一种通过离子注入Zn<sup>+</sup>控制ZnO单晶中缺陷的方法

    公开(公告)号:CN106567129A

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201610996224.1

    申请日:2016-11-11

    Applicant: 浙江大学

    CPC classification number: C30B31/22

    Abstract: 本发明公开了一种通过离子注入Zn+来控制ZnO单晶中缺陷的方法,该方法通过离子注入将Zn+注入ZnO单晶中以控制缺陷,具体为将ZnO单晶清洗、烘干,采用离子注入机将Zn+注入ZnO单晶中,再在氮气保护下采用快速退火处理5min,退火温度为650~750℃,冷却后取出ZnO单晶样品。采用本发明的方法可以有效控制ZnO单晶中缺陷的类型和浓度,以供更好地进行ZnO缺陷定性研究,该方法控制缺陷稳定,重复性好,可控性强。

    一种过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN103194798B

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201310113963.8

    申请日:2013-04-02

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开一种过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜,构成该铁磁多晶薄膜的材料为Zn1-x(TM)xO;其中,TM为过渡金属元素Cu、Co或Mn,且对于Cu,0<x<0.03;对于Co和Mn,0<x<0.08。本发明还公开了上述过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜的制备方法,由过渡金属及锌的醋酸盐前驱体溶液制备TM掺杂ZnO纳米晶沉淀,然后经分散、旋涂得到过渡金属掺杂ZnO基铁磁多晶薄膜,为增强多晶薄膜的铁磁稳定性,改进输运特性,还进行了氢等离子优化处理。该方法工艺简单、成本低廉,可在较大范围内调节掺杂浓度,得到的多晶薄膜致密平整、附着性良好,室温下均表现明显的磁滞回线,可应用于量子自旋器件中。

    一种Na掺杂p型ZnO薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN102373425A

    公开(公告)日:2012-03-14

    申请号:CN201110342906.8

    申请日:2011-11-03

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种Na掺杂p型ZnO薄膜的制备方法,采用脉冲激光沉积法。该方法采用高纯ZnO和高纯NaF陶瓷靶材作为溅射靶材,交替溅射生长ZnO层和Na层,制备p型Na掺杂ZnO薄膜。靶材与衬底的之间的距离为4.5~5.5cm,生长室背地真空度抽至1×10-4~1×10-3Pa,然后加热衬底,使衬底温度为400~700℃,激光频率为3~10Hz,激光能量为250~350mJ。长后的薄膜以3~5℃/min冷却至室温。本发明提出的Na掺杂ZnO薄膜的制备方式简单,所用的设备与现行工艺兼容。

    以针尖状ZnO纳米线为阴极的场发射显示器及其制备方法

    公开(公告)号:CN100565769C

    公开(公告)日:2009-12-02

    申请号:CN200710156437.4

    申请日:2007-10-30

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开的以针尖状ZnO纳米线为阴极的场发射显示器由m×n个显示单元排列组成,每个显示单元包括由绝缘支撑围成的中空框架,中空框架的一个端面自外向内依次有阳极玻璃基板、透明阳极导电层和三基色荧光粉点阵,中空框架的另一个端面自外向内依次有阴极玻璃基板、透明阴极导电层和针尖状ZnO纳米线阵列。采用金属有机物化学气相沉积法制备针尖状ZnO纳米线阵列,按传统工艺制造阳极,封装显示器。本发明的场发射显示器具有低阈值电场强度和高稳定性,亮度高、响应速度快、视角大和色彩逼真、节能环保等方面可与液晶显示器相比,可用于民用和军用显示。

    一种钙钛矿薄膜蓝光增益介质的制备方法

    公开(公告)号:CN119315384A

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202411247206.4

    申请日:2024-09-06

    Abstract: 本发明涉及一种钙钛矿薄膜蓝光增益介质的制备方法,包括如下步骤:S1、原料共混:将钙钛矿前驱体和聚丙烯腈(PAN)溶于超干二甲基亚砜中,得到混合溶液;其中,所述聚丙烯腈(PAN)与钙钛矿前驱体的质量比为(0.3‑0.4):1;S2、旋涂成膜:取混合溶液于玻璃衬底上,在惰性气体环境下利用旋涂法旋涂成膜,得到钙钛矿薄膜蓝光增益介质。本发明的方法所制备的钙钛矿薄膜可实现低阈值、高光增益的蓝光激射,在高湿度环境下具有良好的稳定性。

    一种白光发光的卤化铜配合物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114940684B

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202210573774.8

    申请日:2022-05-24

    Abstract: 本发明公开了一种白光发光的卤化铜配合物及其制备方法和应用。卤化铜配合物由卤化铜溶液和有机配体溶液经充分混合均匀后旋涂于基片表面,旋涂过程中原位反应制得。制备得到的卤化铜配合物为薄膜形式,在紫外光激发下或电激发下具有白光发射。本方法制备的卤化铜配合物不含重金属、贵金属和稀土元素,成本低廉,原料易得。制备的卤化铜配合物本身即具有白光发光,应用于白光照明领域可有效避免器件工作时间过长导致的偏色问题。制备的卤化铜配合物薄膜不需要对该配合物进行预先合成再加工到基片上,而是在旋涂过程中原位在基片上形成,十分简便易行。该薄膜可直接作为光转换膜使用,也可再在其上层加工其他功能层制备电致发光器件。

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