公开(公告)号：CN106164779B

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201580018364.5

申请日：2015-03-31

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  奈良圭 ,  铃木智也 ,  渡边智行 ,  鬼头义昭 ,  堀正和

IPC: G03F7/24 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。

公开(公告)号：CN107255908A

公开(公告)日：2017-10-17

申请号：CN201710545966.7

申请日：2014-06-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  小宫山弘树 ,  加藤正纪 ,  渡边智行 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  林田洋祐 ,  木内彻

IPC: G03F7/20 ,  H01L51/00

Abstract: 本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

公开(公告)号：CN102741978B

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201080056521.9

申请日：2010-12-16

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 渡边智行 ,  铃木康裕 ,  横山和弘

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/708 ,  G03F7/70975

Abstract: 一种基板处理装置的维护方法以及安全装置。基板处理装置中，驱动区(DA1)被室本体部(51)覆盖，进行用以处理基板的规定动作的驱动部是配置于上述驱动区(DA1)，利用间隔部(52)而区分上述驱动区、与上述驱动区的周围区(SA1)。基板处理装置的维护方法包括：第1步骤，在设置于室本体部(51)的堵住第1开口的第1门(DR1)被打开之前，使X射线照射装置成为无法照射X射线的状态；第2步骤，在第1门(DR1)被打开之后、设置于间隔部(52)的堵住第2开口的第2门(DR2)被打开之前，使驱动部成为无法进行规定动作的状态；以及维护步骤，进行成为无法进行规定动作的状态的驱动部及处理部的至少一方的维护。因此，驱动部的驱动状态的观察等的点检，可以在室的内部安全地进行。

公开(公告)号：CN102741978A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201080056521.9

申请日：2010-12-16

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 渡边智行 ,  铃木康裕 ,  横山和弘

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/708 ,  G03F7/70975

Abstract: 基板处理装置中，驱动区(DA1)被室本体部(51)覆盖，进行用以处理基板的规定动作的驱动部是配置于上述驱动区(DA1)，利用间隔部(52)而区分上述驱动区、与上述驱动区的周围的周围区(SA1)。基板处理装置的维护方法包括：第1步骤，在设置于室本体部(51)的堵住第1开口的第1门(DR1)被打开之前，使X射线照射装置成为无法照射X射线的状态；第2步骤，在第1门(DR1)被打开之后、设置于间隔部(52)的堵住第2开口的第2门(DR2)被打开之前，使驱动部成为无法进行规定动作的状态；以及维护步骤，进行成为无法进行规定动作的状态的驱动部及处理部的至少一方的维护。因此，驱动部的驱动状态的观察等的点检，可以在室的内部安全地进行。

公开(公告)号：CN101052922A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200680001103.3

申请日：2006-01-24

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  清水贤二 ,  户口学 ,  渡边智行

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。