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公开(公告)号：CN110083018A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201811596980.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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公开(公告)号：CN106489093B
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201580034744.8
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。
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公开(公告)号：CN106773558B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201710064287.8
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 本发明的扫描曝光装置具有：旋转筒，其在由外周面支承基板的长度方向的一部分的状态下绕第2中心轴旋转而将基板沿长度方向输送；照明机构，其分别向着第1照明区域和第2照明区域照射照明光；投影光学系统，其在支承于旋转筒的基板上，向着第1投影区域，来投影第1照明区域内所显现的光罩图案的像，并且向着第2投影区域，来投影第2照明区域内所显现的光罩图案的像；第1刻度部；第2刻度部；光罩侧读取机构，其在从第1中心轴观察而分别位于与第1照明区域和第2照明区域相同的方位上的第1刻度部上的两个位置上分别读取刻度；和基板侧读取机构，其在从第2中心轴观察而分别位于与第1投影区域和第2投影区域相同的方位上的第2刻度部上的两个位置上分别读取刻度。
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公开(公告)号：CN107957660A
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201711205151.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106200277B
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：CN201610576185.X
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 一种处理装置，沿长度方向传送长条且具有挠性的片状基板，同时将元件的图案转印至片状基板上，其具有：旋转圆筒体，具有距规定的轴线为固定半径的圆筒状的外周面，并通过外周面的一部分卷绕并保持片状基板的一部分，同时绕轴线旋转；转印处理部，在保持片状基板的旋转圆筒体的外周面的特定的周向位置上，将图案转印至片状基板上；刻度部，能够与旋转圆筒体一同绕轴线旋转，且具有从轴线沿着规定半径的外周面的周向排列为环状的能够读取的刻度；和多个编码器读头部，配置在与刻度部的外周面相对的周围的2个以上的部位，以读取根据旋转圆筒体的旋转而沿周向移动的刻度，多个编码器读头部中的、特定的2个编码器读头部分别以使从轴线观察到的刻度的读取位置为90±5.8度的角度范围的方式设定。
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公开(公告)号：CN107255911A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710559593.9
申请日：2013-11-05
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 具备：保持反射型的光罩(M)的光罩保持筒(21)；将入射的照明光束(EL1)朝向光罩(M)反射、并且使照明光束(EL1)被光罩(M)反射而得到的投影光束(EL2)透射的分束器(PBS)；使照明光束(EL1)向分束器(PBS)入射的照明光学组件(ILM)；和将透射过了分束器(PBS)的投影光束(EL2)投影曝光至基板(P)的投影光学组件(PLM)，照明光学组件(ILM)及分束器(PBS)设于光罩(M)与投影光学组件(PLM)之间。另外，分束器(PBS)具备第1棱镜、第2棱镜和偏振膜，偏振膜(93)是将二氧化硅的第1膜体与氧化铪的第2膜体在膜厚方向层叠而成的。
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公开(公告)号：CN106597816A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201710064288.2
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明的基板处理装置具有：刻度部件，其具有刻设为环状的刻度部；处理机构，其在进入区域与脱离区域之间的圆周方向的特定位置上，在片状基板上形成图案；第1图案检测装置，其在第1检测区域内，检测沿长度方向离散或连续地形成在片状基板上的特定图案；第1读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第1检测区域相同的方位上，并读取刻度部；第2图案检测装置，其在第2检测区域内，检测片状基板的特定图案；和第2读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第2检测区域相同的方位上，并读取刻度部。
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公开(公告)号：CN106489093A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201580034744.8
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B26/10 , G02B26/12 , G02F1/03 , G02F1/11 , G02F1/37 , G03F7/20 , G03F7/24
Abstract: 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，
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公开(公告)号：CN102346378B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201110265679.3
申请日：2007-02-08
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70216 , G03F7/70275
Abstract: 本发明是分别经由具有放大倍率的多个投影光学系统，将光罩(M)的图案(M1、M2)投影曝光于基板上的曝光方法，此曝光方法是将具有以对应于上述放大倍率的位置关系而非连续地配置的第1图案区域(M1)、以及至少一部分设于第1图案区域(M1)之间的第2图案区域(M2)的光罩(M)，配置于投影光学系统的物体面侧，使第1图案区域(M1)与第2图案区域(M2)中的其中一个图案区域的放大像分别投影曝光至配置于投影光学系统的像面侧的基板上之后，将另一个图案区域的放大像投影曝光于该基板上。
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