-
公开(公告)号：CN101689497A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880012597.4
申请日：2008-04-10
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/32825 , H01J37/32935 , H05H1/0025
Abstract: 本发明的等离子监控装置，包括：等离子供给装置，具有电源供给部，用于供给电源；供给线，用于供给反应气体；放射喷嘴，向处理对象物放射所述等离子供给装置内部所产生的等离子；和摄像部，其以图像映像方式获得从等离子供给装置放射的等离子的放射状态；以及控制部，用于把数值化所述摄像部的图像映像的像素信息而获得的测定值，与正常放射状态下的基准加以比较，以检测等离子的放射状态。本发明利用摄像部以图像映像方式获得等离子的放射状态，并利用在控制部分析获得的所述图像映像的测定值，实时观察等离子的状态，并调节向等离子供给装置供给的反应气体供给量和等离子的放电条件，以控制多个所配置的等离子供给装置能够均匀放射等离子。
-
公开(公告)号：CN101657893A
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200880009848.3
申请日：2008-04-17
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/94 , G01N21/95607
Abstract: 本发明公开了一种半导体晶圆的异物检测和修复系统及其方法。该系统包括：移送臂，用于移送并对准晶圆；检测装置，其安置晶圆，用于获取晶圆表面的图像；分析模块，用于分析出现在由所述检测装置获取的图像上的异物；以及修复装置，用于根据所分析的异物信息修复异物。该方法包括以下步骤：移送并对准晶圆；向经过对准的晶圆照射光线以获取晶圆的表面图像；读取表面图像以生成异物信息(位置、高度、直径)；将读取的异物信息与基准数据进行比较；将根据比较结果被判定为修复对象的异物的信息传送到修复装置；根据接收到的异物信息修复该异物。通过本发明的简单的结构检测及修复晶圆上的异物，能够节约费用，防止制造装备损耗，并提高半导体芯片的产率。
-
公开(公告)号：CN101641178A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200780046687.0
申请日：2007-06-15
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: B23K26/00
CPC classification number: B23K26/067
Abstract: 本发明涉及一种通过使用激光束来加工工件表面的激光加工装置。该激光加工装置包括：用于发射激光束的激光束发生单元；以及具有多个微镜的微镜器件，这些微镜被配置成以将所述工件的表面加工成所需形状的模式，将从所述激光束发生单元发射的激光束中的至少一部分激光束反射和传递到工件的表面。其中，所述微镜器件的微镜能够有选择地转换由所述激光束发生单元发射的激光束的光路。根据本发明，可用激光束将工件表面加工成二维或三维的所需形状。
-
公开(公告)号：CN105789090A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201610012259.7
申请日：2016-01-08
Applicant: 株式会社SNU精密
CPC classification number: H01L21/67167 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L51/56
Abstract: 本发明涉及有机发光元件制造用集群型沉积装置，其特征在于，包括：加载腔室，用于供应有机发光元件用基板；多个集群，分别具备：具有基板移送用移送单元的搬送腔室；和配设在所述搬送腔室的周围的工艺腔室，所述工艺腔室从所述加载腔室接收基板并进行沉积，所述多个集群连接于搬送及旋转基板的缓冲腔室，所述工艺腔室内部的两侧具备分别支撑基板的基板支撑架，所述工艺腔室内部的底面上具备为了在所述基板上沉积有机物而往返移动于两侧基板支撑架的下部区域的沉积源，所述移送单元包括：基板支架；前后移动用多关节连杆，其前端部连接于所述基板支架；及转动连杆，其一端部连接于所述搬运腔室的中央，另一端部连接于所述多关节连杆的后端部，使得多关节连杆的前端部和后端部配设于从基板支撑架的正面中央与沉积源的移动方向正交的基板移送线上。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101802543B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200880106944.X
申请日：2008-04-02
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01B11/0625
