一种高致密超细晶大尺寸钼靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN109778126B

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN201910187697.0

    申请日:2019-03-13

    Abstract: 本发明提供一种高致密超细晶大尺寸钼靶材的制备方法,通过冷等静压压型‑烧结‑热等静压压型‑热轧制‑退火‑机加工的工艺流程来制备钼靶材,钼靶材先通过热等静压处理后,对钼靶材坯料进行了第一次致密化处理,然后将该坯料进行热轧处理,对钼靶材坯料进行了第二次致密化处理,最后经过950‑1100℃,保温60‑90min的退火处理及机械加工等工序获得所需性能的钼靶材。本发明的制备方法能够制作出高纯度(纯度达到99.9%以上))、全致密(密度达到99.9%以上)、超细晶(晶粒度小于20μm)的钼靶材,可满足要求越来越高的溅射工艺,提高薄膜溅射速度,改善钼金属溅射薄膜的质量,提高薄膜性能。

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