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公开(公告)号：CN111036930A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201911352737.9
申请日：2019-12-25
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种SERS检测用银纳米线块的制备方法，其特征在于：S1：将硝酸银加到多元醇中，搅匀得浓度为0.01～0.3 g/mL的溶液A；S2：将聚乙烯吡咯烷酮加到多元醇中，搅匀得浓度为0.02～0.2 g/mL的溶液B；S3：将溶液B升温至50～80℃并保温20～60 min，搅拌下将溶液A加入到溶液B中，随后继续搅拌20～60 min得溶液C；S4：将浓度为0.0002～0.005 g/mL的氯化物加入溶液C中，搅拌5～10 min，90～140℃加热8～24 h，在溶液C上层得纳米银线块；S5：将纳米银线块取出，清洗5～10次，在40～80℃干燥60～120min后即可。本发明有益效果：1.可一步制备得到块状银纳米线，制备步骤简单；2.该纳米线块可直接用来进行SERS检测且使用方法简单，使用便捷；3.SERS性能优异且可以重复使用，降低成本。
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公开(公告)号：CN110981205A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201911353394.8
申请日：2019-12-25
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种处理放射性铯污染土壤用微晶玻璃的制备方法，其特征在于：（1）.一水合氢氧化铯溶于20％-40％硅溶胶中，铯金属离子和硅原子的摩尔比为1:2，搅拌12-24h得硅酸铯溶液；（2）加入偏高岭土粉体，控制硅离子与铝离子摩尔比为2:1，搅拌60-90min，倒入模具，60-90℃放置5-7天，得到块状固体，研磨得含铯前驱体粉末；（3）将下列原料SiO2 50-65%，Al2O3 4-8%，B2O315-20%，Na2CO3 15-25%，CaCO3 8-10%混合，熔融、成型、冷却制成玻璃，研磨成玻璃粉末；（4）含铯前驱体粉末和玻璃粉末按质量比1:4-5混合，1000-1200℃熔融2-5h，成型、冷却。本发明有益效果：工艺简单，熔融温度低，过程容易控制；化学稳定性好，固化效果明显，抗浸出率高。
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公开(公告)号：CN110479345A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910820505.5
申请日：2019-09-02
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: B01J27/24
Abstract: 本发明涉及一种g-C3N4量子点修饰的氧化铁光催化剂的制备方法，其特征在于：1.氯化铁与1,2-丙二胺混合，反应釜中200-230℃反应2-3 h，产物洗涤、振荡、离心，沉淀物洗涤、干燥即得氧化铁纳米片；2.三聚氰胺和尿素放入坩埚，N2气氛围中500-530℃保温1.5-3h得g-C3N4，研磨后加入浓硫酸与浓硝酸混合液中，40-60℃反应2-3h，冷却、离心、干燥即得g-C3N4纳米片，将其分散在去离子水和乙二醇混合液中，60-80℃下超声20-24h，静置、离心、洗涤、干燥即得g-C3N4量子点；3.氧化铁纳米片分散于去离子水中，搅匀后加CNQDs，随后转反应釜，150-200℃反应2-5 h，冷却、洗涤、干燥即可。本发明有益效果：提高了光催化效率，克服了单一氧化铁纳米材料量子产率较低的缺点；制备方法简单易行、重复性高、成本低。
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公开(公告)号：CN110239162A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910372978.3
申请日：2019-05-06
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: B32B15/04 , B32B15/18 , B32B15/20 , B32B17/06 , B32B37/10 , B32B37/12 , B32B38/00 , B32B38/16 , B32B7/12
Abstract: 本发明涉及一种金属表面复合防护层及其制备方法，其特征在于：1）.金属基底打磨平整，依次用丙酮、无水乙醇超声清洗10~20 min，80℃干燥10~30 min；2）.基底表面涂1~3mm有机胶；3）.有机胶上贴附厚0.12~0.30 mm的超薄玻璃，边贴附边辊压，四周用卡具固定，来回碾轧10~30min；4）.20~100℃固化5min~24h，取卡具，清除四周固化有机胶并打磨边缘，得0.15~0.33 mm的有机/无机复合防护层。本发明优点：1.有有机和无机防护层性能互补的优点，能起优异的保护作用；2.工艺简单、成本低；3.解决了普通环境中金属材料易腐蚀、易磨损、难清洁及易导电问题。
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公开(公告)号：CN104120398B
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201410391818.0
申请日：2014-08-11
Applicant: 中国建材国际工程集团有限公司 , 蚌埠玻璃工业设计研究院
Abstract: 一种消影玻璃中折射率匹配层的连续沉积方法，包括(a)使用第一工作气体对靶材进行溅射，以使得所述靶材材料的原子沉积在基片上；并且(b)使用第二工作气体对所述靶材进行溅射，以使得所述靶材材料的原子沉积在所述基片上。本发明采用磁控溅射法在不换靶的情况下，仅通过改变通入的气体就可以实现折射率匹配层的制备，结构简单，制备方便，成本低，可以有效消除刻蚀阴影，有利于企业大规模生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107546341B
