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公开(公告)号:CN103125016A
公开(公告)日:2013-05-29
申请号:CN201280003093.2
申请日:2012-04-13
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L31/04
Abstract: 本发明的目的在于,通过使具有纹理形成面的硅基板的纹理微细化,而实现太阳能电池用的硅基板的薄层化。本发明提供一种硅基板,其具有50μm以下的厚度且为基板表面定向(111)的硅基板,该硅基板具有形成有纹理的纹理形成面。这样的硅基板由包含如下工序的工艺来制造:工序A,准备优选具有50μm以下的厚度、基板表面定向(111)的硅基板;以及工序B,对所述准备好的硅基板的基板表面喷射包括含氟气体的蚀刻气体而形成纹理。
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公开(公告)号:CN102468143A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN201110343772.1
申请日:2011-11-03
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/223 , H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32412 , H01L21/2236 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供一种结构简单的等离子体掺杂方法以及装置,在等离子体炬单元(T)中,螺旋形的导体棒(3)配置在表面涂敷了硼玻璃的石英管(4)的内部,在其周围配置了黄铜块(5)。一边向筒状室内供应气体一边对导体棒(3)供应高频电力,从而使筒状室内产生等离子体,对基材(2)进行照射。
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公开(公告)号:CN100564588C
公开(公告)日:2009-12-02
申请号:CN200410001299.9
申请日:2004-01-06
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: C23C16/513 , H01L21/3065 , H05H1/00
CPC classification number: H05H1/48
Abstract: 一种用于通过将电功率提供给设置在等离子源或待加工物体处的电极以产生直线等离子,同时将气体提供给设置在待加工物体附近的等离子源,并通过使等离子产生的活化粒子作用在待加工物体上,由此加工待加工物体的直线部分的等离子加工方法,所述方法包括步骤:当X-轴在待加工物体直线部分的直线方向时,检测等离子源在X-轴方向的倾斜度;并通过沿X-轴方向移动等离子源,同时保持等离子源和待加工物体的相对位置,以便检测的等离子源的倾斜度变得近似为零,由此通过产生的直线等离子加工待加工物体的直线部分。
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公开(公告)号:CN1617656A
公开(公告)日:2005-05-18
申请号:CN200410085941.6
申请日:2004-10-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H05K3/34
CPC classification number: H05K3/3489 , H05K3/288 , H05K3/3447 , H05K2201/10287 , H05K2203/095
Abstract: 本发明提供一种电子部件的处理方法,其是将具有端子部的电子部件的树脂包覆剥离的电子部件的处理方法,其特征在于,包含将等离子照射到以铜为主要成分且表面由树脂包覆的包覆线上的步骤。
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