半导体发光元件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107004743B

    公开(公告)日:2019-07-02

    申请号:CN201580060595.2

    申请日:2015-10-22

    Abstract: 一种半导体发光元件,该半导体发光元件包括:第一半导体层,该第一半导体层具有第一导电类型;发光功能层,该发光功能层包括形成在所述第一半导体层上的发光层;以及第二半导体层,该第二半导体层形成在所述发光功能层上并且具有与所述第一半导体层相反的导电类型。所述发光层包括:基底层,该基底层具有从所述第一半导体层经受应力应变的这种组分,并且具有形成为像随机网格的多个基底区段;以及量子阱结构层,该量子阱结构层由至少一个量子阱层和至少一个势垒层组成,所述至少一个量子阱层以嵌入所述基底层的方式形成。所述基底层具有多个子基底层,所述多个子基底层由具有相互不同的Al组分的AlGaN构成。

    第III族氮化物半导体发光元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN105977354B

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201610140279.2

    申请日:2016-03-11

    CPC classification number: H01L33/32 H01L33/007 H01L33/145

    Abstract: 本发明课题在于提供具有高寿命的第III族氮化物半导体发光元件及其制造方法。第III族氮化物半导体发光元件(1)的特征在于,其依次具备n型半导体层(32)、至少包含Al的发光层(40)、以及依次层叠有电子阻挡层(51)和p型包层(152)和p型接触层(53)的p型半导体层(150),电子阻挡层(51)为AlxGa1‑xN(0.55≤x≤1.0)、p型接触层(53)为AlyGa1‑yN(0≤y≤0.1)、p型包层(152)为AlzGa1‑zN、Al组成z在p型包层(152)的整个厚度范围从电子阻挡层(51)侧向p型接触层(53)侧递减,p型包层(152)的Al组成z的厚度方向的减少率为0.01/nm以上且0.025/nm以下。

    倒装发光芯片及其制造方法

    公开(公告)号:CN109037408A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201810927204.8

    申请日:2018-08-15

    CPC classification number: H01L33/10 H01L33/0075 H01L33/12 H01L33/14 H01L33/32

    Abstract: 本发明公开了一倒装发光芯片及其制造方法,其中所述倒装发光芯片包括一衬底和自所述衬底依次生长的一N型半导体层、一有源区、一P型半导体层、一反射层、一阻挡层、一粘结层、一第一绝缘层、一扩展电极层、一第二绝缘层、一N型电极和一P型电极,所述第一绝缘层具有至少一第一通道和至少一第二通道,所述扩展电极层的一第一扩展电极部和一第二扩展电极部分别层叠于所述第一绝缘层,并经所述第一通道延伸至所述N型半导体层和经所述第二通道延伸至所述阻挡层,其中所述第二绝缘层具有至少一第三通道和至少一第四通道,其中所述N型电极经所述第三通道延伸至所述第一扩展电极部,所述P型电极经所述第四通道延伸至所述第二扩展电极部。

    半导体发光芯片及其制造方法

    公开(公告)号:CN109037407A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201810874009.3

    申请日:2018-08-03

    CPC classification number: H01L33/10 H01L33/0075 H01L33/32 H01L33/36

    Abstract: 本发明公开了一半导体发光芯片及其制造方法,其中所述半导体发光芯片包括一衬底和自所述衬底依次生长的一N型半导体层、一有源区、一P型半导体层、一反射层、至少两绝缘层、一防扩散层以及一电极组,其中一个所述绝缘层环绕在所述反射层的内侧,另一个所述绝缘层环绕在所述反射层的外侧,并且所述绝缘层隔离所述防扩散层和所述P型半导体层,其中所述电极组包括一N型电极和一P型电极,其中所述N型电极被电连接于所述N型半导体层,所述P型电极被电连接于所述P型半导体层。

    金属光子晶体耦合增强nano-LED阵列及制造方法

    公开(公告)号:CN109037267A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201810698277.4

    申请日:2018-06-29

    CPC classification number: H01L33/06 H01L27/156 H01L33/007 H01L33/10 H01L33/32

    Abstract: 本发明公开了一种金属光子晶体耦合增强nano‑LED阵列及制造方法,自下而上包括:Si衬底、Ni/Au金属阵列和p电极连接线、nano‑LED阵列、n型GaN层、Ti/Au金属层;nano‑LED阵列结构自下而上包括:Ni/Au金属层、Ag金属层、p型GaN层、量子阱层、量子阱层上的n型GaN层;每个nano‑LED单体有单独的p接触,所有nano‑LED单体共用一个n接触;Ag金属层在阵列中构成Ag金属光子晶体,利用光子禁带和金属表面等离激元的性质增强发光效率,表面等离激元由Ag金属层产生;中间部分为倒装结构,利用Ag金属光子晶体的反射镜作用减少了底部衬底的吸收。该专利大幅度提高发光效率。

    一种发光二极管外延片及其制造方法

    公开(公告)号:CN108831978A

    公开(公告)日:2018-11-16

    申请号:CN201810374038.3

    申请日:2018-04-24

    CPC classification number: H01L33/32 H01L33/007

    Abstract: 本发明公开了一种发光二极管外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。发光二极管外延片包括衬底、以及依次层叠在衬底上的缓冲层、未掺杂的GaN层、N型层、有源层和P型层,其中有源层包括N个周期交替生长的BxIn1.5xGa1-2.5xN阱层和GaN垒层,0<x<1,1≤N,BxIn1.5xGa1-2.5xN阱层中B组分和In组分的比值为2:3,可以使得BxIn1.5xGa1-2.5xN阱层和GaN垒层的晶格常数相匹配,提高有源层的晶体质量,同时每层BxIn1.5xGa1-2.5xN阱层的厚度为4~20nm,相比于现有的厚度为2~4nm的InGaN阱层,厚度更厚,可以提高有源层中载流子的浓度,减轻LED的droop效应,从而提高LED的发光效率。

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