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公开(公告)号：CN104204956B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380015932.7
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 基板处理装置具备：旋转圆筒部件(DR)，具有距规定的中心线(AX2)以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，且沿基板的长度方向传送基板(P)；处理机构，在基板的一部分的特定位置(PA、EL2)处对基板实施规定的处理；刻度部件(SD)，具有刻度部(GP)，该刻度部(GP)与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构(EN1、EN2)，与刻度部相对，并且从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。
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公开(公告)号：CN102835189B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201180018300.7
申请日：2011-04-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H05B33/10 , B65H23/038 , H01L51/50
CPC classification number: B65H23/32 , B65H2301/517
Abstract: 基板处理装置，具备：基板供应部，在使形成为带状的基板的短边方向竖立的状态下供应基板；基板处理部，具有搬送部及多个处理部，该搬送部，将从该基板供应部供应的基板在竖立状态下搬送，该多个处理部，是沿着该搬送部的基板的搬送路径配置，对竖立状态的基板的被处理面进行处理；以及基板回收部，将在该基板处理部进行处理后的基板在竖立状态下回收。
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公开(公告)号：CN102472977B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201080031672.9
申请日：2010-07-16
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F9/7003
Abstract: 通过控制装置在Z轴方向上细微地驱动暂时支持片(S)的六个辅助片支持物(SH2)和(SH3)，以使得其支持表面定位在片支持物(SH1)的支持表面的略微较低侧(-Z侧)。因此，在宽度方向(Y轴方向)和长度方向上向片(S)施加适当的张力，以使得片(S)的中心部分固定到片支持物(SH1)的支持表面。即，在XY二维张力被施加到片(S)的分开区域(SAi)的状态下，与片(S)的分开区域(SAi)对应的后表面部分根据片支持物(SH1)的支持表面的平坦形状而改变。另外，在张力在长度方向和宽度方向上被施加到预定区域的状态下，与片材料(S)的预定区域对应的后表面部分根据平坦参考表面而改变以便平坦化。另外，用能量束照射平坦化的片材料的预定区域，以在其上形成图案。
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公开(公告)号：CN102834340B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201180018294.5
申请日：2011-04-11
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: B65H20/34 , B65H2402/521 , B65H2404/1313 , B65H2404/1314 , B65H2404/1321 , B65H2408/2172
Abstract: 基板匣(CTR)，具备：收容部(1)、搬出口(3)、搬入口(2)、导引部(4)。收容部(1)收容带状的基板(FB)。搬出口(3)及搬入口(2)是设于收容部(1)且供基板(FB)通过。导引部(4)将基板(FB)从搬入口(2)导引至搬出口(3)。导引部(4)包含可动导引板(45)及移动滚筒(47,48)。移动滚筒(47,48)包含伸缩部(52b)。首先，可动导引板(45)被保持水平且伸缩部(52b)收缩。基板(FB)的前端部支承在导引板(45)上。当使用搬入滚筒(23)送入基板(FB)时，导引板(45)旋动成垂直姿势。随着基板(FB)搬入，伸缩部(52b)逐渐延伸。基板匣(CTR)是连接于基板处理装置(FPA)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104204956A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380015932.7
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 基板处理装置具备：旋转圆筒部件(DR)，具有距规定的中心线(AX2)以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，且沿基板的长度方向传送基板(P)；处理机构，在基板的一部分的特定位置(PA、EL2)处对基板实施规定的处理；刻度部件(SD)，具有刻度部(GP)，该刻度部(GP)与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构(EN1、EN2)，与刻度部相对，并且从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。
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公开(公告)号：CN103262209A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180059872.X
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67775 , H01L21/67721 , H01L21/67736 , H01L21/67745
Abstract: 本发明的基板处理系统，具备：多个基板收容装置，具有收容基板的收容室；多个基板处理装置，具有连接于每个基板收容装置的连接部，在基板收容装置连接于连接部的状态下对基板进行处理；引导装置，引导多个基板收容装置分别与每个基板处理装置连接；以及控制装置，控制引导装置以使多个基板收容装置分别与每个基板处理装置以既定顺序连接。
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公开(公告)号：CN102834778A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180018579.9
申请日：2011-04-13
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70275 , G03F7/703 , G03F7/70791
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法。曝光装置使沿规定的圆筒面设置的图案在上述圆筒面的圆周方向旋转并将上述图案转印至基板，曝光装置具备：第一投影光学系统，该第一投影光学系统将上述图案中的配置于上述圆筒面的第一区域的第一部分图案的像投影于第一投影区域；第二投影光学系统，该第二投影光学系统将上述图案中的配置于与上述第一区域不同的第二区域的第二部分图案的像投影于与上述第一投影区域不同的第二投影区域；以及引导装置，该引导装置与上述图案的在上述圆周方向的旋转同步地将上述基板向上述第一投影区域以及上述第二投影区域引导。
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公开(公告)号：CN102834340A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180018294.5
申请日：2011-04-11
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: B65H20/34 , B65H2402/521 , B65H2404/1313 , B65H2404/1314 , B65H2404/1321 , B65H2408/2172
Abstract: 基板匣(CTR)，具备：收容部(1)、搬出口(3)、搬入口(2)、导引部(4)。收容部(1)收容带状的基板(FB)。搬出口(3)及搬入口(2)是设于收容部(1)且供基板(FB)通过。导引部(4)将基板(FB)从搬入口(2)导引至搬出口(3)。导引部(4)包含可动导引板(45)及移动滚筒(47,48)。移动滚筒(47,48)包含伸缩部(52b)。首先，可动导引板(45)被保持水平且伸缩部(52b)收缩。基板(FB)的前端部支承在导引板(45)上。当使用搬入滚筒(23)送入基板(FB)时，导引板(45)旋动成垂直姿势。随着基板(FB)搬入，伸缩部(52b)逐渐延伸。基板匣(CTR)是连接于基板处理装置(FPA)。
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公开(公告)号：CN108710263B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201810312226.3
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置，其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转，使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动，由此将圆筒光罩的图案曝光至基板，其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构，支承机构包括：可旋转地支承转轴的可动体；以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源；及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。
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