公开(公告)号：CN103492464A

公开(公告)日：2014-01-01

申请号：CN201280018915.4

申请日：2012-04-17

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 本城启司 ,  井手利久 ,  赤松佳则 ,  江口弘 ,  中辻惇也 ,  松浦诚 ,  小川毅 ,  山中一广

IPC: C08G77/38 ,  C07F7/21 ,  C08G77/20 ,  C08G77/26 ,  C08G77/388

CPC classification number: H01L33/56 ,  C07F7/21 ,  C08G77/045 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08G77/26 ,  H01L33/641 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的硅氧烷化合物用下述通式（1）表示。（式（1）中，X分别独立地用X1或X2表示，X的至少1个为X2，X1和X2中，R1～R5分别独立地为氢原子、碳原子数1～8的烷基、烯基或炔基、苯基或吡啶基，碳原子任选被氧原子取代，结构中任选包含醚键、羰基或酯键。m、n分别独立地为1～10的整数，Y为特定的交联基团。）。与以往的倍半硅氧烷相比，本发明的硅氧烷化合物在低温下具有流动性，能够容易地成型。

公开(公告)号：CN102598221A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080049331.4

申请日：2010-10-20

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 斋藤真规 ,  荒田忍 ,  斋尾崇 ,  公文创一 ,  七井秀寿 ,  赤松佳则

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02068 ,  C11D1/002 ,  C11D1/004 ,  C11D1/04 ,  C11D1/40 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/0212 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306 ,  H01L21/31127

Abstract: 本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜，该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。

公开(公告)号：CN101980795A

公开(公告)日：2011-02-23

申请号：CN200980111034.5

申请日：2009-02-24

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 滨口滋生 ,  扇谷幸宏 ,  赤松佳则 ,  荒田忍

IPC: B05D5/00 ,  B05D1/30 ,  B05D7/24 ,  B32B27/40

CPC classification number: C03C17/002 ,  C03C17/322

Abstract: 本发明第1方案涉及吸水性物品的制造方法，其特征在于，所述吸水性物品具有基材和在该基材上形成的、由具有吸水性的聚氨酯树脂形成的覆膜，该制造方法具有将涂布液涂布在基材上的涂布工序，该涂布工序具有从配置在该基材上方的喷嘴向被水平输送的基材的基材面上供给涂布液的工序，将所述涂布液制成具有固体成分和溶剂的物质，并将涂布液的固体成分浓度调制为5～30质量％、粘度为1～3mPa·s，所述固体成分由多异氰酸酯、具有环氧乙烷的多元醇和疏水性多元醇混合而成。

公开(公告)号：CN101675133A

公开(公告)日：2010-03-17

申请号：CN200880014943.2

申请日：2008-04-28

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 斋藤真规 ,  滨口滋生 ,  公文创一 ,  赤松佳则

IPC: C09D183/04 ,  C03C17/25 ,  C09D1/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/10

CPC classification number: C09D1/00 ,  C03C1/008 ,  C03C17/25 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/113 ,  C09D183/04

Abstract: 本发明涉及一种涂布液，其为用于获得溶胶凝胶膜的涂布液，该涂布液含有固体成分和溶剂，该固体成分具有烷氧基硅烷在酸性水溶液中水解和缩聚而获得的氧化硅低聚物，该溶剂具有沸点为100℃以上且粘度为3.5mPa·s以下的有机溶剂和前述酸性水溶液，其中，前述氧化硅低聚物的聚苯乙烯换算的数均分子量为500～4000，涂布液中的固体成分的含量为8～30重量％，固体成分中的氧化硅低聚物的含量为10重量％以上。通过本发明，即使用手工涂布等无需设备就可涂布的涂布方法，也可获得具有硬度、以透明性为首的外观、透视变形、膜厚等方面优良品质的溶胶凝胶膜。

公开(公告)号：CN101098945A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200580025049.1

申请日：2005-08-01

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 滨口滋生 ,  公文创一 ,  赤松佳则 ,  斋藤真规

IPC: C09K3/18 ,  C09D183/04 ,  C09D5/00 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  C08L83/04 ,  C08K5/5419 ,  C03C17/30 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C17/3405 ,  C03C17/30 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/32 ,  C03C2218/33 ,  C08G77/24 ,  C08K5/5406 ,  C09D5/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/08 ,  C09D183/14 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明是关于用于得到滑水性被膜的处理剂，该处理剂是混合在至少一个末端具有2个或3个可水解的官能基且二甲基硅氧烷单元(Si(CH3)2O)数是30～400的直链状聚二甲基硅氧烷，具有可水解的官能基且氟碳单元(CF2或者CF3)数是6～12的氟烷基硅烷，以及含有有机溶剂、酸和水的溶液而构成的。该处理剂相对处理剂的总量，按重量浓度，混合0.2～3.0重量％上述直链状聚二甲基硅氧烷、0.2～2.0重量％上述氟烷基硅烷、而且0.5～3.5重量％上述直链状聚二甲基硅氧烷和上述氟烷基硅烷的总量。

