公开(公告)号：CN106104408A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201480074476.8

申请日：2014-11-28

Applicant: 行动股份有限公司 ,  C·C·冯·巴丁斯基 ,  M·J·斯特拉瑟 ,  P·特维斯

Inventor： C·C·冯·巴丁斯基 ,  M·J·斯特拉瑟 ,  P·特维斯

IPC: G06F1/16

CPC classification number: G06F1/163 ,  A61B5/01 ,  A61B5/0205 ,  A61B5/021 ,  A61B5/02416 ,  A61B5/0404 ,  A61B5/0452 ,  A61B5/1118 ,  A61B5/14532 ,  A61B5/1455 ,  A61B5/681 ,  A61B5/6826 ,  A61B2560/0214 ,  A61B2560/0412 ,  A61B2562/146 ,  A61B2562/164 ,  A61B2562/166 ,  G01P15/00 ,  G02B19/0042 ,  G02B19/0052 ,  G02B19/0061 ,  G04G21/02 ,  G04G21/025 ,  G06F1/1635 ,  G06F3/014 ,  G06F3/017 ,  G06F3/14 ,  G06F21/32 ,  G06K9/00885 ,  G06K9/00892 ,  G06K9/6202 ,  G06K2009/00939 ,  G08B5/36 ,  G08B21/02 ,  G08C17/02 ,  G08C2201/30 ,  H02J7/0044 ,  H02J7/0047 ,  H02J7/355 ,  H02S40/22 ,  H02S99/00

Abstract: 本公开描述了一种环形物形式的穿戴式计算装置(WCD)，所述WCD可穿戴于作为人的用户的手指上。所述WCD使能穿戴式体质监测器，所述穿戴式体质监测器适于长期使用且结果准确。本公开的一个方面提供了所述WCD，所述WCD包括：内壁、外壁、设置于所述内壁和所述外壁之间的柔性印刷电路板，和设置于所述柔性印刷电路板上的至少一个部件；其中所述内壁和所述外壁中的至少一者限定了窗口，所述窗口有利于数据传输、电池再充电和状态指示中的至少一者。

公开(公告)号：CN104597700B

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201410584621.9

申请日：2014-10-27

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 坂井俊彦 ,  平野训之

IPC: G02B27/09 ,  G06F3/042 ,  G02B19/00

CPC classification number: F21V5/04 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0927 ,  G06F3/0425

Abstract: 本发明提供有效利用从光源出射的光且小型、构成简单地沿该平面使光出射的光出射装置。光出射装置具备：光源(31)，其出射在第一方向(H)和第二方向(V)上配光分布不同、且光强度高的照射角度区域为第一方向(H)比第二方向(V)宽的分布的光；准直透镜(32)，其使从光源(31)出射的光平行化；和鲍威尔透镜(33)，其使由准直透镜(32)平行化的光作为在第一方向(H)上扩展、在第二方向(V)上维持由准直透镜(32)平行化的方向、并以与第一方向(H)及第二方向(V)正交的第三方向为中心轴的光出射。

公开(公告)号：CN104685397B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201380050201.6

申请日：2013-09-10

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 中山佳佑

IPC: G02B6/42 ,  G02B7/02 ,  G02B19/00 ,  B29C45/00 ,  B29C33/00 ,  H01L31/0232 ,  H01S5/022

CPC classification number: G02B6/4206 ,  B29C33/005 ,  B29C45/0025 ,  B29C2045/0034 ,  B29L2011/0016 ,  G02B6/4255 ,  G02B6/4292 ,  G02B7/022 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  H01L31/02325 ,  H01S5/02212 ,  H01S5/02288

