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公开(公告)号：CN108040500B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN201680056621.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/677 , B65G49/00 , G03F7/20 , H01L21/02
Abstract: 本发明的制造系统(10)，是一边将长条的可挠性片材基板(P)搬送于长边方向、一边通过多个处理装置(PR)连续的对该片材基板施以处理，其具备设置在该多个处理装置(PR)中的第1处理装置(PR2)与相邻的第2处理装置(PR3)之间的蓄积部(BF1)，以及于第1处理装置(PR2)中，暂时停止对该片材基板(P)的处理、或该片材基板(P)的搬送时，判定该蓄积部(BF1)的该片材基板(P)的蓄积状态是否满足以预想的该第1处理装置(PR2)的停止时间决定的所需蓄积状态的控制装置(14,18)。
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公开(公告)号：CN111470362B
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202010235350.1
申请日：2017-08-07
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
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公开(公告)号：CN107957660B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201711205151.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN107255908B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201710545966.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN106164779B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201580018364.5
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108710263A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201810312226.3
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置，其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转，使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动，由此将圆筒光罩的图案曝光至基板，其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构，支承机构包括：可旋转地支承转轴的可动体；以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源；及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。
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公开(公告)号：CN105339846B
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201480034715.7
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN104583874B
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201380043800.5
申请日：2013-03-13
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F9/00 , G03F7/24 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 设有：基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。
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公开(公告)号：CN107255908A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710545966.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN105339846A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480034715.7
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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