公开(公告)号：CN1665752A

公开(公告)日：2005-09-07

申请号：CN03815490.0

申请日：2003-07-29

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 赤松佳则 ,  公文创一 ,  畠中要 ,  仓增春喜 ,  荒井宏明 ,  滨口滋生

IPC: C03C17/25 ,  B60J1/00 ,  B60S1/02

CPC classification number: C03C19/00 ,  C03C17/002 ,  C03C17/009 ,  C03C17/25 ,  C03C17/30 ,  C03C2217/211 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/113 ,  C09D183/04 ,  C09D183/08 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667

Abstract: 本发明涉及一种使水滴滑落制品表面方面优异的制品。该制品可通过包括下述步骤的第一方法来制备：(a)混合氧化硅前体溶胶与(i)用通式[1]表示的且基于将由氧化硅前体溶胶生产的氧化硅的总重量，含量为0.1wt％－10wt％的烷氧基封端的二甲基硅氧烷和(ii)用通式[2]表示的氟代烷基硅烷，进而制备涂料溶液；和(b)将该涂料溶液涂到基质上。

公开(公告)号：CN107068540A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201611162059.6

申请日：2011-12-20

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 公文创一 ,  斋尾崇 ,  荒田忍 ,  斋藤真规 ,  七井秀寿 ,  赤松佳则

IPC: H01L21/02 ,  C11D3/16 ,  C11D11/00

Abstract: 本发明提供一种晶片的清洗方法。[课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法，其至少具有以下工序：用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序；用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序；干燥晶片(1)的工序，上述清洗液(8)包含80质量％以上的沸点为55～200℃的溶剂，通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点，从而至少使上述凹部表面拒水化。

公开(公告)号：CN107068538A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201611028598.0

申请日：2010-10-20

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 斋藤真规 ,  荒田忍 ,  斋尾崇 ,  公文创一 ,  七井秀寿 ,  赤松佳则

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及保护膜形成用化学溶液。本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜，该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。

公开(公告)号：CN102934207B

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201180028305.8

申请日：2011-06-03

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 公文创一 ,  斋尾崇 ,  荒田忍 ,  斋藤真规 ,  两川敦 ,  山田周平 ,  七井秀寿 ,  赤松佳则

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/306 ,  G03F7/40

Abstract: 公开了一种用于在清洗表面具有微细凹凸图案（2）且该凹凸图案（2）的至少一部分含有硅元素的晶片（1）时在该凹凸图案（2）的至少凹部表面形成拒水性保护膜（10）的化学溶液。该化学溶液包含通式：R1aSi(H)bX4-a-b所示的硅化合物A和酸A，该酸A选自由三氟乙酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟乙酸二甲基硅酯、三氟甲磺酸二甲基硅酯、三氟乙酸丁基二甲基硅酯、三氟甲磺酸丁基二甲基硅酯、三氟乙酸己基二甲基硅酯、三氟甲磺酸己基二甲基硅酯、三氟乙酸辛基二甲基硅酯、三氟甲磺酸辛基二甲基硅酯、三氟乙酸癸基二甲基硅酯和三氟甲磺酸癸基二甲基硅酯组成的组中的至少1种。

公开(公告)号：CN101489947B

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN200780027552.X

申请日：2007-08-22

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 公文创一 ,  滨口滋生 ,  斋藤真规 ,  赤松佳则

IPC: C03C17/25 ,  B32B17/06 ,  B60J1/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/00

CPC classification number: C09D183/06 ,  C03C1/008 ,  C03C17/008 ,  C03C17/009 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/231 ,  C03C2217/445 ,  C03C2217/475 ,  C03C2217/476 ,  C03C2217/485 ,  C03C2217/948 ,  C03C2218/113 ,  C08L83/04 ,  C09D1/00 ,  C09D5/004 ,  C09D5/24 ,  C09D183/04 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/259 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31612

Abstract: 开发热射线屏蔽玻璃，该热射线屏蔽玻璃显示可用于具有升降功能的车辆玻璃的膜强度，不会产生由于升降运动造成的摩擦而引起的异常噪音。车辆用热射线屏蔽玻璃为包含车辆玻璃和叠置在其至少一个主表面的包含导电性氧化物超细颗粒和二氧化硅粘结剂的热射线屏蔽膜，其中所述二氧化硅粘结剂由通过四烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷的水解和缩聚产生的固成分组成，且其中由所述四烷氧基硅烷产生的固成分和由所述三烷氧基硅烷产生的固成分的重量比在55∶45至85∶15的范围内，且其中导电性氧化物超细颗粒与二氧化硅粘结剂的重量比在35∶65至70∶30的范围内。