公开(公告)号：CN100399648C

公开(公告)日：2008-07-02

申请号：CN200410058614.1

申请日：2004-07-23

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 三好明 ,  矢野哲也

IPC: H01R43/28

CPC classification number: H01R43/052 ,  Y10T29/49181 ,  Y10T29/53213 ,  Y10T29/53235 ,  Y10T29/53261

Abstract: 本发明提供一种不需要根据电线直径的不同进行更换电线管嘴部的作业，便于缩短更换作业内容的作业时间的电线处理机。电线导向部(16)具备：固定辊(20)；能自如地相对固定辊(20)接近或离开地支承着，与固定辊(20)共同从两侧夹持电线(2)的活动辊(21)。电线管嘴部(17)具备：固定管嘴导向部(28)；配置成能自如滑动、与固定管嘴导向部(28)共同形成插入电线(2)的管嘴开口的活动管嘴导向部(30)。具备连接活动辊(21)和活动管嘴导向部(30)并联动的连杆机构(23)。具备向使活动辊(21)与固定辊(20)接近的方向施加力的施力弹簧(25)。根据用活动辊(21)和固定辊(20)夹持的电线直径的大小，通过连杆机构(23)使活动管嘴导向部(30)滑动，调整管嘴开口的大小。

公开(公告)号：CN100372591C

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200510116060.0

申请日：2005-10-25

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 须贺雅庸 ,  岩上修治 ,  加藤淳志

IPC: B01D47/02

CPC classification number: Y02W10/15

Abstract: 一种湿式集尘装置，在外壳(10)的内部设置有划分第1空间(R1)和第2空间(R2)的隔板(15)、和在第1空间(R1)形成气体流路的第1～第4流路形成板(17a)～(17d)。在第2空间(R2)中设置有除臭件(40)。在外壳(10)的底部配置有向处理水(W)供给由送风机(32)送出的空气的气体供给管(31)。处理水(W)含有需氧微生物。通过由气体供给管(31)供给的空气，对处理水(W)进行曝气处理。在这种湿式集尘装置中，可在净化进行了排气集尘的处理液时，减轻净化槽的负荷，或不需要净化槽。

公开(公告)号：CN101128373A

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：CN200680006236.X

申请日：2006-02-14

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 小川健一 ,  冈田基 ,  山川健司 ,  武内清

IPC: B65G27/02 ,  B65G47/14 ,  C23C14/24

CPC classification number: B65G47/1421 ,  B65G27/02 ,  B65G27/32 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243

Abstract: 本发明提供一种能够正确地对被输送物体的个数进行计数的振动碗。振动碗(10)具备能够贮存被输送物体(15)的集合体的凹部(10a)、在所述凹部(10a)的内侧对所述被输送物体(15)施加振动从而能够输送被输送物体(15)的输送通路(20)、形成能够对存在于所述输送通路(20)的终端近旁的所述被输送物体(15)的被输送方向，大约垂直方向并且向斜下方，将所述被输送物体(15)向所述凹部(10a)的外侧排出的结构的阶梯部(26)。

公开(公告)号：CN100354044C

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200510118055.3

申请日：2005-10-26

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 须贺雅庸 ,  岩上修治 ,  加藤淳志

IPC: B02C18/06 ,  B02C18/18 ,  B02C18/22 ,  B02C18/16 ,  B02C25/00

Abstract: 一种粉碎机(1)具备投入厨房垃圾的投入筒、被连接在投入筒的下部的罩(28)。在罩(28)的内部收容有由驱动马达(36)驱动旋转的圆板(31)。在圆板(31)上固定有沿周方向每隔90度配置的4个旋转刃(41)。罩(28)具备与圆板(31)相对的顶板。在顶板上固定有与旋转刃(41)相对的椭圆环状的固定刃(42)。圆板(31)旋转后，旋转刃(41)旋转移动，旋转刃(41)和固定刃(42)的交叉角度(θ)连续变化。因此，这种粉碎机即使在厨房垃圾内混入难粉碎物时，也难以导致刃的破损或装置的运行停止。

公开(公告)号：CN1930319A

公开(公告)日：2007-03-14

申请号：CN200580007849.0

申请日：2005-03-10

Applicant: 新明和工业株式会社 ,  株式会社大岛电机制作所

Inventor： 米山信夫 ,  中山孝 ,  泷川志朗 ,  梅泽隆男 ,  石泽资右 ,  高野博史

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C23C14/34 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/3435

Abstract: 本发明提供一种能够对依然装载于成型加工用的模具上的基体材料进行成膜加工的成膜装置。该装置具有一端利用底部封闭，另一端开放的筒状的框体(1h)、设置于所述底部内表面的靶(1a)、以及贯通框体(1h)的壁部形成的端口(3b)。

