单电子晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN104037230B

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201410080636.1

    申请日:2014-03-06

    Abstract: 本发明涉及一种单电子晶体管及其制造方法。该单电子晶体管包括:沟道区域,其包括形成于基板上的连接体及由结合至该连接体的金属离子所生长的金属纳米颗粒;配置于该沟道区域一端的源极区域;配置于该沟道区域另一端而与该源极区域对立的漏极区域;和耦合至该沟道区域且用以控制沟道区域中的电荷迁移的栅极。

    架构纳米结构的方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104724667A

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:CN201410370503.8

    申请日:2014-07-30

    Inventor: 金俊亨

    CPC classification number: H01L21/28273 B82Y40/00

    Abstract: 本发明提供一种纳米结构、其制造方法、及其应用装置。包括:形成一基板;形成多个连接分子(linkers)于基板之上;形成多个金属离子于连接分子之上;以及形成一或多个金属纳米粒子于连接分子之上。

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