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公开(公告)号：CN107209461B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201680006570.9
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
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公开(公告)号：CN107255913B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201710536605.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN106933066B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201611264164.0
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN106133610B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201580017855.8
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/24 , G03F9/00 , G03F9/7088
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107255913A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710536605.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN104303110B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201380025725.X
申请日：2013-04-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G02F1/1303 , B29C65/18 , B29C65/5057 , B29C65/7451 , B29C65/7847 , B29C66/1122 , B29C66/43 , B29C66/8221 , B29C66/83221 , B29C66/83241 , B29C66/853 , B29C66/934 , B65G2249/04 , B65H19/1852 , B65H19/1873 , B65H2301/46172 , B65H2301/4621 , B65H2301/46312 , B65H2408/2171 , B65H2801/61 , C03B33/0235 , G02F1/133351 , G02F2001/133354 , Y02P40/57
Abstract: 一种基板处理系统，具有：第1处理单元，对以速度V1搬送的基板连续地实施第1处理；以及第2处理单元，以速度V2搬送由第1处理单元处理后的基板，对基板连续地实施第2处理，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＞V2的情况下，设置多个第2处理单元，且还具有切断机构和选择投入机构，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＜V2的情况下，设置多个第1处理单元，且还具有将由多个第1处理单元实施第1处理的多个基板，依次接合并投入至第2处理单元的接合机构。
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公开(公告)号：CN105467627A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510795430.1
申请日：2013-04-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G02F1/13 , B65H19/18 , B29C65/00 , B29C65/18 , B29C65/50 , B29C65/74 , B29C65/78 , C03B33/023 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/1303 , B29C65/18 , B29C65/5057 , B29C65/7451 , B29C65/7847 , B29C66/1122 , B29C66/43 , B29C66/8221 , B29C66/83221 , B29C66/83241 , B29C66/853 , B29C66/934 , B65G2249/04 , B65H19/1852 , B65H19/1873 , B65H2301/46172 , B65H2301/4621 , B65H2301/46312 , B65H2408/2171 , B65H2801/61 , C03B33/0235 , G02F1/133351 , G02F2001/133354 , Y02P40/57
Abstract: 一种基板处理装置，具有：第1安装部，其安装卷绕有长条状的第1基板的第1辊；第2安装部，其安装卷绕有长条状的第2基板的第2辊；处理机构，其将所述第1基板和所述第2基板的某一个作为处理基板，一边沿所述长边方向输送一边实施规定处理；缓冲机构，其配置在所述处理机构与所述第1安装部之间，将从所述第1辊供给的所述第1基板在规定的最长储存范围内暂时储存后，向所述处理机构送出；和基板连接更换机构，其在所述缓冲机构与所述第1安装部之间切断所述第1基板，并且将从所述第2辊供给的所述第2基板的前端部接合在所述切断的所述第1基板的终端部，并向所述缓冲机构送出。
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公开(公告)号：CN102782580A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180010819.0
申请日：2011-02-15
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/075 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027 , H01L21/288 , H01L21/3205
CPC classification number: B05D5/00 , G03F7/0755 , G03F7/095 , H05K3/12 , H05K3/389 , H05K2203/1173
Abstract: 本发明的目的在于提供一种图案形成方法，其能够促进硅烷偶联剂的分解反应，缩短作业时间。本发明包括：在基板（1）上配置由通式（1）表示的硅烷偶联剂（2），针对硅烷偶联剂（2）使光催化剂（3）存在的工序，和对硅烷偶联剂（2）和光催化剂（3）照射包含硅烷偶联剂（2）和光催化剂（3）的吸收波长的光的光L的工序。（下述式中，R1表示因光照射而发生脱离的光反应性保护基团，R2表示由于R1的脱离而产生具有与R1不同的亲疏液性的官能团的有机基团，X1表示烷氧基或卤素原子，X2、X3表示选自氢原子、烷基、烯基、烷氧基、卤素原子中的取代基。X1、X2、X3可以相同也可以不同。）R1-R2-SiX1X2X3 …(1)
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公开(公告)号：CN115668066A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180036026.X
申请日：2021-05-18
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 图案形成装置具备在基板上形成图案的图案形成机构和对形成在基板上的标记进行检测的标记检测机构。标记检测机构具有：物镜光学系统，其向设定在基板上的检测区域内投射照明光，并且照明光的反射光入射到该物镜光学系统；像检测系统，其对由反射光生成的检测区域内的像进行检测；以及光分割器，其配置在物镜光学系统和像检测系统之间的光路中。图案形成装置具备：照明系统，其朝向光分割器投射照明光，在物镜光学系统的光瞳面上形成照明光的光源像；以及调整机构，其使形成在物镜光学系统的光瞳面内的光源像的位置发生变化。
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