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201710796080.X
申请日：2017-09-06
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
CPC classification number: Y02E10/549
Abstract: 本发明公开一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、清洗柔性基底；S2、通过磁控溅射在柔性基底表面沉积下SiO2膜层，下SiO2膜层厚度为15～60nm；S3、采用电子束蒸发技术在下SiO2膜层表面蒸发Ag膜层，Ag膜层厚度6～20nm；S4、在真空腔内对Ag膜层进行Ar等离子辐照；S5、通过磁控溅射在Ag膜层表面沉积上SiO2膜层，得到所述透明导电氧化物薄膜，上SiO2膜层厚度为15～60nm；本发明得到的透明导电SiO2/Ag/SiO2的复合薄膜，具有更好的透过率和导电性能；对Ag膜层采用等离子体辐照，使Ag膜层成膜质量更好，整个复合膜系具有更好的透过率和导电性；SiO2膜层与Ag膜层之间浸润性良好，不需要金属过渡层，且成本低廉，适合工业化生产。
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公开(公告)号：CN108642463A
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201810560590.1
申请日：2018-06-04
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/08 , C23C14/185 , C23C14/5806 , H01L31/022425 , H01L31/022466 , H01L31/1884
Abstract: 本发明公开一种用于太阳能电池前电极复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：清洗衬底，去除衬底表面油污和杂质；采用磁控溅射设备，以Al2O3靶、ZnO靶与Ag靶为溅射靶材，衬底置于磁控溅射设备的真空腔室内；通入工作气体氩气，开启Al2O3靶与ZnO靶，在衬底上溅镀第一AZO薄膜层；开启Ag靶，在第一AZO薄膜层上溅镀Ag层；开启Al2O3靶与ZnO靶，在Ag层上溅镀第二AZO薄膜层，得到三层结构的复合薄膜；加热放置衬底的样品台至400℃，对步骤S5得到的复合薄膜退火处理；利用样品台能够进行加热的特性，对所制备的三层薄膜进行升温退火，达到对Ag层直接进行加热并向非球形Ag纳米颗粒转变的效果，避免了样品取出来再进行加热造成的二次污染。
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公开(公告)号：CN108441836A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810571132.8
申请日：2018-06-05
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种中高温太阳能选择性吸收涂层及其制备方法，包括现有金属基底，其特征在于：在金属基底上，从下到上还分别有三层：红外反射层、吸收层和减反射层；所述的红外反射层为Al、Au、Ag或Ni任一种金属的涂层，吸收层自下而上依次包括TiN膜和TiCrN膜，减反射层自下而上依次包括Cr2O3膜、AlN膜和Al2O3膜；采用磁控溅射法进行镀膜。本发明的有益效果：1.本发明制得的涂层，具有吸收效率高、发射率低、热稳定性好的特点；2.太阳光谱吸收率α与发射率ε(T)之比高，适合200℃以上的中高温应用；3.制作工艺简便。
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公开(公告)号：CN108410460A
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201810560531.4
申请日：2018-06-04
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: C09K11/67
CPC classification number: C09K11/672
Abstract: 本发明公开一种ZnS发光薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、清洗衬底，去除衬底表面油污和杂质；S2、采用磁控溅射设备，以ZnS靶、Pb靶为靶材，衬底置于磁控溅射设备的真空腔体内，ZnS靶采用直流与射频电源，Pb靶采用直流电源，通入氩气，在衬底表面溅镀Zn过量且Pb掺杂的ZnS发光薄膜；采用磁控溅射进行ZnS、Pb共掺杂薄膜的制备，工艺简单，可控性、操作性强；ZnS靶采用直流和射频相结合的电源，进行薄膜的镀制，Pb靶采用直流电源，制备的薄膜致命性高，结晶质量好；通过工艺参数的改变能很好调节薄膜中的Zn和S的比例。
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公开(公告)号：CN108165942A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201711456534.5
申请日：2017-12-28
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/35
Abstract: 本发明涉及一种用于磁控溅射的以气体为掺杂源的供气装置，包括供气环（1），在供气环（1）的内壁（2）上均布一组出气孔（3），在供气环（1）内设有环形腔体，在每个出气孔（3）均与环形腔体连通，在供气环（1）上还连接进气管（4），进气管（4）连接环形腔体，在供气环（1）上还连接吊耳（5）。本发明的优点：本装置克服了现有供气系统中气体分布不均匀，离化程度不高，掺杂量达不到目标值以及不能进行定量分析等缺陷，有效促进掺杂气体源进行离子化，提高了气体的利用率，提高掺杂量，达到有效进行掺杂完成镀膜的目的，同时还能精准进行定量分析，为多元素掺杂磁控溅射的进一步研究开发提供了一个更好的精确方案。
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