公开(公告)号：CN103890100B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201280052834.6

申请日：2012-10-16

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 山中一广 ,  江口弘 ,  中辻惇也 ,  须田健资 ,  秋山胜宏

IPC: C08L83/07 ,  C07F7/21 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08G77/38 ,  C08G77/50 ,  C08L83/05

CPC classification number: C08G77/04 ,  C08G77/045 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08G77/80 ,  C08L63/00 ,  C08L83/04 ,  H01L23/296 ,  H01L2924/0002 ,  C08L83/00 ,  H01L2924/00

Abstract: 得到即便在130℃以上的高温下长时间暴露也不劣化、具有更好的耐热性的耐热性密封材料用的材料。一种组合物，包含通式(1)所示的硅氧烷化合物(A)以及金属化合物，式中，X用通式X1或X2表示，X1为1～8，X2为0～7；R1～R4为氢原子，碳原子数1～8的烷基、烯基、炔基，或碳原子数6～8的芳基，氢原子可以被氟原子取代；R5为碳原子数1～18的烷基、烯基、炔基或芳基，氢原子可以被氟原子取代，碳原子可以被氧原子或氮原子置换；R6为氢原子或乙烯基；m、n为1～4，3≤m+n。

公开(公告)号：CN104837809A

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201380062274.7

申请日：2013-11-26

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 鱼山大树 ,  山中一广

IPC: C07C215/68 ,  C07C213/00 ,  C08G69/26 ,  C08G73/06 ,  C08G73/10 ,  C09K11/06

CPC classification number: C08G73/06 ,  C07C215/68 ,  C07C215/70 ,  C07C217/90 ,  C07C225/22 ,  C07C317/36 ,  C07C323/37 ,  C07C2601/14 ,  C07D209/48 ,  C07D487/04 ,  C08G69/32 ,  C08G69/42 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1067 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1466

Abstract: 本发明公开由以下通式所表示的二胺、将其作为原料的聚酰亚胺和聚酰胺、其环化物、及其制造方法。式中，A为单键、醚键、硫醚键、CO、CH2、SO、SO2、C(CH3)2、NHCO或C(CF3)2，或者为具有脂环、杂环或芳环的2价基团，R1为碳数1～4的烷基或卤素基，a和b各自独立地表示0～2的整数，且1≤a+b≤4。前述聚酰亚胺和聚酰胺为以形成光器件时可利用湿法成膜的程度地易溶于有机溶剂、形成膜时具有耐热性的同时具有强度、且兼有优异的荧光特性的荧光性聚酰亚胺和荧光性聚酰胺。

公开(公告)号：CN103561852A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201280026569.4

申请日：2012-05-30

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 山中一广 ,  小川毅 ,  须田健资 ,  鱼山大树

IPC: B01D71/64 ,  B01D71/82 ,  C08G73/10

CPC classification number: B01D71/64 ,  B01D53/228 ,  B01D71/82 ,  B01D2323/30 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1071 ,  C08L79/08 ,  C08L63/00

Abstract: 用于聚合成含有六氟异亚丙基的聚酰亚胺的二胺和羧酸二酐在形成聚酰亚胺膜时化学结构方面存在限制，因此作为气体分离膜时存在难以设计考虑了强度和分离性能的化学结构的问题。本发明是要获得容易作为易溶于有机溶剂、成型性优异的气体分离膜使用、气体分离性能优异的气体分离膜。本发明的气体分离膜含有聚酰亚胺，该聚酰亚胺含有下述通式（1）所示的重复单元（式（1）中，R1是2价有机基且R2是4价有机基，R1包含2-羟基-1,1,1,3,3,3-六氟异丙基（-C(CF3)2OH）。）。

公开(公告)号：CN102317350B

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201080008226.6

申请日：2010-02-18

Applicant: 国际商业机器公司 ,  中央硝子株式会社

Inventor： R·D·艾伦 ,  罗荣慧 ,  R·索里亚库马兰 ,  藤原昌生 ,  山中一广

IPC: C08G69/28 ,  B01D69/12 ,  B01D71/56 ,  B01D67/00

CPC classification number: C08G69/28 ,  B01D61/025 ,  B01D61/027 ,  B01D67/0006 ,  B01D69/02 ,  B01D69/125 ,  B01D71/56 ,  B01D2323/40 ,  B01D2325/30 ,  C08G69/26 ,  C08G69/42 ,  Y02A20/131

Abstract: 聚合物膜包括载体上的活性层。活性层包括具有骨架的聚合物，和所述骨架附着至少一种氟代醇部分。

公开(公告)号：CN103130826A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201210480299.6

