公开(公告)号：CN100549835C

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN200680001103.3

申请日：2006-01-24

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  清水贤二 ,  户口学 ,  渡边智行

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。

公开(公告)号：CN118689033A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410928426.7

申请日：2018-03-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  户口学

IPC: G03F1/70 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种掩模。图案计算装置(2)计算形成于掩模(131)上的掩模图案(1311d)，所述掩模(131)用于利用曝光用光(EL)在基板(151)上形成将单位元件图案部(1511u)排列多个而成的元件图案。图案计算装置计算用以形成一个单位元件图案部的单位掩模图案部(1311u)，且通过将所计算出的单位掩模图案部排列多个而计算掩模图案，在计算单位掩模图案部时，假定相当于单位掩模图案部的至少一部分的特定掩模图案部(1311n)邻接于单位掩模图案部，在此基础上计算单位掩模图案部。

公开(公告)号：CN105954976B

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201610282687.1

申请日：2010-08-17

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 青木保夫 ,  滨田智秀 ,  白数广 ,  户口学

IPC: G03F7/20 ,  B65G49/06

Abstract: 于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。

公开(公告)号：CN105954982A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201610282686.7

申请日：2010-08-17

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 青木保夫 ,  滨田智秀 ,  白数广 ,  户口学

IPC: G03F7/22 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  B65G49/065 ,  B65G2249/04 ,  G03F7/70791 ,  G03F7/70816 ,  H01L21/68 ,  H01L21/6838 ,  Y10T29/49998 ,  G03F7/22 ,  G03F7/70725

Abstract: 于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。

公开(公告)号：CN102741993B

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：CN201080057008.1

申请日：2010-12-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  户口学

IPC: H01L21/673 ,  B65G49/06 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: B65G49/061 ,  B65G49/067 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68742

Abstract: 基板支承构件，具备：载置部(20)，载置基板(P)；以及多个支承部(20b)，是设于载置部(20)，支承载置于载置部(20)的基板(P)的一部分；多个支承部(20b)之中第1部分的支承部(20b)与第2部分的支承部(20b)，与载置有基板(P)的状态下的载置部(20)的弯曲量对应，相对于载置部(20)的高度彼此不同。

公开(公告)号：CN101052922A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200680001103.3

申请日：2006-01-24

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  清水贤二 ,  户口学 ,  渡边智行

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。