公开(公告)号：CN104669795A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201410697215.3

申请日：2014-11-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 浅井和宏 ,  藤井谦儿 ,  松本圭司 ,  笹木弘司 ,  鱼桥邦仁 ,  山室纯 ,  柳沼诚一郎 ,  渡部正久 ,  村上辽太郎

IPC: B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1623 ,  B41J2/14145 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1626 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1645

Abstract: 一种液体排出头的制造方法，其包括：转印工序，其中，将由支撑构件支撑的干膜转印到具有孔的基板；和剥离工序，其中，将所述支撑构件从所述基板上的所述干膜剥离。在所述剥离工序中，所述干膜与限定所述基板中的所述孔的壁面接触。

公开(公告)号：CN101992598B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201010260865.3

申请日：2010-08-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 藤井谦儿 ,  浅井和宏 ,  渡边诚 ,  田川义则 ,  今仲良行 ,  田丸勇治 ,  久保康祐

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1603 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1635 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1645 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54406 ,  H01L2223/54433 ,  H01L2223/54473 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T29/49401 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明涉及一种液体排出头以及用于制造液体排出头的方法，所述液体排出头包括基板和流动路径壁构件，所述流动路径壁构件设置在该基板上并且具有与用于排出液体的排出口连通的流动路径的壁，其中，所述流动路径壁构件设有不与所述流动路径连通的腔体，当沿着从所述排出口朝向所述基板的方向观察时，所述腔体具有字符的形状，并且所述字符与关于所述液体排出头的信息相对应。

公开(公告)号：CN103171288A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201210576369.8

申请日：2012-12-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 古泽健太 ,  松本圭司 ,  岸本圭介 ,  浅井和宏 ,  小山修司

IPC: B41J2/16

CPC classification number: B44C1/227 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1643 ,  Y10T29/49401

Abstract: 本发明提供一种用于喷墨头基板的处理方法，包括：在基板上形成阻挡层并且在阻挡层上形成种子层；在种子层上形成抗蚀膜并且对抗蚀膜进行图案化以使得图案化后的抗蚀膜与用于将喷墨头电连接到喷墨头外部的盘部相对应；在图案化后的抗蚀膜的开口中形成盘部；去除抗蚀膜；对基板进行各向异性蚀刻以形成供墨口；去除阻挡层和种子层；以及从基板的表面进行激光处理。

公开(公告)号：CN103085480A

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201210419847.4

申请日：2012-10-29

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 浅井和宏 ,  本田哲朗

IPC: B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1603 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1635 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1645 ,  B41J2202/11

Abstract: 本发明提供一种液体喷出头的制造方法，该方法包括：（1）在基板上形成液体流路的模型图案以及围绕模型图案的基部图案，（2）布置覆盖层以覆盖模型图案和基部图案，（3）在覆盖层中至少形成喷出孔，以形成孔板，以及（4）移除模型图案以及基部图案，其中，以如下的形状形成基部图案：孔板形成为具有：侧壁部，其构成液体流路的侧壁；以及多个支撑结构，其布置在基板上的位于侧壁部的周边区域的位置并且支撑构成孔板的上壁的上表面部。

公开(公告)号：CN1977219B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN200580021473.9

申请日：2005-06-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 久保田雅彦 ,  铃木工 ,  佐藤环树 ,  柬理亮二 ,  服田麻纪 ,  浅井和宏 ,  芝昭二 ,  石仓宏惠 ,  冈野明彦

IPC: G03F7/095 ,  B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1603 ,  B41J2/1404 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1645 ,  B41J2202/11 ,  G03F7/095 ,  Y10T29/49401

Abstract: 一种用于制造微细结构的方法，包括：形成要由第一波长范围的致电离辐射曝光的第一致电离辐射分解型正性抗蚀剂层的步骤；在第一正性光敏材料层上形成要由第二波长范围的致电离辐射曝光的第二致电离辐射分解型正性抗蚀剂层的步骤；通过在作为上层的上述第二正性光敏材料层中进行分解反应而不在上述第一正性光敏材料层中进行分解反应，并用显影液进行显影，从而在所述第二正性光敏材料层中形成所需的图案的步骤；以及，通过在预定区域中进行分解反应并进行显影，在作为下层的所述第一正性光敏材料层中形成所需的图案的步骤。从而，在所述衬底中制造出凸形图案。

