一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺

    公开(公告)号:CN118550153A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202410839892.8

    申请日:2024-06-26

    Abstract: 本发明公开了一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺,属于微纳制造领域。包括:硅衬底清洗;得到硅衬底上均匀分布的无缺陷低界面黏附可转移光刻胶膜。去除胶层内的溶剂并提高光刻胶膜的机械擦伤能力。转移,将光刻胶转移到柔性印章上。将硬质母掩模版图案等比例转移到光刻胶上。将硬质母掩模版图案等比例复制到光刻胶上。金属沉积;通过沉积一层不透光金属,最终实现大面积高分辨柔性掩模版的高效、低成本制备。用胶带将结构外的金属和光刻胶缓慢剥离,得到大面积高分辨柔性掩模版。该发明不仅为传统柔性掩模版加工制造提供了更可靠和高效的工艺,使得制造过程更加稳定和高效,同时也能满足大幅面的制造需求。

    一种结合超构透镜及折射镜头的混合光学系统设计方法

    公开(公告)号:CN117687203A

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202311722458.3

    申请日:2023-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种结合超构透镜及传统折射镜头的混合光学系统设计方法,包括以下步骤:步骤1:折射镜头与相位面的光线追迹设计优化,获得超构透镜的理想相位轮廓;步骤2:根据理想相位轮廓设计超构透镜,获得超构透镜实际离散相位分布;步骤3:将超构透镜的实际离散相位取代理想相位面进行适用于折超混合系统的衍射传播仿真,获得光学系统的像质评价指标;沿步骤1‑3依次进行,完成后对光学系统的像质评价指标进行评价,若像质评价指标符合技术要求,则完成折超混合光学系统的设计,得到光学系统的结构参数;若不符合技术要求,则重返步骤1重复步骤进行设计优化。

    用于无标记光谱检测的介电超构表面传感芯片

    公开(公告)号:CN116087117A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202211735840.3

    申请日:2022-12-30

    Abstract: 本发明公开了用于无标记光谱检测的介电超构表面传感芯片,包括从下至上依次设置的玻璃衬底和超表面微结构,所述超表面微结构为二氧化钛纳米椭圆二聚体。本发明用于无标记光谱检测的介电超构表面传感芯片可以作为一种高光谱显微成像分析系统的活性纳米载玻片用于肿瘤组织的无标记检测。全介质超构表面由玻璃衬底上的周期性排列的高折射率二氧化钛椭圆二聚体纳米结构组成,其激发的连续域中的束缚态共振模式支持高光谱分辨率和强光与物质相互作用,在可见光波段内降低了光学损耗和提高了检测灵敏度,本发明具有低光学损耗、加工简单,且可通过对多个结构参数的调控以适应不同工作波长的优势。

    一种基于转印工艺的大面积跨尺度超透镜快速制备方法

    公开(公告)号:CN119270396A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411486861.5

    申请日:2024-10-23

    Abstract: 本发明公开了一种基于转印工艺的大面积跨尺度超透镜快速制备方法,涉及微纳制造领域;包括衬底清洗、一次涂胶、一次前烘、一次曝光、二次涂胶、二次前烘、转移、二次曝光、释放、显影、深硅刻蚀以及干法去胶;本发明通过可转移可释放的光刻胶近场接触式光刻技术、深硅刻蚀工艺、干法去胶工艺等,实现大面积跨尺度超透镜快速低成本制备。本方法能够借助可转移的光刻胶实现完美的接触式曝光,可轻易达到近红外超透镜的结构精度。该发明不仅利用力学性能优异的可转移光刻胶保护力学性能低的光刻胶,实现大面积双层光刻胶完美无损剥离及释放的关键问题,还为大面积跨尺度超透镜制备提供了一个效率高、成本低、简单、可快速复制的方案。

    一种基于超构透镜的光谱偏振成像器件及实现方法

    公开(公告)号:CN118376320A

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202311722459.8

    申请日:2023-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于超构透镜的光谱偏振成像器件及实现方法,所述光谱偏振成像器件包括第一层透明介质衬底,设置在第一层透明介质衬底上的电介质纳米结构单元,以及与电介质纳米结构单元间隔设置的成像探测器,所述电介质纳米结构单元包括多种形状非对称的结构,所述成像探测器包括第一种偏振态光线聚焦区域,与第一种偏振态光线聚焦区域相互正交的第二种偏振态光线聚焦区域。本发明通过结构相位匹配合理的设计了超构透镜的相位分布,实现偏振依赖的色散超构透镜,能在不同偏振光入射下进行分别色散聚焦,实现光谱和偏振成像。

    一种基于超构表面的偏振不敏感动态光束偏折器件及实现方法

    公开(公告)号:CN117872639A

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202311722455.X

    申请日:2023-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于超构表面的偏振不敏感动态光束偏折器件及实现方法,涉及微纳光学器件技术领域。依次包括底层介质衬底、金属反射层、电介质纳米柱结构阵列、第一种电介质材料层、第二种电介质材料层、向列相液晶、光致取向层、氧化铟锡透明电极以及顶层透明介质衬底,其中电介质纳米结构柱阵列包覆在第一种电介质材料层之内。本发明通过将超构表面与液晶进行集成,对液晶施加不同的电压调控液晶的折射率,从而调控超构表面出射光的相位延迟,构建出不同的相位梯度,实现光束偏折的动态可调。本发明由于不具有机械运动部件,因此可避免损耗和可靠性问题,并且该光束偏折器件功耗低、偏转效率高、体积小,易加工,具有大规模生产的潜力。

    一种端到端逆向优化的多波长多偏振超构表面设计方法

    公开(公告)号:CN117763954A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202311722462.X

    申请日:2023-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种端到端逆向优化的多波长多偏振超构表面设计方法,所述设计方法包括以下步骤:S1:FDTD进行结构参数扫描构建纳米单元结构的相位和透过率响应数据库;S2:利用神经网络学习响应数据库,构建纳米单元结构参数与响应之间的映射关系;S3:构建可微分的空间自由传播的衍射算法,计算超构表面的衍射图像;S4:制定目标函数,通过衍射图像计算目标函数值来评价超构表面设计的质量;S5:根据链式法则,求取目标函数值相对于超构表面结构参数的梯度值;S6:根据梯度信息进行反向传播,设定合适的学习率更新超构表面结构参数;S7:不断迭代,最小化目标函数值,优化得到超构表面的结构参数矩阵。

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