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公开(公告)号：CN1721960A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510084071.5
申请日：2005-07-12
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 佐野道明
IPC: G02F1/136 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法，作为具有其透光部、遮光部和半透光部在一个方向按照该顺序邻接的图形的灰色调掩模，半透光部的透射率分布良好，与透光部邻接的遮光部的图形剖面形状良好，透光部的图形精度良好。它是具有由遮光部、透光部和半透光部构成的图形的灰色调掩模(10)，所述图形具有其透光部、遮光部和半透光部在一个方向按照该顺序邻接的图形，所述遮光部由形成遮光部的遮光膜(13a)和该遮光膜(13a)上的除与所述透光部的邻接部中的遮光部一侧的所希望的裕量区域以外的区域所形成的半透光膜(12a)层叠而成。
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公开(公告)号：CN101339362B
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN200810135715.2
申请日：2008-07-03
Applicant: HOYA株式会社 , 韩国HOYA电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种灰阶掩模的缺陷修正方法，是具有遮光部(21)、透光部(22)以及将掩模使用时所用的曝光光的透过量降低到规定量的半透光部(23)的灰阶掩模(20)的缺陷修正方法，半透光部(23)由半透光膜(26)形成，具有：在半透光部(23)中，在产生缺陷时确定该缺陷部分(51)、(52)的工序；将包含该缺陷(51)、(52)的半透光部即由遮光部和透光部的至少一方包围的区域的半透光部(23)的全体的半透光膜(26)除去的工序；和在除去该半透光膜(26)的区域(53)，形成和所述半透光膜(26)原材料或组成不同的半透光性的修正膜(27)的工序。
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公开(公告)号：CN101359168B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200810130151.3
申请日：2008-07-30
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及一种灰色调掩模的制造方法以及灰色调掩模、灰色调掩模的检查方法以及图案转印方法，能够定量检查半透光部使用半透光膜的灰色调掩模的制造阶段所能够产生的校准偏差。本发明中，通过在使用至少包含两次描绘工序的构图工序而在形成于透明基板上的膜上形成图案而制造具有遮光部和透光部和半透光部的灰色调掩模，通过第一次描绘工序得到的第一抗蚀剂图案包含第一标志，通过第二次描绘工序得到的第二抗蚀剂图案包括第二标志，测量第一抗蚀剂图案的第一标志或相当于该第一标志的膜图案的边缘和第二抗蚀剂图案的第二标志或相当于该第二标志的膜图案的边缘的距离，来检查该距离是否在规定范围内。
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公开(公告)号：CN101866107A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN201010202441.1
申请日：2007-02-16
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 佐野道明
IPC: G03F1/08 , G03F1/00 , G03F7/00 , G02F1/1333
Abstract: 公开了一种四级光掩模及其使用方法以及四级光掩模制造用光掩模坯料。所述四级光掩模包括遮光部分、光透射部分及分别具有不同的透光率的第一光半透射部分和第二光半透射部分，并在转印目标上形成厚度阶段性地或连续地变化的抗蚀图案，所述四级光掩模的特征在于，所述第一光半透射部分通过在透明衬底的表面上设置光半透射性的第一光半透射膜而构成，所述第二光半透射部分通过在所述透明衬底的表面上设置光半透射性的第二光半透射膜而构成，所述第二光半透射部分和所述第一光半透射部分的曝光光的透光率不同，所述遮光部分通过在所述透明衬底的表面上层叠所述第一光半透射膜、遮光膜及所述第二光半透射膜而构成。
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公开(公告)号：CN100590522C
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200610008320.7
申请日：2006-02-17
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 佐野道明
Abstract: 在形成了具有遮光部、透光部以及半透光部的装置图形；以及用于位置对齐的标记图形的灰调掩模的制造方法中，具有：准备在透明基板上至少形成了遮光膜的掩模版的步骤；遮光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：形成第1抗蚀图形，将该第1抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜；在形成了遮光部图形的透明基板上形成半透光膜的步骤；以及半透光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：形成第2抗蚀图形，将该第2抗蚀图形作为掩模，蚀刻半透光膜，在遮光部图形形成步骤中，在形成遮光部图形的同时，形成具有遮光部和透光部的所期望的标记图形，在半透光部图形形成步骤中的第2描绘图形的描绘之前，具有使得在上述标记图形中的透光部不存在半透光膜的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101408725A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200810178589.9
申请日：2008-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种灰色调掩模的制造方法、灰色调掩模及图案转印方法。其中，准备在透明基板上依次具有半透光膜和遮光膜的灰色调掩模板，对该灰色调掩模板施加第一次构图，在包含被构图的遮光膜和露出的半透光膜的透明基板整个表面上形成抗蚀剂膜之后，通过进行第二次构图，在该半透光膜和该遮光膜上分别进行预定构图，从而形成灰色调掩模。并且，相对于所述第一次构图时的描绘光的所述遮光膜的表面反射率和相对于所述第二次构图时的描绘光的所述半透光膜的表面反射率的差，被调整为35％以下。
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公开(公告)号：CN101038445A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710088511.3
申请日：2007-03-14
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F1/14 , H01L21/027
Abstract: 一种图案形成方法，具有利用采用了光刻法的多个图案形成工序，在同一基板上形成图案的工序，其中，至少具有：形成描绘对位所使用的对准标记的工序；和利用所述对准标记进行对位来描绘图案的工序，所述对准标记由遮光部以及透光部构成，在描绘所述图案的工序之前，除去在最上层具备反射防止膜的所述对准标记的遮光部的所述反射防止膜。
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公开(公告)号：CN101025563A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710005862.3
申请日：2007-02-25
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 佐野道明
IPC: G03F1/00
Abstract: 本发明提供一种光掩模的缺陷的检查方法，所述光掩模具有：具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域(9)、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域(10A、10B、10C、10D)，在所述光掩模中，在不存在像素图案区域或者周边图案区域的空白空间(21)上，设置排列有分别与周边图案区域(10A、10B、10C、10D)的图案相同的图案的检查用图案区域(20A、20B、20C、20D)，通过比较这些周边图案区域和检查用图案区域，检查该周边图案区域中的图案的缺陷。
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公开(公告)号：CN1837956A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200610065456.1
申请日：2006-03-22
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 佐野道明
IPC: G03F1/00 , H01L21/027 , G02F1/136
Abstract: 灰色调掩模和薄膜晶体管基板的制造方法。本发明的课题是提供一种灰色调掩模，具备用灰色调掩模形成的器件图形、和用另外的光掩模被形成为具有与该器件图形重叠的部分的与栅电极及接触孔等相关的准确的标记。作为解决手段，具有掩模图形、以及与掩模图形的半透光部的形成的同时形成的与第2器件图形相关的标记图形(31)，该掩模图形作为用于制造至少具有一个用灰色调掩模(20)形成的第1器件图形(30)、和用另外的光掩模被形成为具有与该第1器件图形(30)重叠的部分的接触孔(H)等的第2器件图形的被复制基板的、与第1器件图形(30)对应的掩模图形，与第1器件图形(30)和第2器件图形重叠的部分对应的灰色调掩模(20)上的区域成为半透光部。
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