基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法

    公开(公告)号:CN107209461A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201680006570.9

    申请日:2016-02-26

    Abstract: 一种基板处理装置,具备:旋转圆筒DR,以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置11,具有多个描绘模块UW1~UW5,将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上,以通过多个描绘模块UW1~UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式,将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔;调整机构24,调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜;以及旋转位置检测机构,检测出基板P的搬送速度;根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度,通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。

    图案描绘装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110794651B

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN201911069205.4

    申请日:2016-02-26

    Abstract: 一种基板处理装置,具备:旋转圆筒DR,以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置11,具有多个描绘模块UW1~UW5,将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上,以通过多个描绘模块UW1~UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式,将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔;调整机构24,调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜;以及旋转位置检测机构,检测出基板P的搬送速度;根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度,通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。

    基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法

    公开(公告)号:CN107209461B

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201680006570.9

    申请日:2016-02-26

    Abstract: 一种基板处理装置,具备:旋转圆筒DR,以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置11,具有多个描绘模块UW1~UW5,将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上,以通过多个描绘模块UW1~UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式,将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔;调整机构24,调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜;以及旋转位置检测机构,检测出基板P的搬送速度;根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度,通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。

Patent Agency Ranking