Abstract: 本发明提供一种成形性提高、可对制造工序中的污染等进行抑制并且可谋求成本降低的光通信用的透镜及使用该透镜的光通信模块和成形模具。在原材料冷却后，使可动模具(MM)相对于固定模具(FM)以一体地远离的方式位移。此时，由于固定模具(FM)的配合面(FM3)处于从固定模具(FM)的最里面在光轴方向上离开Δ2＝L/10～L/2的位置，所以，成形品处于粘在可动模具(MM)那一侧的状态。另外，在分型线即使产生毛刺，折损的毛刺附着在透镜光学面上的危险也少。并且，由于使固定模具(FM)的配合面(FM3)处于从固定模具(FM)的最里面在光轴方向上离开Δ2＝L/10～L/2的位置，所以，可使内浇道(GT)从光学面(S2)离开，在内浇道的切断时、研磨处理时可对塑料片、研磨粉在光学面S2上的附着进行抑制。

公开(公告)号：CN101652709B

公开(公告)日：2013-08-28

申请号：CN200880011026.9

申请日：2008-04-02

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： F·A·范阿比伦 ,  A·V·亨詹

IPC: G02F1/167 ,  G02B5/04

CPC classification number: G02F1/167 ,  G02B5/045 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0052 ,  G02F1/133524 ,  G02F1/133553 ,  G02F1/1681 ,  G02F2001/133562 ,  G02F2203/026

Abstract: 本发明涉及一种反射式显示器，该反射式显示器包括衬底以及布置为反射穿过该衬底的入射光的反射层，该反射层例如包含具有电泳悬浮物的微囊，其中将该衬底构造成形成具有反射壁的多个漏斗形突起，利用顶端面向反射层3以及底端与反射层远离面对来定向每个突起。根据这个设计，以足够大反射角反射的光受到突起壁的一次或多次反射。在每次反射时，穿过衬底的光的传播角度降低了壁与反射层的法线之间的角度的两倍。

公开(公告)号：CN102292663A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN201080005134.2

申请日：2010-02-17

Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司

Inventor： A·米哈伊洛夫 ,  Y·科罗图史金

IPC: G02B27/09

CPC classification number: G02B27/0927 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0966

Abstract: 一种用于使激光辐射(1)均匀化的设备，包括多个相互错开设置的反射镜元件(6)，要均匀化的激光辐射(1)能在反射镜元件(6)上被反射使得激光辐射被分成数量与反射镜元件(6)的数量相对应的子束(8)，子束通过反射而相互具有光程差；多个透镜元件(4)，为透镜元件中每一个分别分配反射镜元件(6)之一，使得子束(8)中每一个都能穿过透镜元件(4)之一；其中反射镜元件(6)中每一个与分配给这一反射镜元件的透镜元件(4)之间的距离等于各自透镜元件(4)的焦距(f4)。

公开(公告)号：CN101231385B

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：CN200810044818.8

申请日：2008-02-26

Applicant: 四川大学

Inventor： 李铭 ,  张彬 ,  戴亚平 ,  王韬

IPC: G02B17/06 ,  G02B27/09 ,  H01S3/10

CPC classification number: G01J3/18 ,  G01J2003/1213 ,  G01J2003/1282 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0944 ,  G02B27/0983 ,  H01S3/005

Abstract: 本发明涉及一种用于啁啾脉冲放大(CPA)系统的光谱整形调制方法。该方法在光谱调制整形过程中，采用改进的CTSI系统，即采用成对称的CTSI光谱分解系统和CTSI光谱合成系统，并采用光谱调制系统；利用CTSI光谱分解系统先将激光啁啾脉冲完全真实展开到光谱面，再利用光谱调制系统在像平面上进行光谱调制，然后利用CTSI光谱合成系统将调制后的光谱无畸变的还原为调制后的啁啾脉冲，达到啁啾脉冲光谱调制整形的目的。本发明方法可对一般激光脉冲实现光谱调制和光谱整形，尤其适用于几个纳米带宽的大口径大能量高功率啁啾脉冲放大系统的光谱调制和光谱整形。

公开(公告)号：CN100514211C

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200610172465.0

申请日：2006-12-26

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 藤田浩一 ,  大久保宪造 ,  和田孝澄 ,  小野泰宏 ,  大野孝之

