公开(公告)号：CN1573564A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410047698.9

申请日：2004-06-09

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·洛夫 ,  H·布特勒 ,  S·N·L·当德斯 ,  A·科勒斯辰科 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·J·M·梅杰 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  R·A·S·里特塞马 ,  F·范沙克 ,  T·F·森格斯 ,  K·西蒙 ,  J·T·德斯米特 ,  A·斯特拉艾杰 ,  B·斯特里科克 ,  E·T·M·比拉尔特 ,  C·A·胡根达姆 ,  H·范桑坦 ,  M·A·范德科霍夫 ,  M·克鲁恩 ,  A·J·登博夫 ,  J·J·奥坦斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70883

Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置，在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。