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公开(公告)号：CN105874892A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201580003124.8
申请日：2015-01-19
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H05K3/26
CPC classification number: H05K3/0055 , B08B5/00 , B08B7/0057 , B08B7/0071 , H05K3/26 , H05K2203/087 , H05K2203/1509
Abstract: 本发明的目的是提供一种即使排列配置的多个紫外线灯(21)的相互邻接的紫外线灯(21)的间距(P)大，也能够以高处理效率均匀地处理布线基板材料(1)的除胶渣处理装置(10)。本发明的除胶渣处理装置的特征在于，具备：多个紫外线灯(21)，沿布线基板材料(1)被处理面(1a)排列配置；板状的光透射性窗部件(31)；以及处理用气体供给机构，布线基板材料(1)被配置在处理用气体供给机构的气体供给口(15a)与气体排出口(16a)之间的位置，在形成于布线基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间中，处理用气体沿多个紫外线灯(21)排列的方向流动，并形成该处理用气体的层流。
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公开(公告)号：CN102671891B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201210067052.1
申请日：2012-03-14
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种光照射装置，可防止或抑制附着于被照射物的有机物等的污染物与大气中所包含的污染物质的反应生成物附着于被照射物，所以能够可靠完成所需要的光清洗处理。其特征为，具备：准分子灯；灯罩，以包围该准分子灯的方式设置，具有将来自该准分子灯的光向外部射出的开口和将内部的气体排出的气体排出口；以及气体排出机构，将大气从该灯罩的开口向该灯罩的内部导入，并从该灯罩的气体排出口排出；在上述准分子灯上设置有光遮蔽单元，该光遮蔽单元以该准分子灯的放射光不照射到上述灯罩内的形成气体流通路径的壁面的方式遮蔽该放射光。
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公开(公告)号：CN101958223B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201010202828.7
申请日：2010-06-11
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01J65/00
Abstract: 本发明提供一种防止电极因基座而损伤的准分子灯。该准分子灯(1)具有：封入有发光元素的、剖面为矩形状且呈中空纵长状的放电管(2)；在放电管(2)的外面沿其长边方向延伸而设的电极(3、4)；将电极(3、4)与引线相连接的焊材(7、8)及覆盖电极(3、4)的长边方向的端部与焊材(7、8)的基座(9)，其特征为：基座(9)的边缘(932)抵接于放电管(2)外面的设有电极(3)的面，并且在该基座的边缘与电极(3)之间具有间隙(97)。
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公开(公告)号：CN101958223A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN201010202828.7
申请日：2010-06-11
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01J65/00
Abstract: 本发明提供一种防止电极因基座而损伤的准分子灯。该准分子灯(1)具有：封入有发光元素的、剖面为矩形状且呈中空纵长状的放电管(2)；在放电管(2)的外面沿其长边方向延伸而设的电极(3、4)；将电极(3、4)与引线相连接的焊材(7、8)及覆盖电极(3、4)的长边方向的端部与焊材(7、8)的基座(9)，其特征为：基座(9)的边缘(932)抵接于放电管(2)外面的设有电极(3)的面，并且在该基座的边缘与电极(3)之间具有间隙(97)。
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公开(公告)号：CN101740316A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200910225921.7
申请日：2009-11-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 远藤真一
