氮化物半导体发光器件
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1790762A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200510126713.3

    申请日:1995-12-04

    Abstract: 一种氮化物半导体发光器件,具有一个单量子阱结构或多量子阱结构的有源层(14),其由含铟和镓的氮化物半导体构成。一个由含铝和镓的P型氮化物半导体构成的第一P型覆盖层(61)被设置与有源层的一个面接触。一个由含铝和镓的P型氮化物半导体构成的第二P型覆盖层(62)被设置在第一P型覆盖层上。第二P型覆盖层具有比第一P型覆盖的带隙大的带隙。一个n型半导体层(13)设置与有源层(14)的另一面接触。

    氮化半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1340215A

    公开(公告)日:2002-03-13

    申请号:CN00803557.1

    申请日:2000-02-08

    Abstract: 一种包括GaN基底的氮化半导体器件,在所述GaN基底的表面至少有一个单晶GaN层,在所述GaN基底上有多个氮化半导体器件形成层。与所述GaN基底接触的器件形成层的热胀系数小于GaN的热胀系数,从而使器件形成层受到压应力的作用。结果可防止器件形成层产生裂纹,从而可改善氮化半导体器件的工作寿命。

    氮化物半导体发光器件
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100568550C

    公开(公告)日:2009-12-09

    申请号:CN200510126713.3

    申请日:1995-12-04

    Abstract: 一种氮化物半导体发光器件,具有一个单量子阱结构或多量子阱结构的有源层(14),其由含铟和镓的氮化物半导体构成。一个由含铝和镓的P型氮化物半导体构成的第一P型覆盖层(61)被设置与有源层的一个面接触。一个由含铝和镓的P型氮化物半导体构成的第二P型覆盖层(62)被设置在第一P型覆盖层上。第二P型覆盖层具有比第一P型覆盖的带隙大的带隙。一个n型半导体层(13)设置与有源层(14)的另一面接触。

    氮化物半导体发光器件
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101465400A

    公开(公告)日:2009-06-24

    申请号:CN200810109931.X

    申请日:1995-12-04

    Abstract: 一种氮化物半导体发光器件,具有一个单量子阱结构或多量子阱结构的有源层(14),其由含铟和镓的氮化物半导体构成。一个由含铝和镓的P型氮化物半导体构成的第一P型覆盖层(61)被设置与有源层的一个面接触。一个由含铝和镓的P型氮化物半导体构成的第二P型覆盖层(62)被设置在第一P型覆盖层上。第二P型覆盖层具有比第一P型覆盖的带隙大的带隙。一个n型半导体层(13)设置与有源层(14)的另一面接触。

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