公开(公告)号：CN103998245B

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201180075533.0

申请日：2011-12-13

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 真锅贵信 ,  黑须敏明 ,  渡边诚 ,  藤井谦儿 ,  田川义则 ,  浅井和宏

IPC: B41J2/135

CPC classification number: G03F7/20 ,  B41J2/162 ,  B41J2/1631

Abstract: 本发明提供了一种喷嘴芯片的制造方法，所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤，其中，所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。

公开(公告)号：CN103171288B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201210576369.8

申请日：2012-12-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 古泽健太 ,  松本圭司 ,  岸本圭介 ,  浅井和宏 ,  小山修司

IPC: B41J2/16

CPC classification number: B44C1/227 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1643 ,  Y10T29/49401

Abstract: 本发明提供一种用于喷墨头基板的处理方法，包括：在基板上形成阻挡层并且在阻挡层上形成种子层；在种子层上形成抗蚀膜并且对抗蚀膜进行图案化以使得图案化后的抗蚀膜与用于将喷墨头电连接到喷墨头外部的盘部相对应；在图案化后的抗蚀膜的开口中形成盘部；去除抗蚀膜；对基板进行各向异性蚀刻以形成供墨口；去除阻挡层和种子层；以及从基板的表面进行激光处理。

公开(公告)号：CN1968815B

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN200580019601.6

申请日：2005-06-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 久保田雅彦 ,  铃木工 ,  佐藤环树 ,  柬理亮二 ,  服田麻纪 ,  浅井和宏 ,  芝昭二 ,  桧野悦子 ,  石仓宏惠 ,  冈野明彦

IPC: B41J2/16 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/038 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1639 ,  B41J2002/14475 ,  Y10T29/49401

Abstract: 根据本发明，一种用于制造排液头的方法包括步骤：在其上排列有能量产生元件(2)以产生用于排出液体的能量的基板(1)上，形成用于形成流路的固体层(3)；在其上设置有固体层的基板上形成用于覆盖固体层的涂层(4)；在沉积在固体层的涂层中通过光刻工艺形成用于排出液体的排出口(7)；和去除固体层以形成与能量元件和排出口连通的流路(8)，其中用于涂层的材料包含阳离子聚合性化合物，阳离子光聚合反应引发剂和阳离子光聚合反应的抑制剂，和其中固体层的材料包含甲基丙烯酸和甲基丙烯酸酯的共聚物，所述固体层与其中形成涂层的排出口的那部分形成边界。

公开(公告)号：CN101204880B

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：CN200710160045.5

申请日：2007-12-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 芝昭二 ,  岗野明彦 ,  斋藤义一 ,  浅井和宏 ,  佐藤环树 ,  铃木工 ,  久保田雅彦 ,  加藤麻纪 ,  石仓宏惠 ,  辻新祐

IPC: B41J2/16 ,  B41J2/14 ,  G03F7/004

CPC classification number: B41J2/162 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1645 ,  B41J2002/14475 ,  B41J2202/11 ,  G03F1/00 ,  G03F1/50 ,  G03F1/70

Abstract: 本发明提供了制造液体排出头的方法，该液体排出头包括生成用于排出液体的能量的能量生成元件、和配备在面对能量生成元件的位置上并具有用于排出液体的排出口的排出部分。该方法包括如下步骤：在基板上形成用于形成排出口的构件的负光敏树脂层，以及将该层曝光于i线，以便形成在从基板到排出口的方向上变尖的排出部分，其中，对于用于曝光的光，该层具有每1μm厚度大约0.02到大约0.07的吸光度。

公开(公告)号：CN101437684A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200780015905.4

申请日：2007-05-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 铃木工 ,  久保田雅彦 ,  佐藤环树 ,  加藤麻纪 ,  浅井和宏

IPC: B41J2/14

CPC classification number: B41J2/1404 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1626 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1635 ,  B41J2/1639 ,  B41J2202/11

Abstract: 一种喷墨头，包括：基板，其具有墨供应口；喷射出口，其用于喷射通过墨供应口供应的墨；流路部，其提供墨供应口和喷射出口之间的流体连通；其中，流路部包括靠近基板的近部(6A)和远离基板的远部(6B)，在垂直于墨流动方向的截面上，近部的宽度与远部的宽度不同，并且，在近部和远部之间设置台阶部。