公开(公告)号：CN118068658A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202410317332.6

申请日：2020-02-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 小宫山弘树 ,  八田澄夫 ,  长野智和 ,  寺西瀬名 ,  浅海博圭 ,  高桥大辅 ,  大川智之

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/673

Abstract: 本发明提供一种掩模配接器、其安装工具、曝光装置以及元件制造方法，可提高曝光装置的曝光精度。本发明的掩模配接器的一形态是在对支撑于平台的掩模进行照明而将形成于所述掩模的图案曝光于基板上的曝光装置中使用且安装于所述掩模的掩模配接器，其包括：本体部，包括在形成有所述图案的区域外支撑所述掩模的支撑部、及支撑于所述平台的被支撑部；以及第一被检测部，在所述本体部上，能够利用所述曝光装置的检测部来检测，并且所述第一被检测部包含与所述掩模配接器相关的信息。

公开(公告)号：CN108919607B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201810608818.X

申请日：2014-06-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  小宫山弘树 ,  加藤正纪 ,  渡边智行 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  林田洋祐 ,  木内彻

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

公开(公告)号：CN113330370B

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN202080010606.7

申请日：2020-02-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 小宫山弘树 ,  八田澄夫 ,  长野智和 ,  寺西瀬名 ,  浅海博圭 ,  高桥大辅 ,  大川智之

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/673

Abstract: 本发明提供一种掩模配接器、其安装工具、曝光装置以及元件制造方法，可提高曝光装置的曝光精度。本发明的掩模配接器的一形态是在对支撑于平台的掩模进行照明而将形成于所述掩模的图案曝光于基板上的曝光装置中使用且安装于所述掩模的掩模配接器，其包括：本体部，包括在形成有所述图案的区域外支撑所述掩模的支撑部、及支撑于所述平台的被支撑部；以及第一被检测部，在所述本体部上，能够利用所述曝光装置的检测部来检测，并且所述第一被检测部包含与所述掩模配接器相关的信息。

公开(公告)号：CN110596888B

公开(公告)日：2022-04-01

申请号：CN201910841697.8

申请日：2016-03-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  加藤正纪 ,  小宫山弘树

IPC: G02B26/12 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系统(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系统(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。

公开(公告)号：CN110596887B

公开(公告)日：2022-04-01

申请号：CN201910841678.5

申请日：2016-03-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  加藤正纪 ,  小宫山弘树

IPC: G02B26/12 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及图案描绘装置及图案描绘方法，其中光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。

公开(公告)号：CN110596886B

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN201910836809.0

申请日：2016-03-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  加藤正纪 ,  小宫山弘树

IPC: G02B26/12 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。

公开(公告)号：CN110794651B

公开(公告)日：2021-07-09

申请号：CN201911069205.4

申请日：2016-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  奈良圭 ,  加藤正纪 ,  渡辺智行 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  林田洋祐 ,  小宫山弘树

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。

公开(公告)号：CN108919607A

公开(公告)日：2018-11-30

申请号：CN201810608818.X

申请日：2014-06-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  小宫山弘树 ,  加藤正纪 ,  渡边智行 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  林田洋祐 ,  木内彻

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。