公开(公告)号：CN112447506A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010871334.1

申请日：2020-08-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 小杉纯一 ,  杨映保

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02 ,  H01L21/84

Abstract: 本发明涉及激光退火装置及激光退火方法。激光退火装置具备：光源，其射出连续振荡的激光；以及光学头，其将从光源射出的各个激光加工成为收敛的激光束，激光束能够对应地投影到位于栅极线的上方的改质预定区域内，光学头在激光束中最收敛的点部位于改质预定区域的非晶硅膜的膜内部的状态下，在改质预定区域内沿着栅极线延伸的方向相对性地扫描激光束。

公开(公告)号：CN111684511A

公开(公告)日：2020-09-18

申请号：CN201980011675.7

申请日：2019-01-23

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  平野贵文

IPC: G09F9/33 ,  G09F9/30 ,  H01L33/50

Abstract: 本发明具备：LED阵列基板(1)，它是将放出紫外或蓝色波段的光的多个LED(4)呈矩阵状配置在布线基板(5)上而成；多个荧光发光层(2)，它们以使荧光色素均匀地分散到感光树脂中而具有的荧光抗蚀层的岛形图案的形式形成于对应三原色的多个所述LED(4)上，被从所述LED(4)放出的激发光激发而波长转换为对应颜色的荧光；以及遮光构件(3)，其被覆设置在所述荧光发光层(2)的除放光面(2a)以外的周面(2b)上，反射或吸收所述激发光及所述荧光。由此，可靠地防止邻接的荧光发光层间的混色。

公开(公告)号：CN109112476B

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN201811106536.6

申请日：2014-12-04

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/50

Abstract: 本发明提供成膜掩膜的制造方法，向树脂制的膜片(20)照射激光(L)而形成俯视下呈多边形的开口图案(4)，通过将使用光束整形用掩膜(10)进行整形的激光(L)向上述膜片(20)照射，来形成具有以开口从上述膜片(20)的与上述激光(L)的照射面相反的一侧朝向上述照射面侧扩大的方式倾斜的至少一对对置侧壁(4a)的开口图案(4)，其中光束整形用掩膜(10)具有供上述激光透过的透光窗(18)，且在该透光窗(18)的外侧使该透光窗(18)的至少一对边的侧方区域的透光率，随着从上述透光窗的边缘部朝向侧方逐渐减小。

公开(公告)号：CN108350561B

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201680063845.2

申请日：2016-10-14

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 工藤修二 ,  木村江梨子 ,  小林郁典

IPC: C23C14/04 ,  B23K26/18 ,  B23K26/38 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明进行如下工序：在能进行激光加工的树脂制的膜(4)的表里任意一面形成树脂制的支撑层(2)的工序，其中，该支撑层(2)包括与上述膜(4)不同的树脂材料，吸收波长比可见光短的激光(L1)；从与上述膜(4)的形成有上述支撑层(2)的面相反的一侧照射激光(L1)，形成贯通该膜(4)的开口图案(3)的工序；以及针对上述膜(4)选择除去上述支撑层(2)的工序。由此，能通过简单的工艺抑制在开口图案的缘部产生毛刺。

公开(公告)号：CN111264089A

公开(公告)日：2020-06-09

申请号：CN201880069088.9

申请日：2018-10-17

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 深谷康一郎 ,  梶山康一

IPC: H05K1/18 ,  H01L33/62 ,  H05K3/32

Abstract: 本发明是用于将微型LED(3)装配到配线基板(4)的基板连接结构，在与上述微型LED(3)的触点(5)对应地设置于上述配线基板(4)的电极焊盘(6)上，具备使上述触点(5)与上述电极焊盘(6)电连接的导电性的弹性突起部(7)，上述弹性突起部(7)是通过图案化形成的。由此，能安装电极间隔窄的电子部件。

公开(公告)号：CN111164502A

公开(公告)日：2020-05-15

申请号：CN201880063181.9

申请日：2018-11-08

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 新井敏成 ,  桥本和重

IPC: G02F1/1337

Abstract: 提供一种光照射装置等，不需将照射光线的光照射部倾斜，而可以使膜带生成光对准。本发明的一实施形态之中的光照射装置是包含对膜带照射偏光光线的光照射装置、及多个的运送装置，被设置在对膜带的偏光光线的照射位置的前后，用于运送膜带，其中可以改变多个的运送装置的各运送装置相对于偏光光线的照射方向的位置。

公开(公告)号：CN111052310A

公开(公告)日：2020-04-21

申请号：CN201880055632.4

申请日：2018-08-21

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

Abstract: 本发明的一实施方式的激光照射装置的特征在于，具备：光源，其产生激光；投影透镜，其向被覆于基板上的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光；及投影掩模图案，其设置在所述投影透镜上，并设有多个开口部以对于所述非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光，所述多个开口部分别具有基于所述投影透镜的投影倍率的透过率。

公开(公告)号：CN110998450A

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201880051589.4

申请日：2018-08-06

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  池田聪 ,  新井敏成 ,  三宅敢 ,  片山崇 ,  平井明

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337

Abstract: 一种用于体现预倾角而进行倾斜曝光的光取向用曝光装置，其能够使用廉价的散射光源即体积光源，并且以紧凑的方式获得均匀的照度分布。通过对被照射面向一个方向进行扫描曝光来进行光取向处理的光取向用曝光装置(1)，其具备：光源(2)，朝向被照射面(10S)射出散射光；光学滤波器(3)，在从光源(2)射出的光中选择性地射出紫外线；及照射角度限制部件(4)，在从光学滤波器(3)射出的光中选择性地射出相对于扫描方向倾斜照射的光，在照射角度限制部件(4)中，使平板状的光方向限制板(40)相对于被照射面(10S)以一定角度倾斜并沿扫描方向按设定间隔平行排列多个。

公开(公告)号：CN110945627A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201880047929.6

申请日：2018-07-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: H01L21/268 ,  G02B3/00 ,  H01L21/20

Abstract: 本发明的一方案的激光退火装置具备：光源，其产生激光；复眼透镜，其用于使激光的强度分布均匀；投影掩模，其遮蔽通过了复眼透镜的激光；及投影透镜，其由通过了投影掩模的激光形成向基板的规定的范围照射的激光束，为了抑制干涉条纹通过投影掩模而产生的莫尔条纹，使复眼透镜的排列方向相对于投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，该干涉条纹是激光通过复眼透镜而产生的干涉条纹。

公开(公告)号：CN107567199B

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201710521158.7

申请日：2017-06-30

Applicant: OHT株式会社 ,  株式会社V技术

Inventor： 羽森宽 ,  上田淳

IPC: H05K3/22 ,  H05K3/00 ,  G01N21/956 ,  G01R31/28

Abstract: 本发明提供非接触型电路图案检查修复装置，向形成于检查对象的基板上的导电体图案以非接触方式通过电容耦合供给交流的检查信号，将通过的检查信号作为检测信号接收，进行缺陷判定，将缺陷部位的信息和基板上的位置信息进行关联并作为坐标信息存储于存储器部，在修复缺陷部位时，维持将基板固定于检查位置的状态，读出坐标信息，确定基板上的缺陷部位的位置，通过切除修复部或沉积修复部进行修复。