光照射装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105493235A

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201480046358.6

    申请日:2014-09-09

    Inventor: 羽生智行

    CPC classification number: B08B7/0057 G03F7/42 H01L21/67115 H01L21/6719

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种光照射装置,能够以高处理效率均匀地处理被处理物。本发明的光照射装置具备:被处理物支撑台,配置被处理物;紫外线灯,对被处理物的被处理面照射真空紫外线;以及光透射窗构件,配置在被处理物与紫外线灯之间,使来自紫外线灯的真空紫外线透射,光照射装置的特征在于,被处理物的被处理面与光透射窗构件之间所形成的间隙的距离被设为1mm以下,设置有向该间隙沿着该被处理面朝向一个方向供给处理气体的气体供给机构,在上述被处理物支撑台上的向上述处理气体的供给方向延伸、且不放置被处理物的区域,配设有遮风构件。

    蒸镀掩模制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117381200A

    公开(公告)日:2024-01-12

    申请号:CN202310842285.2

    申请日:2023-07-11

    Abstract: 本发明抑制有机发光材料的蒸镀中的蒸镀不足及污染物质的蒸镀。蒸镀掩模制造方法的一个方案经由以下工序:对具有设置有多个开口的金属层和与该金属层相接触地扩展的树脂层的复合材料从该金属层侧照射激光,在该开口内露出的该树脂层部分中形成贯通孔的孔形成工序;和对于形成有上述贯通孔的复合材料,通过从上述金属层侧照射紫外光而除去该金属层上的碎片的除去工序。

    除胶渣处理装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105874892B

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201580003124.8

    申请日:2015-01-19

    Abstract: 本发明的目的是提供一种即使排列配置的多个紫外线灯(21)的相互邻接的紫外线灯(21)的间距(P)大,也能够以高处理效率均匀地处理布线基板材料(1)的除胶渣处理装置(10)。本发明的除胶渣处理装置的特征在于,具备:多个紫外线灯(21),沿布线基板材料(1)被处理面(1a)排列配置;板状的光透射性窗部件(31);以及处理用气体供给机构,布线基板材料(1)被配置在处理用气体供给机构的气体供给口(15a)与气体排出口(16a)之间的位置,在形成于布线基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间中,处理用气体沿多个紫外线灯(21)排列的方向流动,并形成该处理用气体的层流。

    布线基板的制造方法及布线基板

    公开(公告)号:CN108781516A

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201780014239.6

    申请日:2017-02-27

    Abstract: 本发明公开了一种布线基板的制造方法,其在不将绝缘层表面粗糙化的情况下适当地进行去胶渣处理。布线基板的制造工序包括:光照射工序,其中,对在导电层(11)上层叠绝缘层(12)、在该绝缘层(12)上形成保护层(13)、且形成有贯通绝缘层(12)及保护层(13)的贯通孔(导通孔)(12a)的布线基板材料,在包含氧的气氛中照射紫外线;和镀覆工序,其中,对于保护层(13)从上述布线基板材料剥离后的布线基板材料,在包含贯通孔(12a)的底的表面形成由导电材料形成的镀层(14)。

    光照射装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105493235B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201480046358.6

    申请日:2014-09-09

    Inventor: 羽生智行

    CPC classification number: B08B7/0057 G03F7/42 H01L21/67115 H01L21/6719

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种光照射装置,能够以高处理效率均匀地处理被处理物。本发明的光照射装置具备:被处理物支撑台,配置被处理物;紫外线灯,对被处理物的被处理面照射真空紫外线;以及光透射窗构件,配置在被处理物与紫外线灯之间,使来自紫外线灯的真空紫外线透射,光照射装置的特征在于,被处理物的被处理面与光透射窗构件之间所形成的间隙的距离被设为1mm以下,设置有向该间隙沿着该被处理面朝向一个方向供给处理气体的气体供给机构,在上述被处理物支撑台上的向上述处理气体的供给方向延伸、且不放置被处理物的区域,配设有遮风构件。

    除胶渣处理装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105874892A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201580003124.8

    申请日:2015-01-19

    Abstract: 本发明的目的是提供一种即使排列配置的多个紫外线灯(21)的相互邻接的紫外线灯(21)的间距(P)大,也能够以高处理效率均匀地处理布线基板材料(1)的除胶渣处理装置(10)。本发明的除胶渣处理装置的特征在于,具备:多个紫外线灯(21),沿布线基板材料(1)被处理面(1a)排列配置;板状的光透射性窗部件(31);以及处理用气体供给机构,布线基板材料(1)被配置在处理用气体供给机构的气体供给口(15a)与气体排出口(16a)之间的位置,在形成于布线基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间中,处理用气体沿多个紫外线灯(21)排列的方向流动,并形成该处理用气体的层流。

Patent Agency Ranking