用于制造玻璃纤维的漏板及玻璃纤维的制造方法

    公开(公告)号:CN112585098B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN201980054665.1

    申请日:2019-08-15

    Abstract: 本发明的用于制造玻璃纤维的漏板具备底板与多个排列在上述底板上的排出玻璃熔液的喷嘴,其中,上述底板具备水平截面为扁平状的底孔,上述喷嘴具备喷嘴壁与喷嘴孔,所述喷嘴壁沿上述底孔的轮廓从上述底板突出,所述喷嘴孔从上述底孔贯穿至上述喷嘴壁的前端且维持上述底孔的形状,上述喷嘴壁具有没有从上述底板突出的一对缺口,上述一对缺口隔着上述喷嘴孔的长边方向的中心轴相对且相向,上述缺口的宽度为上述喷嘴孔的长边方向的中心轴的长度的10%以上、95%以下。

    导电性无机填料
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110546717A

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:CN201880025647.6

    申请日:2018-02-13

    Abstract: 本发明的课题在于,提供一种容易配混至树脂中且树脂的导电性赋予也良好的导电性填料。本发明的导电性填料包含玻璃纤维的粉粒体,前述玻璃纤维在玻璃纤维的长度方向上具备金属覆盖层,前述玻璃纤维具有纤维长度分布,个数基准的累积分布10%处的纤维长度(L10)为20μm~200μm,个数基准的累积分布97%处的纤维长度(L97)为400μm~1000μm,前述玻璃纤维的平均纤维直径为1~40μm。

    晶片的清洗方法
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105612606B

    公开(公告)日:2018-09-21

    申请号:CN201480054698.3

    申请日:2014-09-08

    Abstract: 本发明的晶片的清洗方法是表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌之中的至少1种元素的晶片的清洗方法,该方法至少具备:前处理工序,在凹凸图案的至少凹部保持清洗液;保护膜形成工序,在上述前处理工序后,在凹凸图案的至少凹部保持保护膜形成用化学溶液;以及干燥工序,通过干燥而从凹凸图案去除液体,上述保护膜形成用化学溶液是包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液,所述拒水性保护膜形成剂用于在至少上述凹部表面形成拒水性保护膜,若上述保护膜形成用化学溶液为碱性则上述清洗液为酸性,若上述保护膜形成用化学溶液为酸性则上述清洗液为碱性。

    晶片的清洗方法
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107068540A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201611162059.6

    申请日:2011-12-20

    Abstract: 本发明提供一种晶片的清洗方法。[课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法,其至少具有以下工序:用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序;用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序;干燥晶片(1)的工序,上述清洗液(8)包含80质量%以上的沸点为55~200℃的溶剂,通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点,从而至少使上述凹部表面拒水化。

    保护膜形成用化学溶液
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107068538A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201611028598.0

    申请日:2010-10-20

    Abstract: 本发明涉及保护膜形成用化学溶液。本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液,其特征在于,其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液,所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜,该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。

    保护膜形成用化学溶液
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102934207B

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201180028305.8

    申请日:2011-06-03

    CPC classification number: H01L21/306 G03F7/40

    Abstract: 公开了一种用于在清洗表面具有微细凹凸图案(2)且该凹凸图案(2)的至少一部分含有硅元素的晶片(1)时在该凹凸图案(2)的至少凹部表面形成拒水性保护膜(10)的化学溶液。该化学溶液包含通式:R1aSi(H)bX4-a-b所示的硅化合物A和酸A,该酸A选自由三氟乙酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟乙酸二甲基硅酯、三氟甲磺酸二甲基硅酯、三氟乙酸丁基二甲基硅酯、三氟甲磺酸丁基二甲基硅酯、三氟乙酸己基二甲基硅酯、三氟甲磺酸己基二甲基硅酯、三氟乙酸辛基二甲基硅酯、三氟甲磺酸辛基二甲基硅酯、三氟乙酸癸基二甲基硅酯和三氟甲磺酸癸基二甲基硅酯组成的组中的至少1种。

Patent Agency Ranking