一种光学玻璃的材料均匀性检测方法及装置

    公开(公告)号:CN106248350A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201510962393.9

    申请日:2015-12-21

    CPC classification number: G01M11/0271

    Abstract: 本发明提出一种光学玻璃的材料均匀性检测方法,将被检镜划分为至少三个子孔径区域,分别对每个子孔径区域计算材料均匀性,再利用子孔径拼接算法计算得到被检镜的材料均匀性,另外,被检镜的倾斜姿态由监视干涉仪和侧面的平面反射镜监视和校正,因此不同子孔径的均匀性测试结果的倾斜状态完全一致,而由均匀性中的离焦和像散在子孔径干涉检测结果中引入的“倾斜”量可以被真实地保留,从而避免了被检镜全口径均匀性中出现不连续的拼接痕迹。本发明提出的方法在利用小口径移相干涉仪实现大口径光学玻璃材料均匀性的检测过程中,不仅可以实现材料均匀性的全部波像差绝对检测,而且可以消除不连续的拼接痕迹造成的检测误差。

    一种干涉测量中成像畸变的标定系统及标定方法

    公开(公告)号:CN106247972A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201510962490.8

    申请日:2015-12-21

    CPC classification number: G01B11/2441

    Abstract: 本发明涉及光学检测技术领域,特别涉及一种干涉测量中成像畸变的标定系统,包括干涉测量中成像畸变的标定系统,包括干涉测量装置、调整机构、球冠网格板和数据处理装置,球冠网格板,用于对所述被检光学元件进行畸变标定;调整机构调整光学被检光学元件处于干涉测量装置共焦干涉检测位置,被检光学元件中心、球冠网格板的几何中心与干涉测量装置的光轴重合,球冠网格板的坐标轴与干涉测量装置探测器的坐标轴重合;干涉测量装置进行干涉检测;数据处理装置计算畸变函数及被检光学元件的面形误差。本发明还包括干涉测量中成像畸变的标定方法。通过设置网格板,进行成像畸变标定,达到了在不破坏被检元件的情况下,实现成像畸变标定的有益效果。

    一种干涉测量系统成像畸变标定装置

    公开(公告)号:CN105627914A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201510962448.6

    申请日:2015-12-21

    Abstract: 一种干涉测量系统成像畸变标定装置,属于光学元件面形干涉测量技术领域,涉及一种干涉测量系统成像畸变标定装置。本发明能够在未知干涉测量系统光学设计参数的前提下,实现高精度被测试光学元件的非接触无损伤原位检测,得出干涉测量系统的成像畸变,且结构紧凑,减轻了重量和节省了空间,减少了误差积累,同时降低了操作的复杂性。所述标定装置为球冠形,在所述标定装置上沿横向和纵向分布有若干个通孔,每个通孔的中心和每个与其相邻的通孔的中心间距相同,每个通孔的中心线均通过所述标定装置所在球面的球心,且其中的一个通孔位于所述标定装置的中心,即为中心通孔。

    一种用于光学均匀性测试的柔性支撑装置

    公开(公告)号:CN105572043A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201510962286.6

    申请日:2015-12-21

    Abstract: 一种用于光学均匀性测试的柔性支撑装置属于光学材料光学均匀性测试技术领域,目的在于解决现有技术存在的通用夹具引入较大应力的问题。本发明的一种用于光学均匀性测试的柔性支撑装置包括片体底板、柔性片体、片体顶板和限位块;多个柔性片体一端均匀设置在圆环形的片体底板和圆环形的片体顶板之间,另一端位于片体底板和片体顶板的中空区域,多个限位块一端的下表面均匀固定在片体顶板上端面上,限位块的另一端的侧壁和被测试样品外圆柱面接触。使用本发明时,被测试样品的受力状态与未来实际应用中的多点粘胶支撑方式受力状态一致,减小了由于光学材料受力状态不一致导致的光学均匀性测试误差,提高了光学均匀性测试的准确性、测试数据有效性。

    一种非接触光学元件中心厚度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN105571499A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201510962259.9

