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公开(公告)号：CN104583874B
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201380043800.5
申请日：2013-03-13
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F9/00 , G03F7/24 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 设有：基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。
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公开(公告)号：CN107255908A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710545966.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN105836510A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201610169564.7
申请日：2012-02-20
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65H23/04 , B65H23/182 , B65H23/195
CPC classification number: B65H18/103 , B65H2301/51 , B65H2402/32 , B65H2701/173 , B65H23/04 , B65H23/1825 , B65H23/1955 , B65H2701/1752
Abstract: 具有形成为带状、具有可挠性的基板(S)的搬送装置(1)，该搬送装置具有：供应滚筒(5b)，送出基板(S)；回收滚筒(6b)，卷取基板(S)；以及驱动部(8)，将供应滚筒(5b)与回收滚筒(6b)驱动于相对从基板(S)的运送方向交叉的方向(X，Z)。供应滚筒(5b)被导引于第一轨(3)，回收滚筒(6b)被导引于第二轨(4)。轨驱动机构(7)变更两滚筒(5b，6b)间的间隔。配置于轨(3，4)间的处理部(PA)，对树脂或不锈钢制的基板(S)进行成膜、曝光、洗净等处理。处理部(PA)，沿轨(3，4)配置有多个。通过以多个处理部(PA)依序处理沿两滚筒(5b，6b)与轨(3，4)被运送的基板(S)，于基板(S)上形成有机EL元件。
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公开(公告)号：CN105339846A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480034715.7
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN102666323B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201080048800.0
申请日：2010-11-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: H01L21/67721 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/6776 , H01L27/3244 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 基板处理装置具备：处理部，其对基板进行规定的处理；和基板保持部，其相对处理部移动，并且在形成基板的被处理面的同时对基板进行保持。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102362227A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201080011781.4
申请日：2010-03-05
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70358 , G03F7/70425
Abstract: 本发明的一个方面的曝光设备被提供有：移动机构(SC)，其沿着第一方向(X方向)在第一航向上(-X方向)上移动具有光敏性的带形衬底(SH)的第一部分并沿着第一方向在第二航向(+X方向)上移动衬底的第二部分；台机构(MS)，保持掩模(M)并与衬底的移动同步地沿着第二方向(Y方向)在第三航向(+Y方向)上移动掩模；以及投影光学系统(PL)。投影光学系统在第一部分上形成图案的第一投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第一部分的第一航向光学对应，并在第二部分上形成图案的第二投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第二部分的第二航向光学对应。
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公开(公告)号：CN107908083B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201711078129.4
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光方法，将形成于以规定曲率半径弯曲成圆筒状的光罩的一面的图案投影至被支承为圆筒状或者平面状的柔性基板的表面，使光罩沿着弯曲的一面以规定速度移动的同时使基板沿着被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面以规定速度移动，将图案的投影像扫描曝光至基板上，在将以最佳聚焦状态形成有由投影光学系统投影的图案的投影像的投影像面的曲率半径设为Rm，将被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面的曲率半径设为Rp，将通过光罩的移动而沿着投影像面移动的图案的投影像的移动速度设为Vm，将沿着基板的表面的规定的速度设为Vp时，在Rm＜Rp的情况下设定为Vm＞Vp，在Rm＞Rp的情况下设定为Vm＜Vp。
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公开(公告)号：CN106933066B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201611264164.0
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN106773558A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710064287.8
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 本发明的扫描曝光装置具有：旋转筒，其在由外周面支承基板的长度方向的一部分的状态下绕第2中心轴旋转而将基板沿长度方向输送；照明机构，其分别向着第1照明区域和第2照明区域照射照明光；投影光学系统，其在支承于旋转筒的基板上，向着第1投影区域，来投影第1照明区域内所显现的光罩图案的像，并且向着第2投影区域，来投影第2照明区域内所显现的光罩图案的像；第1刻度部；第2刻度部；光罩侧读取机构，其在从第1中心轴观察而分别位于与第1照明区域和第2照明区域相同的方位上的第1刻度部上的两个位置上分别读取刻度；和基板侧读取机构，其在从第2中心轴观察而分别位于与第1投影区域和第2投影区域相同的方位上的第2刻度部上的两个位置上分别读取刻度。
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