公开(公告)号：CN1493890A

公开(公告)日：2004-05-05

申请号：CN03159386.0

申请日：2003-09-12

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 北村和也 ,  冈田训明 ,  关本芳宏 ,  仓田幸夫 ,  中西浩

IPC: G02B3/00 ,  G02B27/18 ,  G02F1/13 ,  G03B21/14

CPC classification number: G03B21/208

Abstract: 本发明提供位置对准容易、高精度的微透镜阵列的曝光装置和高精度且光效率高的微透镜阵列的曝光方法。微透镜阵列的曝光装置，包括对来自光源的光束作二次点光源化的微蝇眼透镜(2)，调节二次点光源化后光的亮度的透过率分布掩膜(3)，使被所述亮度调节后的光成多个平行光束、并通过预先形成的第1微透镜阵列、以及导向形成第2微透镜阵列的感光性树脂层的视准透镜(4)。从光源射出的光，透过微蝇眼透镜(2)、透过率分布掩膜(3)和视准透镜(4)，在调节成所需的照度后对微透镜基板(6)的感光性树脂层进行曝光。

公开(公告)号：CN101995644B

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201010249235.6

申请日：2010-08-06

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 重光学道 ,  北村和也 ,  花户宏之

IPC: G02B13/18 ,  G02B13/00 ,  G06K7/10

CPC classification number: G03B13/32 ,  H04N5/2254 ,  H04N5/23212

Abstract: 本发明涉及摄像模块、成像透镜以及码读取方法。为了实现在拍摄近的被摄体与拍摄远的被摄体的两种情况下均具有良好的分辨率而能够满足所要求的规格，且构造简单的摄像模块，摄像模块具备：成像透镜，其景深被扩大的同时，像面弯曲被减小；及传感器，其设置在从成像透镜的相对于来自向日葵的白色光的最佳像面的位置，到成像透镜的相对于来自树木的白色光的最佳像面的位置之间。

公开(公告)号：CN101995644A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN201010249235.6

申请日：2010-08-06

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 重光学道 ,  北村和也 ,  花户宏之

IPC: G02B13/18 ,  G02B13/00 ,  G06K7/10

CPC classification number: G03B13/32 ,  H04N5/2254 ,  H04N5/23212

Abstract: 本发明涉及摄像模块、成像透镜以及码读取方法。为了实现在拍摄近的被摄体与拍摄远的被摄体的两种情况下均具有良好的分辨率而能够满足所要求的规格，且构造简单的摄像模块，摄像模块具备：成像透镜，其景深被扩大的同时，像面弯曲被减小；及传感器，其设置在从成像透镜的相对于来自向日葵的白色光的最佳像面的位置，到成像透镜的相对于来自树木的白色光的最佳像面的位置之间。

公开(公告)号：CN1643406A

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：CN03807183.5

申请日：2003-03-14

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 冈田训明 ,  长坂由起子 ,  北村和也 ,  关本芳宏 ,  仓田幸夫 ,  中西浩

IPC: G02B3/00 ,  G02F1/13357 ,  G02F1/13

CPC classification number: G02B3/0068 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0056 ,  G02F1/133526 ,  G02F1/133621 ,  H04N9/3108

Abstract: 在有多个透镜的第一及第二微透镜阵列6、7的微透镜阵列基板12中，第一微透镜阵列6被夹在两块无机介质基板21、24之间而形成，第二微透镜阵列7形成于两块无机介质基板21、24中的任何一片无机介质基板上。