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公开(公告)号：CN107272095A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710559592.4
申请日：2013-11-05
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 具备：保持反射型的光罩(M)的光罩保持筒(21)；将入射的照明光束(EL1)朝向光罩(M)反射、并且使照明光束(EL1)被光罩(M)反射而得到的投影光束(EL2)透射的分束器(PBS)；使照明光束(EL1)向分束器(PBS)入射的照明光学组件(ILM)；和将透射过了分束器(PBS)的投影光束(EL2)投影曝光至基板(P)的投影光学组件(PLM)，照明光学组件(ILM)及分束器(PBS)设于光罩(M)与投影光学组件(PLM)之间。另外，分束器(PBS)具备第1棱镜、第2棱镜和偏振膜，偏振膜(93)是将二氧化硅的第1膜体与氧化铪的第2膜体在膜厚方向层叠而成的。
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公开(公告)号：CN107255913A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710536605.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN106773558A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710064287.8
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 本发明的扫描曝光装置具有：旋转筒，其在由外周面支承基板的长度方向的一部分的状态下绕第2中心轴旋转而将基板沿长度方向输送；照明机构，其分别向着第1照明区域和第2照明区域照射照明光；投影光学系统，其在支承于旋转筒的基板上，向着第1投影区域，来投影第1照明区域内所显现的光罩图案的像，并且向着第2投影区域，来投影第2照明区域内所显现的光罩图案的像；第1刻度部；第2刻度部；光罩侧读取机构，其在从第1中心轴观察而分别位于与第1照明区域和第2照明区域相同的方位上的第1刻度部上的两个位置上分别读取刻度；和基板侧读取机构，其在从第2中心轴观察而分别位于与第1投影区域和第2投影区域相同的方位上的第2刻度部上的两个位置上分别读取刻度。
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公开(公告)号：CN104011597B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201280063563.4
申请日：2012-10-11
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B17/008 , G02B13/22 , G02B13/24 , G02B17/08 , G02B17/0812 , G03F7/24
Abstract: 基底处理装置(1011)，具备：第1支承构件(1021)，以在照明区域(IR)与投影区域(PA)中的一方区域中沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状的第1面(p1001)的方式支承第1物体(M)与第2物体(P)中的一方；以及第2支承构件(1022)，以在照明区域与投影区域中的另一方区域中既定第2面(p1002)的方式支承第1物体与第2物体中的另一方。投影光学系统(PL)具备偏向构件，该偏向构件以从照明区域至投影区域的成像光束的主光线中第1面与投影光学系统之间的主光线朝向第1面的径方向中与第2面为非垂直的径方向的方式使成像光束传播。
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公开(公告)号：CN104204956B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380015932.7
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 基板处理装置具备：旋转圆筒部件(DR)，具有距规定的中心线(AX2)以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，且沿基板的长度方向传送基板(P)；处理机构，在基板的一部分的特定位置(PA、EL2)处对基板实施规定的处理；刻度部件(SD)，具有刻度部(GP)，该刻度部(GP)与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构(EN1、EN2)，与刻度部相对，并且从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103019040B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201210455308.6
申请日：2007-03-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B17/004 , G02B17/08 , G02B27/0043 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791
Abstract: 一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1，一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系，一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上，且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm，将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp，且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×｜β｜（其中，｜β｜＞1）。
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公开(公告)号：CN104204956A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380015932.7
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 基板处理装置具备：旋转圆筒部件(DR)，具有距规定的中心线(AX2)以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，且沿基板的长度方向传送基板(P)；处理机构，在基板的一部分的特定位置(PA、EL2)处对基板实施规定的处理；刻度部件(SD)，具有刻度部(GP)，该刻度部(GP)与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构(EN1、EN2)，与刻度部相对，并且从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。
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公开(公告)号：CN103019040A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210455308.6
申请日：2007-03-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B17/004 , G02B17/08 , G02B27/0043 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791
Abstract: 一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1，一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系，一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上，且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm，将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp，且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×｜β｜（其中，｜β｜＞1）。
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公开(公告)号：CN101375372B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200780003500.9
申请日：2007-02-08
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: H01L21/027 , G03F1/08 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70216 , G03F7/70275
Abstract: 本发明是分别经由具有放大倍率的多个投影光学系统，将光罩(M)的图案(M1、M2)投影曝光于基板上的曝光方法，此曝光方法是将具有以对应于上述放大倍率的位置关系而非连续地配置的第1图案区域(M1)、以及至少一部分设于第1图案区域(M1)之间的第2图案区域(M2)的光罩(M)，配置于投影光学系统的物体面侧，使第1图案区域(M1)与第2图案区域(M2)中的其中一个图案区域的放大像分别投影曝光至配置于投影光学系统的像面侧的基板上之后，将另一个图案区域的放大像投影曝光于该基板上。
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公开(公告)号：CN101925976A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200980102751.1
申请日：2009-01-20
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70208 , G03F7/7005
Abstract: 本发明提供一种照明装置，包括：光导纤维10，其从多个入射口12a、12b、12c接收由光源2a、2b、2c所发送的照明光，并使在每一该入射口所接收的各照明光的至少一部分从共同的射出口14a射出；照明中继光学系统6b，其对来自光源2b的照明光进行光学中继，形成具有第1入射角的第1光束，并导向入射口12b；以及照明中继光学系统6a、6c，其对来自光源2a、2c的照明光分别进行光学中继，形成具有与前述第1入射角不同的第2入射角的第2光束，并导向入射口12a、12c。
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