0036 , B01F5/0428 , B01F2003/04886 , C01B13/11 , C01B2201/62
Abstract: 含臭氧液生成装置(1A)具备：臭氧发生器(10)，其产生臭氧；气液混合器(20)，其使水含有产生的臭氧来生成臭氧水(100)；气体导入路(L4)，其将原料气体导入臭氧发生器(10)；液体导入路(L1)，其将水导入气液混合器(20)；气液分离器(30)，其对生成的臭氧水(100)进行气液分离；含臭氧液导出路(L3)，其将气液分离后的臭氧水(100)向外部导出；气体回流路(L6)，其使从臭氧水(100)分离的残留气体向臭氧发生器(10)回流；以及液体收集器(40)，其设置在气体回流路(L6)上。
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公开(公告)号：CN104023832A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280053560.2
申请日：2012-07-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B01F5/0428 , B01F3/04503 , B01F5/106 , B01F2003/04886 , C01B13/11
Abstract: 臭氧液生成装置具备：臭氧产生机构(101)，其利用含有氧的气体来产生臭氧气体；气液混合机构(102)，其将臭氧气体和液体混合来生成臭氧液；贮液槽(103)，其对臭氧液进行气液分离；以及循环路径(A)，其使气体在臭氧产生机构(101)、气液混合机构(102)和贮液槽(103)之间循环。臭氧产生机构(101)包括臭氧产生电极(2)，在氧产生电极(2)中，包含金属体的圆柱状的轴(21)和包含电介质的中空管(23)在轴(21)的外周和中空管(23)的内周之间隔开间隙地配置成同轴状。在臭氧产生电极(2)中，上述间隙为放电空间(24)，含有氧的气体通过上述间隙，从而产生臭氧气体。
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公开(公告)号：CN1277260C
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN02813586.5
申请日：2002-11-05
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G11B7/1353 , G11B7/0901 , G11B7/094 , G11B7/123 , G11B7/131
Abstract: 本发明以使用主束光量不减小的1光束跟踪法时，抑制物镜移位和盘片倾斜造成的偏移的产生，取得稳定的各自伺服性能为目的。此外，在全息透镜与感光部之间配置衍射光栅，并使其衍射效率在光栅纵向不同。例如，作为偏移，衍射光栅的入射光在光栅纵向移位时，各感光区中的感光光量发生变化。进行跟踪伺服，以便消除该变化，从而可补偿偏移，能得到稳定的跟踪伺服性能。
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公开(公告)号：CN1258105C
公开(公告)日：2006-05-31
申请号：CN03159308.9
申请日：2003-09-02
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 藤田升
CPC classification number: G02B3/0031 , B29C35/0888 , B29C43/021 , B29C2035/0827 , B29D11/00278 , B29D11/00365 , B29K2021/00 , B29L2011/0016
Abstract: 本发明揭示一种微透镜阵列基板的制造方法，是在相互相向对置的第一透明基板与第二透明基板之间配置在一个表面形成第一微透镜阵列型、同时在另一个表面形成第二微透镜阵列型的压模，在第一及第二透明基板与上述压模之间分别形成各自由第一透光性树脂及第二透光性树脂构成的微透镜阵列之后，使压模移开，上述两个微透镜阵列之间用第三透光性树脂固定，通过这样制成微透镜阵列基板。这样，由于对第一与第二透明基板上分别形成的微透镜阵列相互之间不需要进行光轴调整，因此能够简化制造工序，同时能够高效地大量生产高精度的微透镜阵列基板。
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