公开(公告)号：CN1862674A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200610081969.1

申请日：2006-05-12

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 冈田训明 ,  仓田幸夫 ,  佐伯哲夫

IPC: G11B7/0065

Abstract: 全息记录再现装置(100)，利用空间光振幅调制器(3)控制全息记录媒体(7)中的信号光(12)和参考光(13)的位置以及区域规模。因此，全息记录再现装置(100)，通过将析像度高的空间光振幅调制器用作空间光振幅调制器(3)，能任意设定信号光(12)和参考光(13)的位置以及区域规模。而且，全息记录再现装置(100)通过利用空间光振幅调制器(3)控制参考光(13)的位置，能使对全息记录媒体(7)的入射角变化。由此，实现角度多重记录。

公开(公告)号：CN1497268A

公开(公告)日：2004-05-19

申请号：CN03160358.0

申请日：2003-09-25

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 北村和也 ,  仓田幸夫 ,  关本芳宏 ,  冈田训明 ,  藤田升 ,  长坂由起子 ,  中西浩

IPC: G02B3/00 ,  G02F1/1335 ,  G03B21/00 ,  H04N9/31

CPC classification number: G02F1/133526 ,  B29D11/00278 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0068 ,  G02B5/045

Abstract: 本发明的一个目的是提供制造能够提高光线的使用效率的微透镜矩阵和液晶显示设备，以及方便制造微透镜矩阵的方法和降低设备成本。通过只是用具有对应于第二微透镜矩阵形状的强度分布的平行光线照射第一透镜(12)以及采用透射光线来照射紫外线固化树脂层(33)，就可以高对准精度的相互位置关系来设置第一和第二透镜(12，14)。通过用平行光线照射第一透镜(12)，就可能均匀地曝光一较大的区域，并且有可能曝光晶片。

公开(公告)号：CN1493890A

公开(公告)日：2004-05-05

申请号：CN03159386.0

申请日：2003-09-12

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 北村和也 ,  冈田训明 ,  关本芳宏 ,  仓田幸夫 ,  中西浩

IPC: G02B3/00 ,  G02B27/18 ,  G02F1/13 ,  G03B21/14

CPC classification number: G03B21/208

Abstract: 本发明提供位置对准容易、高精度的微透镜阵列的曝光装置和高精度且光效率高的微透镜阵列的曝光方法。微透镜阵列的曝光装置，包括对来自光源的光束作二次点光源化的微蝇眼透镜(2)，调节二次点光源化后光的亮度的透过率分布掩膜(3)，使被所述亮度调节后的光成多个平行光束、并通过预先形成的第1微透镜阵列、以及导向形成第2微透镜阵列的感光性树脂层的视准透镜(4)。从光源射出的光，透过微蝇眼透镜(2)、透过率分布掩膜(3)和视准透镜(4)，在调节成所需的照度后对微透镜基板(6)的感光性树脂层进行曝光。