Abstract: 一种准分子灯装置，提高表面处理效率和真空紫外光的发光效率。具备：灯壳(10)；准分子灯(20)；具有气体喷出口(12a)的气体供给管(12A)；及搬送机构(38)；在该对被处理体(W)照射准分子光的准分子灯装置(10)中，在上述灯壳(10)内相互分离地设置有多个气体供给管，相邻的气体供给管彼此具备设置在一个气体供给管上的气体喷出口与设置在另一个气体供给管上的气体喷出口成为一对的关系的至少一对气体喷出口；该一对气体喷出口形成为，一个气体喷出口的喷出方向与另一个气体喷出口的喷出方向，在该相邻的气体供给管所夹着的空间(A)内相对或交叉，准分子灯配置在该空间(A)的铅直下方。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101651080A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200810210258.9
申请日：2008-08-11
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明目的在于提供一种受激准分子灯，在放电容器的暴露在放电空间中的表面上形成紫外线反射膜，能够防止长时间点亮时受激准分子光的均匀性下降。该受激准分子灯的特征在于，在一侧的长边面(12a)的内表面区域形成有紫外线反射膜(20)，在短边面(13a、13b)的内表面区域形成有膜厚比所述一侧的长边面(12a)的与电极(15)对应的内表面区域上形成的紫外线反射膜(20)薄的紫外线反射膜(20)，在另一侧的长边面(12b)上通过不形成所述紫外线反射膜(20)而形成光射出窗(17)。
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公开(公告)号：CN101527255A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200910004700.7
申请日：2009-03-06
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/268 , B08B7/00 , H01L21/312 , G03F7/26
Abstract: 本发明的目的是提供可将非活性气体快速地充满于准分子灯的周围的紫外线照射装置。本发明的紫外线照射装置，具有：多个准分子灯，所述准分子灯在放电容器内形成的密闭空间中封入有放电气体，并且隔着该密闭空间在上述放电容器的外表面形成有一对电极；灯罩，包围该多个准分子灯且垂直方向的一个方向被开口，及气体供给机构，用来将非活性气体供给给该灯罩的内部。其特征为：在上述灯罩内，空间封闭体被配置于由上述准分子灯所占有的空间以外的空间。
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公开(公告)号：CN101404188A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200810161940.3
申请日：2008-10-06
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种紫外线照射装置，固定紫外线灯的基板不会变形，能够将紫外线灯与处理物的分离距离保持恒定，能够均匀地处理被加热物。本发明的紫外线照射装置，具有管形的紫外线灯(1)，该紫外线照射装置(D1)配置在上方具有开口的处理室(9)的上部，其特征在于，包括支撑紫外线灯(1)的基板(2)、用于使紫外线灯(1)点亮的点亮单元(41、42)、以及设置有点亮单元(41、42)的架设板(5)，基板(2)的紫外线灯(1)管轴方向的两端(A)设置在支撑体(93)上，该支撑体(93)支撑设置在处理室(9)的紫外线照射装置，架设板(5)的中央部分与基板(2)分离，架设板(5)的自身重量施加到支撑体(93)上。
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公开(公告)号：CN101136307A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710148159.8
申请日：2007-08-28
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种准分子灯的结构，即使液晶面板基板、半导体晶片、磁盘基板、以及光盘基板等逐渐大型化，也适于应对照射紫外光而进行清洁、刻蚀等的基板处理，并且可以实现灯的长寿命化。上述准分子灯在由电介质构成的放电容器中封入准分子生成气体，具有一对电极，两个电介质部件介于该一对电极之间，在该一对电极上施加高电压，进行放电，其特征在于：在一个电介质部件上具有向另一电介质部件延伸的支撑部件，在该支撑部件或该另一电介质部件的、该支撑部件与该另一电介质部件接触的部位上具有缓冲材料。
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公开(公告)号：CN117381200A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202310842285.2
申请日：2023-07-11
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B23K26/382 , C23C14/04 , C23C14/24 , B23K26/36
Abstract: 本发明抑制有机发光材料的蒸镀中的蒸镀不足及污染物质的蒸镀。蒸镀掩模制造方法的一个方案经由以下工序：对具有设置有多个开口的金属层和与该金属层相接触地扩展的树脂层的复合材料从该金属层侧照射激光，在该开口内露出的该树脂层部分中形成贯通孔的孔形成工序；和对于形成有上述贯通孔的复合材料，通过从上述金属层侧照射紫外光而除去该金属层上的碎片的除去工序。
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