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公开(公告)号：CN1184667C
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：CN01140673.9
申请日：2001-09-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , H01L21/30 , G03F7/16 , B05D3/00
Abstract: 本发明提供了成膜方法和成膜装置，液状膜形成部分由保护膜滴液喷嘴(102)和使该保护膜滴液喷嘴(102)沿y方向移动的喷嘴移动机构以及设置在直径200mm的被处理基板(110)上的使被处理基板(110)沿x方向移动的被处理基板移动台构成。液状膜干燥部分由吸嘴(101)和与吸嘴(101)相连的真空泵(103)构成。另外，被处理基板移动台也是构成液状膜干燥部分的一部分。利用上述成膜方法及装置，可以抑制涂膜的膜厚不均现象，缩短形成涂膜所需的时间。
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公开(公告)号：CN1177354C
公开(公告)日：2004-11-24
申请号：CN01121836.3
申请日：2001-06-27
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/30 , H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02052 , G03F7/32 , G03F7/40
Abstract: 一种衬底处理方法，对用光刻胶12进行LSI图形曝光的被加工衬底11，用TMAH显影液进行显影后，清洗露出表面。作为第1清洗工序，通过边使衬底11以500rpm进行旋转，边用溶解有3ppm臭氧气体的臭氧水17进行15秒的清洗，使附着于衬底11的露出表面上的有机物分解，然后，作为第2清洗工序，通过边使衬底11以500rpm进行旋转，边用溶解有1.2ppm氢气的氢气水18进行15秒的清洗处理，把分解后的有机物除去到衬底之外。
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公开(公告)号：CN1460895A
公开(公告)日：2003-12-10
申请号：CN03131416.3
申请日：2003-05-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: H01L23/544 , B23K26/066 , B23K26/364 , B23K26/40 , B23K2103/172 , G03F7/2026 , G03F7/70341 , G03F9/7076 , G03F9/708 , G03F9/7084 , G21K5/10 , H01J2237/30438 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , Y10S438/949 , H01L2924/00
Abstract: 一种进行选择性地除去在衬底上形成的加工膜的加工区域或进行减少膜厚的加工的加工方法，其特征在于包括：使在上述衬底上的照射形状比上述加工区域小的第1加工光，对上述衬底相对地扫描以选择性地进行上述加工区域的加工膜的加工的工序；和向比上述加工区域更往内侧的区域照射第2加工光，选择性地进行比上述加工区域更往内侧的区域的上述加工膜的加工的工序。
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公开(公告)号：CN1375860A
公开(公告)日：2002-10-23
申请号：CN02119009.7
申请日：2002-03-07
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G03F7/70633 , B23K26/04 , B23K26/042 , B23K2101/40 , G03F9/7076 , Y10S430/146 , Y10T29/413
Abstract: 提供包含激光加工装置、成膜系统和图案形成系统的电子装置的制造系统。该激光加工装置包括:发出选择地去除被加工衬底的一部分的激光的激光振荡器、将从激光振荡器发出的激光照射到上述被加工衬底的任意位置上的扫描系统、使从上述激光振荡器发出的激光大致垂直入射到上述被加工衬底的入射装置。
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公开(公告)号：CN1367407A
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN01145768.6
申请日：2001-12-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C5/0254 , B05C11/08 , G03F7/168 , G03F7/3021 , G03F7/38 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , H01L21/67109 , H01L21/67115
Abstract: 具有光刻胶膜的被处理衬底的加热装置。该加热装置具有:具有内部空间的腔室、腔室内用于加热被处理衬底的加热板、及隔壁部件。加热板具有在腔室内支承被处理衬底的载置面。隔壁部件跟载置面对向地配置在腔室内。并且,隔壁部件将内部空间分隔成第1和第2空间,同时具有连通第1和第2空间的多个孔。加热板的载置面配置于第1空间内。第2空间配置有用于形成气体流的气体流形成机构,用该机构排出由光刻胶膜产生的蒸发物。
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公开(公告)号：CN1366333A
公开(公告)日：2002-08-28
申请号：CN01133875.X
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/30 , H01L21/027 , G03F7/30
CPC classification number: G03D5/003
Abstract: 提供一种衬底处理装置及衬底处理方法,可以消除被处理表面上的药液浓度差,可以实现高精度的药液处理。在药液喷出/吸引单元(扫描喷嘴)21中设置有用来向被处理衬底喷出药液的药液喷出开口22和用来吸引被处理衬底上的药液的药液吸引开口23,由于从上述药液喷出开口22连续喷出的药液被上述药液吸引开口23连续吸引,在上述扫描喷嘴21和被处理表面之间,以及在上述药液喷出开口22和上述药液吸引开口23之间的区域中不断有新鲜药液供给被处理表面。
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公开(公告)号：CN1347136A
公开(公告)日：2002-05-01
申请号：CN01140672.0
申请日：2001-09-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , H01L21/30 , G03F7/16
Abstract: 公开了液态膜干燥方法及干燥装置。所述干燥方法包括以下工序:使具有贯通孔204的整流板200以不接触液态膜的距离靠近该被处理基板上方的工序,使整流板200旋转从而使被处理基板101的上方与整流板200的下表面之间产生气流的工序,使含有溶质的液态膜与气流接触、将液态膜中的溶剂除去,在被处理基板101上形成由前述溶质构成的固相膜的工序。使用该液态膜干燥方法,可获得良好的膜厚均匀性,同时对处理时间进行控制以提高生产率。
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公开(公告)号：CN100541330C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200510082468.0
申请日：2001-12-26
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 为了提高涂布膜或光刻胶的均匀性，本发明提供了一种涂布膜加热装置和光刻胶的处理装置。本发明的涂布膜的加热装置具有内部空间的腔室；上述腔室内具有支撑被处理衬底的载置面并用于加热上述被处理衬底的加热板，所述被处理衬底具有涂布膜；以及对着上述载置面配置于上述腔室内的、用于吸附由上述被处理衬底产生的蒸发物的吸附板。
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公开(公告)号：CN100373537C
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200510071800.3
申请日：2005-04-14
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G01N15/02 , G01N2015/0053 , Y10T436/25 , Y10T436/2575
Abstract: 本发明提供的一种药液的评估方法，包括：通过测量方式求出关于液体中的粒子的与每种上述粒子的大小相对应的粒子数量；基于用上述测量方式求出的与每种上述粒子的大小相对应的粒子数量，用函数表现上述液体中的粒子的大小和与上述大小对应的粒子数量之间的关系；以及基于上述函数来评估在上述液体中的粒子中其大小在测量限度以下的粒子的影响。
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