氧化物半导体薄膜层叠体的品质评价方法及品质管理方法

    公开(公告)号:CN106463433B

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201580031246.8

    申请日:2015-06-22

    Abstract: 提供一种在具有形成于氧化物半导体薄膜的表面的保护膜的TFT中,对于起因于氧化物半导体薄膜和保护膜的界面态的缺陷,不用实际测量其特性而简便评价的方法。本发明的评价方法,通过接触式方法或非接触式方法测量氧化物半导体薄膜的电子态,从而评价起因于上述界面态的缺陷。起因于上述界面态的缺陷,为下述(1)~(3)的某一个。(1)向薄膜晶体管外加正偏压时的阈值电压Vth;(2)对薄膜晶体管外加正偏压时,外加前后的阈值电压的差ΔVth;(3)多次测量向薄膜晶体管外加正偏压时的阈值电压时,第一次测量时的阈值。

    射束检测构件及使用该构件的射束检测器

    公开(公告)号:CN101395246A

    公开(公告)日:2009-03-25

    申请号:CN200780007193.1

    申请日:2007-02-27

    Abstract: 本发明提供一种射束检测构件及使用了该构件的射束检测器,能够高精度且长期稳定地检测放射光束和软X线射束等的位置及其强度分布,还有它们时间的变化,能够用比现有的检测装置更低的成本制造。用于检测射束的位置和强度的射束检测构件(2),照射射束的射束照射部由多晶金刚石(C)膜(4)构成,该多晶金刚石(C)膜含有X/C=0.1~1000ppm至少选自硅(Si)、氮(N)、锂(Li)、铍(Be)、硼(B)、磷(P)、硫(S)、镍(Ni)、钒(V)中的一种或两种以上的元素(X),且具有当向该多晶金刚石膜(4)照射上述射束时发光(8)、(8a)的发光功能。通过这种射束检测构件(2)和观测上述发光现象的发光观测装置(3)、(3a)构成射束检测器(1)。

    散热器和使用了该散热器的半导体元件和半导体封装体

    公开(公告)号:CN100378974C

    公开(公告)日:2008-04-02

    申请号:CN200310114841.7

    申请日:2003-11-07

    Abstract: 本发明提供一种散热器和使用了该散热器的半导体元件和半导体封装体。在本发明的带有散热器的半导体元件和半导体封装体中,在半导体元件的背面上直接接合了由金刚石层或碳化硅和氮化铝等的陶瓷层构成的具有高热传导特性的散热器。在半导体元件的制作工序前、工序中或工序后的任一过程中,将该散热器直接覆盖并形成在作为基体材料的硅晶片或芯片上。利用这样的结构使半导体元件的散热特性良好,同时可一同提高半导体元件的安装可靠性和散热片的接合可靠性。此外,在本发明的散热器中,经高分子粘接层将金属或陶瓷构件覆盖在金刚石层上。金刚石层的结晶在金刚石层的厚度方向上具有纤维状结构或微结晶。金刚石层的与该由金属或陶瓷构成的构件的接合面具有纤毛状结构。该结构作为半导体封装体的冷却散热器,其散热特性极为良好,其本身具有足够的强度、平面性和气密性,而且与半导体元件和陶瓷等的构成封装体本体的密封材料的粘接性是良好的。

    金刚石半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1627535A

    公开(公告)日:2005-06-15

    申请号:CN200410100654.8

    申请日:2004-12-10

    CPC classification number: H01L29/1602 H01L29/78

    Abstract: 一种金刚石半导体器件,包括:大致由单晶金刚石制成的基片;第一金刚石层,其局部放置在基片上,含有杂质;第二金刚石层,其含有杂质,所述第二金刚石层局部放置在基片上,且与第一金刚石层隔开;以及第三金刚石层,其杂质含量小于第一和第二金刚石层,充当沟道区,且电荷通过其从第一金刚石层传递到第二金刚石层。第一和第二金刚石层分别具有彼此面对的第一和第二端部,第二端部和第一端部之间形成一空间。第一和第二端部分别具有根据基片取向外延形成的相应倾斜面。第三金刚石层在所述倾斜面和位于空间下面的基片的部分上。

    散热器和使用了该散热器的半导体元件和半导体封装体

    公开(公告)号:CN1499620A

    公开(公告)日:2004-05-26

    申请号:CN200310114841.7

    申请日:2003-11-07

    Abstract: 本发明提供一种散热器和使用了该散热器的半导体元件和半导体封装体。在本发明的带有散热器的半导体元件和半导体封装体中,在半导体元件的背面上直接接合了由金刚石层或碳化硅和氮化铝等的陶瓷层构成的具有高热传导特性的散热器。在半导体元件的制作工序前、工序中或工序后的任一过程中,将该散热器直接覆盖并形成在作为基体材料的硅晶片或芯片上。利用这样的结构使半导体元件的散热特性良好,同时可一同提高半导体元件的安装可靠性和散热片的接合可靠性。此外,在本发明的散热器中,经高分子粘接层将金属或陶瓷构件覆盖在金刚石层上。金刚石层的结晶在金刚石层的厚度方向上具有纤维状结构或微结晶。金刚石层的与该由金属或陶瓷构成的构件的接合面具有纤毛状结构。该结构作为半导体封装体的冷却散热器,其散热特性极为良好,其本身具有足够的强度、平面性和气密性,而且与半导体元件和陶瓷等的构成封装体本体的密封材料的粘接性是良好的。

Patent Agency Ranking