IPC: G03G15/04 ,  G03G15/00 ,  H04N1/04

CPC classification number: G02B26/125 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0911

Abstract: 本发明的激光扫描光学系统，通过准直透镜将从激光二极管(LD)发出的多条光束变为平行光，通过窗孔对其进行整形，在感光体滚筒上同时进行多条线的曝光。为了使由光学系统的放大倍数唯一决定的必要发光点间距(d)与使用的激光二极管(LD)的发光点间隔一致，而使激光二极管(LD)相对于其主光轴面旋转角度(θ)。具有转换此时从激光二极管(LD)射出的光束的轮廓的纵横比的转换元件。转换元件的转换特性与光学系统的特性相配合以符合既定范围的条件。

公开(公告)号：CN101416114A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200780011934.3

申请日：2007-04-04

Applicant: 特萨斯克里伯斯有限公司

Inventor： S·内特 ,  R·托曼

IPC: G03F7/20 ,  G03H1/08

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B21/08 ,  G02B21/245 ,  G02B27/0081 ,  G02B27/0955 ,  G03H1/0891 ,  G03H2001/0224 ,  G03H2001/048

Abstract: 本发明涉及一种用于微构造存储介质(2)的设备，该设备包括用于根据电磁辐射来产生至少部分相干光束的辐射源(4)、具有多个单独可切换调制器单元的调制器(6)、用于照射调制器(6)的光束形成光学单元(8)、用于缩减由调制器(6)辐射的光束的缩减光学单元(10)和用于相对于缩减光学单元来转移存储介质(2)的传送台(12)。本发明的目的在于解决由于微构造的写入和单独衍射光学单元(DOE)、特别是具有高速度和高写入能量的由计算机生成的全息图所引起的技术问题。可以实现所述目的是因为缩减光学单元(10)被配置有受限的衍射并且所述单元(10)产生相对于单独调制器单元的表面至少为25的表面缩减。本发明也涉及一种用于控制所述设备的方法和一种由此描述的存储介质。

公开(公告)号：CN100412598C

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200580009446.X

申请日：2005-03-14

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 多田一成 ,  桥村淳司 ,  大利祐一郎

IPC: G02B13/00 ,  G02B3/06 ,  G02B27/09 ,  G11B7/135

CPC classification number: G02B27/0966 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G11B7/1378 ,  G11B7/13922 ,  G11B7/1398

Abstract: 本发明涉及一种光束整形元件BC，该光束整形元件将自半导体激光光源射出的激光从椭圆光束变换为圆形光束，对于第1面S1和第2面S2，两面都只在椭圆光束截面的短轴方向具有曲率，一个面为圆弧圆柱形面，另一个面为非圆弧圆柱形面。并且，满足条件式：1.2≤T1/T0≤10，其中，T1为光束整形元件BC的芯厚、T0为半导体激光光源和光束整形元件BC之间的轴上光学距离。

公开(公告)号：CN1708699A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200380102476.6

申请日：2003-11-03

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司 ,  纳卢克斯株式会社

Inventor： K·哈塔德 ,  P·T·朱特 ,  J·M·A·范登伊伦比姆德

IPC: G02B3/02 ,  G02B27/09 ,  G11B7/125

CPC classification number: G02B27/09 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0955 ,  G02B27/0972 ,  G11B7/1376 ,  G11B7/1398

Abstract: 一种光束整形光学元件，采用使像差最小的非球面轮廓。根据本发明的光束整形光学元件包括入射面和出射面，这两个面在包括光轴的任意平面内都具有非圆形的横截面。根据本发明一个实施方案的光束整形光学元件，其光轴与三轴直角坐标系XYZ的Z轴重合，用数学方程式表示入射面和/或出射面，所述数学方程式包括表示非旋转对称的非球面轮廓的项、至少一个仅包含变量X的函数的校正项以及至少一个仅包含变量Y的函数的校正项。