    申请日:2015-12-21

    CPC classification number: G01B11/06

    Abstract: 一种非接触光学元件中心厚度测量装置及测量方法,涉及光学测量领域,解决了现有测量方法存在的误差大、测量过程复杂的问题。该方法为:在被测光学元件上面及下面均放置一块光学平板,将两块光学平板与被测光学元件调平行,利用镜面定位仪测量上光学平板下表面与下光学平板上表面之间的距离d1,然后将需要测量的光学元件放置在上光学平板与下光学平板之间,测量上光学平板下表面与被测光学元件上表面中心的距离d2以及下光学平板上表面与被测光学元件下表面中心的距离d3,被测光学元件的中心厚度d即为d=d1-d2-d3。本发明可在无需知道被测光学元件材料折射率情况下就能对被测光学元件中心厚度进行非接触测量,具有快速、简单、精度高等优点。

    一种离子束面形精修用工件定心定方位角装置

    公开(公告)号:CN105563270A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201510962237.2

    申请日:2015-12-21

    CPC classification number: B24B13/00 B24B13/005

    Abstract: 一种离子束面形精修用工件定心定方位角装置属于离子束加工领域,目的在于解决现有技术存在结构复杂且不能定方位角的问题。本发明的定心旋转底座上端面圆周均布六个键槽A;设置在空心旋转底座上的工件夹持底座,工件夹持底座设置有中心圆孔,上端面圆周均布三个T形槽,圆周均布六个键槽B;设置在工件夹持底座上端面的定方位导杆;与工件夹持底座上的T形槽滑动配合的工件夹持柄,三个工件夹持柄支撑夹持工件;套装在定方位导杆的方形长杆上的定方位指示针;和固定在定心旋转底座的凸沿上的百分表,百分表测针和对应的工件夹持柄表面接触。实现离子束面形精修过程中待加工工件表面坐标系、面形检测系统坐标系和离子束面形精修系统坐标系的统一。

    立式大量程高精度光学平面测试装置

    公开(公告)号:CN102878949B

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201210363897.5

    申请日:2012-09-26

    Abstract: 立式大量程高精度光学平面测试装置属于光学测试仪器领域,该装置包括:支撑底台、水平转台、精密转台、长导轨、第一反射镜、第二反射镜、第一测角装置、第二测角装置、滑板、数据采集分析系统和电控系统;支撑底台上依次放置水平转台和精密转台,精密转台的一侧与长导轨连接,长导轨上安装滑板、第一测角装置和第二测角装置;第一反射镜和第二反射镜固定在滑板上,滑板在长导轨上运动;数据采集分析系统控制第一测角装置和第二测角装置,电控系统控制精密转台和滑板运动。该装置其体积小、重量轻,可在不同姿态下使用,测试精度不受重力影响,结构简单,易于设计加工,可测试口径主要取决于长导轨的有效量程。

    一种气体群折射率的测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN105445225A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201510962290.2

    申请日:2015-12-21

    CPC classification number: G01N21/45

    Abstract: 一种气体群折射率的测量装置及测量方法,属于光学测量领域。该方法为:在波纹管内充入需要测量群折射率的气体;利用上平面镜调整台和下平面镜调整台将上平面镜下表面和下平面镜上表面调节平行;将双频激光干涉仪的示数置零,将镜面定位仪软件中空气的群折射率设置为,利用镜面定位仪测量此时上平面镜下表面和下平面镜上表面之间的距离d1;调整上移动台使上平面镜移动,读取此时双频激光干涉仪上的示数,得到上移动台移动的距离Δd,利用镜面定位仪测量此时上平面镜下表面和下平面镜上表面之间的距离d2;气体的群折射率n=(d1-d2)/Δd。本发明的装置结构简单、成本低、测量精度高。本发明的方法具有测量过程简单、检测不确定度高、测量精度高等优点。

    相位复原测试过程中消除系统误差的绝对标定方法

    公开(公告)号:CN103207023B

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201310086106.3

    申请日:2013-03-18

    Inventor: 马冬梅 邵晶

    Abstract: 相位复原测试过程中消除系统误差的绝对标定方法,涉及光学测试过程中系统误差的标定领域,该方法通过对不同状态下的测量值进行差值分析,最终消除系统误差,获得真实的波前信息。该方法包括将光学采集系统放置在精密调整机构上,测量相应的波前信息,并将当前位置设为初始位置,再次调整精密调整机构使光学采集系统至不同的位置状态分别进行测量;将不同位置的测量结果使用泽尼克多项式拟合,分别减去初始位置的波前相位测量结果,建立方程,求解泽尼克系数,获得真实的被测波前信息。本发明通过采用绝对标定的方式,完全消除光学放大系统引入的系统误差,实现高精度检测。

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