申请日：2012-11-22

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 山中一广 ,  小川毅

IPC: C07F7/18 ,  C08G77/04 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0755 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种硅化合物、缩合物和使用了其的抗蚀剂组合物、以及使用其的图案形成方法。本发明提供一种硅化合物，其使用烷氧基硅烷等水解性的硅化合物作为原料，能够简便地合成，同一分子内具有烷氧基等水解性基团和通过高能量射线的照射而解离并产生酸的光产酸基团。一种硅化合物，其由通式(1)表示，式(1)中，R1分别独立地为氢原子、碳原子数1~20的直链状的烃基、碳原子数3~20的支链或环状的烃基，该烃基的碳原子也可以被氧原子置换，还可以包含氟原子。A为酸分解性基团，B为水解基团，n为0~2的整数，m为1~3的整数，n+m为1~3的整数。R1nAmSiB4-(n+m) (1)。

公开(公告)号：CN102325824B

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201080008736.3

申请日：2010-02-18

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 矶野芳美 ,  成塚智 ,  七井秀寿 ,  山中一广

IPC: C08G69/42 ,  C07C57/58 ,  C07C57/76 ,  C07C59/64 ,  C07C69/65 ,  C07C69/734 ,  C08G63/682 ,  C08G73/06

CPC classification number: C07C59/64 ,  C07C69/65 ,  C07C69/734 ,  C08G63/6826 ,  C08G69/42 ,  C08G73/06 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/22

Abstract: 本发明提供一种高分子化合物，其通过使通式(M-1)所示的含氟二羧酸衍生物或该含氟二羧酸的酸酐与具有2～4个能够对它们的羰基部位的反应性进行应答的反应性基团的多官能化合物缩聚而得到。AOCF2C-Q-CF2COA′(M-1)[式中，Q为具有可具有取代基的芳香环的二价有机基团，A、A’表示有机基团。]该高分子具有如下特征：作为半导体的保护膜具有充分低的介电常数，并且，可在250℃以下这样比较低的温度下形成薄膜。

公开(公告)号：CN116194435A

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202180057839.7

申请日：2021-08-02

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 江口弘 ,  萩原祐树 ,  山田真辉 ,  山中一广 ,  村上洋介 ,  细井健史

IPC: C07C213/00

Abstract: 下述通式[1A]所示的含氟二胺或其盐、包含源自该二胺或其盐的结构单元的聚酰胺、聚酰胺环化体等。通式[1A]中，在存在多个R1的情况下，R1各自独立地为选自由烷基、烷氧基、卤素原子、卤代烷基和卤代烷氧基组成的组中的至少任一者，两个n各自独立地为0～3的整数。

公开(公告)号：CN116075424A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180049034.8

申请日：2021-07-01

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 村上洋介 ,  细井健史 ,  江口弘 ,  萩原祐树 ,  山田真辉 ,  山中一广

IPC: B32B27/00

Abstract: 具有通式[1]所示的结构单元的聚苯并恶唑。通式[1]中，R1为通式[2]所示的4价有机基团，R2为2价有机基团，通式[2]中，2个n分别独立为0～3的整数，R3存在多个的情况下分别独立表示1价取代基，*1、*2、*3及*4分别独立表示原子键，*1及*2中的一者与通式[1]中的氧原子键合，另一者与通式[1]中的氮原子键合，*3及*4的中一者与通式[1]中的氧原子键合，另一者与通式[1]中的氮原子键合。

公开(公告)号：CN111819183A

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN201980015727.8

申请日：2019-02-21

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 中辻惇也 ,  片村友大 ,  杉田丰 ,  山中一广

IPC: C07F7/12 ,  C07F7/18 ,  C08G77/24 ,  C07B61/00

Abstract: 本发明提供一种由廉价的起始原料以高的反应转化率和选择率制造含六氟丙醇基(‑C(CF3)2OH、HFIP基)的芳香族烷氧基硅烷(4)的方法。该制造方法如下所述包括：使芳香族卤代硅烷(1)在路易斯酸的存在下与六氟丙酮反应，得到含HFIP基的芳香族卤代硅烷(2)的第一工序；以及使该含HFIP基的芳香族卤代硅烷(2)与醇反应，得到含HFIP基的芳香族烷氧基硅烷(4)的第二工序。

公开(公告)号：CN105706000B

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201480060038.6

申请日：2014-10-24

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 情野真 ,  山中一广 ,  小田雅文 ,  中辻惇也

IPC: G03F7/075 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的正型感光性树脂组合物至少包含：(A)至少包含通式(1)表示的结构单元的聚硅氧烷化合物、(B)光产酸剂或醌二叠氮化合物、以及(C)溶剂。[式中，RX为下述式表示的基团，R1各自独立地为氢原子、碳数1以上且3以下的烷基、苯基、羟基、碳数1以上且3以下的烷氧基或碳数1以上且3以下的氟代烷基，b为1～3的整数、m为0～2的整数、n为1～3的整数，且b+m+n＝4。(X各自独立地表示氢原子或酸不稳定性基团，a为1～5的整数。)]通过该正型感光性树脂组合物的使用，能够提供具有高耐热性和耐热透明性的膜以及具有该膜的电子部件。[(RX)bR1mSiOn/2] (1)