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公开(公告)号：CN115181951A
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202210828356.9
申请日：2022-07-13
Applicant: 南昌航空大学
Abstract: 本发明公开了一种高速钢搅拌摩擦焊搅拌头用多层涂层，所述涂层包括依次沉积于搅拌头基材表面的W层(与基材结合的过渡层)、ComxW1‑xN层(中间层)和ComxSiyW1‑x‑yN层(表层)：其中，W层成分为单质W；ComxW1‑xN层中Com(Component)成分为Ti或Al，0.05≤x≤0.70(原子比)；ComxSiyW1‑x‑yN层中Com成分为Ti或Al，0.70≤x≤0.90，0.05≤y≤0.15。该发明通过在搅拌头表面沉积纳米级单质金属过渡层和设计针对性中间层成分的方式，能够有效提高硬质涂层与搅拌头材质之间的结合强度，焊缝表面粗糙度降低。
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公开(公告)号：CN114515889A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202210284240.3
申请日：2022-03-22
Applicant: 南昌航空大学
Abstract: 一种小管径薄壁弯管旋转氩弧焊的焊接装置及其方法，装置包括焊枪固定架、旋转工作台、直流电源和焊接工作台，焊接方法包括以下步骤：焊材选取、下料及坡口加工、焊前组装、焊前调试、试件焊接及检测、正式焊接、焊后保温、渗透检测。本发明的有益效果为：本发明为平衡不等厚两工件的焊接过程中的热输入量，将钨极距待焊处位置向厚件偏移一定距离，并将手工氩弧焊改进为连续脉冲氩弧焊，将圆周焊缝分解成五个区，设置不同区的焊接电流及焊接时间，平衡整周焊缝的焊接热输入，避免了手工氩弧焊过程出现的焊缝热裂纹、晶粒粗大、熔深不一致等缺陷，同时制作焊接装置实现连续旋转氩弧焊提高了氩弧焊焊缝成形的外观，从而保证了焊缝质量的可靠性。
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公开(公告)号：CN112687787A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011589273.6
申请日：2020-12-29
Applicant: 南昌航空大学
Abstract: 一种多晶串联LED铜合金键合线的制造方法，使用粉末球磨法制得基体材料，在经过热处理后，通过拉丝机进行拉制，此种方法较化学反应制得合金的方法更简便，成本更低，并能够获得具有优良拉伸性质与导电性质的铜‑钨合金材料，用于制作一种多晶串联LED铜合金键合线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112680618A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011592349.0
申请日：2020-12-29
Applicant: 南昌航空大学
Abstract: 本发明公开了一种LED键合金线的制备方法，通过优化合金成分组合及工艺，制造一种拥有良好性能的用于LED封装的键合金线，采用包金的工艺，利用银提升金线的中心强度，配合脉冲电流，解决了金线加工过程中加工硬化的问题。
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公开(公告)号：CN112080724A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN202010922582.4
申请日：2020-09-04
Applicant: 南昌航空大学
Abstract: 本发明公开了一种防腐耐磨多组元硬质复合涂层的制备方法，以提高基体材料的使用寿命，解决基体材料硬度低、不耐磨、不耐蚀的问题，方法：一、基体的前处理；二、镀层前准备；三、离子注入氮化层的制备；四、ZrAl层的制备；五、ZrAlN层的制备；六、TiSiAlZrN层的制备；七、TiSiAlZrCN层的制备，本发明将离子注入与磁控溅射技术结合，将直流电源、偏压电源和脉冲电源结合在一起制备复合涂层，简单，制备周期短，沉积效率高，涂层与基体结合强度高，涂层致密，性能优异，这对于镁合金、高速钢、钛合金等多种基体表面性能的提高以及扩大基体材料的应用，减少磨损和腐蚀消耗，节约资源等方面有着重要意义和前景。
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公开(公告)号：CN115519302A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211267875.9
申请日：2022-10-17
Applicant: 南昌航空大学 , 中国航发长江动力有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于多叠环外圆焊接的夹具及其焊接装置，包括上垫块、垫片和下垫块，下垫块和垫片之间用于设置截面为半圆形的第一待焊接件，垫片和上垫块之间用于设置截面为半圆形的第二待焊接件，下垫块的上表面设置有与第一焊接件的外圆弧匹配的第一凹槽，垫片下表面设置有与第一焊接件内圆弧相匹配的第一凸起，垫片的上表面设置有与第二焊接件内圆弧相匹配的第二凸起，上垫块下表面设置有与外圆弧相匹配的凹槽，上垫块和下垫块通过在旋转轴上旋紧固定；本发明通过在上垫块和下垫块之间设置垫片，并在垫片和上垫块之间，垫片和下垫块之间设置待焊接件，并使得对应的圆弧面相匹配，完成对待焊接件的固定，保证外圆焊接的稳定性。
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公开(公告)号：CN112080724B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202010922582.4
申请日：2020-09-04
Applicant: 南昌航空大学
Abstract: 本发明公开了一种防腐耐磨多组元硬质复合涂层的制备方法，以提高基体材料的使用寿命，解决基体材料硬度低、不耐磨、不耐蚀的问题，方法：一、基体的前处理；二、镀层前准备；三、离子注入氮化层的制备；四、ZrAl层的制备；五、ZrAlN层的制备；六、TiSiAlZrN层的制备；七、TiSiAlZrCN层的制备，本发明将离子注入与磁控溅射技术结合，将直流电源、偏压电源和脉冲电源结合在一起制备复合涂层，简单，制备周期短，沉积效率高，涂层与基体结合强度高，涂层致密，性能优异，这对于镁合金、高速钢、钛合金等多种基体表面性能的提高以及扩大基体材料的应用，减少磨损和腐蚀消耗，节约资源等方面有着重要意义和前景。
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公开(公告)号：CN110184564A
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201910587317.2
申请日：2019-07-02
Applicant: 南昌航空大学
Abstract: 镁合金表面低应力、高结合强度Si/DLC厚膜的制备方法，涉及一种纳米周期Si/DLC厚膜的制备方法。方法：一、镁合金基体的前处理；二、镀膜前准备；三、制备Si过渡缓冲层；四、制备DLC硬质层；五、制备Si/DLC交替的纳米周期厚膜，得到膜基结合力较高的的优质Si/DLC厚膜。本方法将直流电源、偏压电源和铜线圈结合应用在磁控溅射技术中，该方法简单，是一种低应力、高结合强度厚膜制备的先进方法，磁控溅射过程中辉光持续稳定，制备的厚膜致密均匀，膜基结合强度高，消除了传统PVD方法中柱状晶结构，在提高硬度的同时，又提高了腐蚀性能，这对于镁合金表面性能的提高以及扩大镁合金的应用，减少磨损，节约资源有着重要意义和前景。
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