公开(公告)号：CN1804344A

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN200610002526.9

申请日：2006-01-10

Applicant: 新明和工程株式会社 ,  新明和工业株式会社

Inventor： 小森保彦

IPC: E04H6/18 ,  E04H6/28

Abstract: 本发明提供使车辆升降装置的车辆路面与上下用甲板面大致为一平面，形成上下容易的结构的停车设备。车辆升降装置设置：在设置停车棚的停车塔的垂直方向上升降的升降框架、将升降框架上的托盘存放于停车棚的横向驱动装置、在该升降框架上从下部支持托盘的旋转框架、在升降框架上使该旋转框架旋转的旋转驱动装置、设置于该旋转框架与升降框架之间，抑制旋转框架旋转的配合机构、以及使旋转框架从在托盘的车辆路面与上下用甲板的上表面大致为一平面的位置上吊挂升降框架，以配合机构抑制旋转的状态，上升到托盘与上下用甲板互不干扰的位置，然后使其上升到解除配合机构对旋转的抑制的位置的柱塞缸。

公开(公告)号：CN1599155A

公开(公告)日：2005-03-23

申请号：CN200410058614.1

申请日：2004-07-23

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 三好明 ,  矢野哲也

IPC: H01R43/28

CPC classification number: H01R43/052 ,  Y10T29/49181 ,  Y10T29/53213 ,  Y10T29/53235 ,  Y10T29/53261

Abstract: 提供一种不需要根据电线直径的不同进行更换电线管嘴部的作业，便于缩短更换作业内容的作业时间的电线处理机。电线导向部(16)具备：固定辊(20)；能自如地相对固定辊(20)接近或离开地支承着，与固定辊(20)共同从两侧夹持电线(2)的活动辊(21)。电线管嘴部(17)具备：固定管嘴导向部(28)；配置成能自如滑动、与固定管嘴导向部(28)共同形成插入电线(2)的管嘴开口的活动管嘴导向部(30)。具备连接活动辊(21)和活动管嘴导向部(30)并联动的连杆机构(23)。具备向使活动辊(21)与固定辊(20)接近的方向施加力的施力弹簧(25)。根据用活动辊(21)和固定辊(20)夹持的电线直径的大小，通过连杆机构(23)使活动管嘴导向部(30)滑动，调整管嘴开口的大小。

公开(公告)号：CN1532563A

公开(公告)日：2004-09-29

申请号：CN03156715.0

申请日：2003-09-08

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 生水出淳史 ,  床本勋 ,  堀崇展 ,  古塚毅士

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/115

Abstract: 本发明公开了一种光学增透膜(反射防止膜)及其镀膜方法。一层具有与丙烯酸树脂基片的折射率基本相等的折射率的第一一氧化硅膜制备在该基片上至大约200钠米厚度，在该第一一氧化硅膜上制备一层折射率值在1.48至1.62之间范围内的第二一氧化硅膜至大约200钠米厚度。还有，例如在高低型增透膜的情况中，使用一特殊的离子镀装置制备一层折射率值在2.2至2.4之间范围的二氧化钛膜，以作为从最外层起算的第二层。

公开(公告)号：CN1410588A

公开(公告)日：2003-04-16

申请号：CN02151451.8

申请日：2002-09-20

Applicant: 新明和工业株式会社 ,  株式会社日立制作所

Inventor： 堀崇展 ,  梶山博司 ,  加藤明

IPC: C23C14/32 ,  C23C14/06

CPC classification number: C23C14/0694 ,  C23C14/32 ,  C23C14/54 ,  G02B1/113

Abstract: 本发明提供一种即使卤素元素从膜形成材料中分离也能一边抑制由卤素元素的缺乏所引起的弊端一边进行成膜的卤素化合物的成膜方法及成膜装置。具体地说，使卤素化合物构成的膜的材料从蒸发源(3)蒸发，同时通过从高频电源单元(11)输出并经过衬底支架(2)而供给的高频功率使之离子化，使离子化的膜的材料被析出到衬底(5)上进行成膜。而且，通过从偏置电源单元(12)输出并施加到衬底支架(2)上的偏置电压，将从卤素化合物的离子中分离的卤素元素的离子吸入衬底(5)。

公开(公告)号：CN1384219A

公开(公告)日：2002-12-11

申请号：CN02106731.7

申请日：2002-03-04

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 渡部尚 ,  近藤隆彦 ,  山川健司

IPC: C23C14/30 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/568 ,  C23C14/30

Abstract: 一种多层膜的成膜方法、真空成膜装置及真空成膜装置的控制装置,在多层膜成膜时,用较短的时间完成所有层的成膜。用电子枪加热膜的原料而进行的两层以上的多层膜的成膜,通过向配置于真空腔内的基板蒸发膜的原料的主加热工序R2、R4及预热膜的原料的预热工序R1、R3来进行。在执行由多台电子枪中的某一台形成一层膜的主加热工序R2期间,利用另外的电子枪执行用于形成另一层膜的预热工序。