Abstract: 本发明涉及一种厚度测定装置，包括：第一分光器，用于反射或透射从光源照射的光或者由被测对象反射的光；第一透镜部，用于向被测对象会聚光，并生成与所述由被测对象反射到的光存在光路径差的基准光；第二透镜部，用于向被测对象会聚光；干涉光检测器，其与所述第一透镜部相对应形成光路径，并测出通过由所述被测对象反射的光和所述基准光所产生的干涉信号；分光检测器，其与所述第二透镜部相对应形成与通过所述干涉光检测器形成的光路径不同的光路径，并分光由所述被测对象反射的光，以检测出被分光的光的强度和波长；及光路径变换部，有选择地向干涉光检测器或者分光检测器中的其中一侧传送光。第一透镜部和第二透镜部可在光路径上交换位置。
-
公开(公告)号：CN101689497B
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN200880012597.4
申请日：2008-04-10
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/32825 , H01J37/32935 , H05H1/0025
Abstract: 本发明的等离子监控装置，包括：等离子供给装置，具有电源供给部，用于供给电源；供给线，用于供给反应气体；放射喷嘴，向处理对象物放射所述等离子供给装置内部所产生的等离子；和摄像部，其以图像映像方式获得从等离子供给装置放射的等离子的放射状态；以及控制部，用于把数值化所述摄像部的图像映像的像素信息而获得的测定值，与正常放射状态下的基准加以比较，以检测等离子的放射状态。本发明利用摄像部以图像映像方式获得等离子的放射状态，并利用在控制部分析获得的所述图像映像的测定值，实时观察等离子的状态，并调节向等离子供给装置供给的反应气体供给量和等离子的放电条件，以控制多个所配置的等离子供给装置能够均匀放射等离子。
-
公开(公告)号：CN101617266B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200880005399.5
申请日：2008-03-19
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G02F1/1339
CPC classification number: G02F1/1339 , B05C13/00
Abstract: 本发明公开了一种基板支撑装置及利用该装置的LCD单元密封图案检验装置。该基板支撑装置包括：可移动台架，其设置有用于将基板附着于上表面的吸嘴，并且适于以预定角度旋转；固定台架，其与可移动台架间隔开，并且设置有用于向上喷射空气的浮嘴和用于向下抽吸空气的吸嘴；和驱动装置，其结合于可移动台架，用于旋转可移动台架。LCD单元密封图案检验装置包括基板支撑装置及门架单元，其中门架单元包括支撑台，其位于基板支撑装置两侧；桥体，其位于基板支撑装置的上方，用于连接支撑台；和修正装置，其结合于桥体，用于检验和补修基板密封图案。基板支撑装置及利用该装置的LCD单元密封图案检验装置通过利用用于安装基板的分离的台架，能够容易地对准基板。
-
公开(公告)号：CN102027315A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200880121148.3
申请日：2008-04-01
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01B11/0675
Abstract: 本发明涉及一种厚度测定方法，本发明所涉及的厚度测定方法利用干涉计测定层叠在基底层上的对象层的厚度，上述厚度测定方法包括：通过由与上述对象层实质上相同的材质构成并具有相互不同厚度的诸多样品层，获得对于上述样品层厚度的相位差的关系式的步骤；在空气层和基底层的分界面上，求出对于入射到上述基底层的光轴方向的第一干涉信号的步骤；在上述对象层和上述基底层的分界面上，求出对于上述光轴方向的第二干涉信号的步骤；对于上述光轴方向，在实质上相同的高度上，求出上述第一干涉信号的相位和上述第二干涉信号的相位之间的相位差的步骤；以及将上述相位差代入上述关系式来确定上述对象层厚度。
-
公开(公告)号：CN101617266A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200880005399.5
申请日：2008-03-19
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G02F1/1339
CPC classification number: G02F1/1339 , B05C13/00
Abstract: 本发明公开了一种基板支撑装置及利用该装置的LCD单元密封图案检验装置。该基板支撑装置包括：可移动台架，其设置有用于将基板附着于上表面的吸嘴，并且适于以预定角度旋转；固定台架，其与可移动台架间隔开，并且设置有用于向上喷射空气的浮嘴和用于向下抽吸空气的吸嘴；和驱动装置，其结合于可移动台架，用于旋转可移动台架。LCD单元密封图案检验装置包括基板支撑装置及门架单元，其中门架单元包括支撑台，其位于基板支撑装置两侧；桥体，其位于基板支撑装置的上方，用于连接支撑台；和修正装置，其结合于桥体，用于检验和补修基板密封图案。基板支撑装置及利用该装置的LCD单元密封图案检验装置通过利用用于安装基板的分离的台架，能够容易地对准基板。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
29
records
(took 0.023 seconds)
