光学记录介质及其生产方法、溅射靶、光学记录介质的使用方法和光学记录装置

    公开(公告)号:CN1902058A

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200480039879.5

    申请日:2004-11-08

    Abstract: 本发明的目的是提供光学记录介质等,其适应于较高密度和DVD的8倍或更大的较高速率记录(约28m/秒或更高),并且显示出优秀的重复和保存性能。为此,提供光学记录介质,其包括基底和记录层,其中信息的记录、重现、擦除和重写的至少一种是通过记录层上标记处的可逆相变而进行的,标记处的可逆相变是通过激光照射在晶态和非晶态之间产生的,在激光照射的行进方向上各个标记的长度为0.4μm或更小,并且该记录层具有由式:InαSbβ表示的组成,其中α和β是各个元素的原子百分数;0.73≤β/(α+β)≤0.90,α+β=100,或具有由式:MγInαSbβ表示的组成,其中M代表除In和Sb之外的元素或含有两种或多种除In和Sb之外的元素的元素组合;α和β是各个元素的原子百分数,γ是各个元素的原子百分数或各个元素的原子百分数总和;0.73≤β/(α+β)≤0.90,0<γ<α,α+β+γ=100。

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