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公开(公告)号：CN1330267A
公开(公告)日：2002-01-09
申请号：CN01121898.3
申请日：2001-03-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 在一种制造卤素化合物或全氟化碳化合物的设备中,为了将卤素气体和/或氟代烃气体浓度控制在设定在范围内,提供卤素气体和/或氟代烃气体的管理上需要的迅速、容易且精度高的测定方法,加之结构小型化、另外零件交换迅速、容易的测定装置和使用它的制造卤素化合物或全氟化碳化合物的方法。
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公开(公告)号：CN1161953A
公开(公告)日：1997-10-15
申请号：CN97102132.5
申请日：1997-01-15
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07C17/10 , B01J8/0285 , B01J19/088 , B01J2208/00504 , B01J2219/0894 , C07C17/007 , C07C19/08 , C07C21/185
Abstract: 生产四氟甲烷的方法，包括使分子中含有一个碳原子的氢氟化碳与氟气在汽相中、在较高的温度下、在稀释气体的存在下反应。
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公开(公告)号：CN1088196A
公开(公告)日：1994-06-22
申请号：CN93109641.3
申请日：1993-08-05
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07C19/08 , C07C17/206 , C07C17/21
Abstract: 从三氯乙烯和HF制备1，1，1，2-四氟乙烷的方法，此方法包括：将三氯乙烯与HF反应的产物和将1，1，1-三氟-2-氯乙烷与HF反应的产物，或单独或混合，导入第一蒸馏柱；从第一蒸馏柱的顶部回收HCl馏出液和将残余物导入第二蒸馏柱。
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公开(公告)号：CN105209413A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201480025690.4
申请日：2014-05-08
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/389 , C07C17/20 , C07C19/03 , C07C19/08 , C07B61/00
CPC classification number: C07C17/389 , C07C17/206 , C07C17/383 , C07C19/03 , C07C19/08
Abstract: 本发明的课题是提供一种二氯甲烷的精制方法，其可减少二氯甲烷中所含的稳定剂，操作容易且在工业上可实施。本发明的解决手段是一种二氯甲烷的精制方法，使包含选自由2-甲基-2-丁烯、氢醌以及间苯二酚组成的组中的至少1种稳定剂的二氯甲烷在液相状态下与平均细孔径为3-11的沸石类接触而使前述稳定剂减少。
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公开(公告)号：CN102026945B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200980117747.2
申请日：2009-05-11
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07C17/38 , C07C17/10 , C07C17/383 , C07C19/10
Abstract: 本发明的目的在于，提供有效利用昂贵的氟气，在工业上以较便宜的价格有效制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷的方法。并且提供一种1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，该方法通过在低温下进行氟化反应，使通过C-C断裂产生低沸点物和产生过氟化物等的副反应难以进行，可以稳定地制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷。本发明的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，当使用多个反应器，在有溶剂但没有催化剂的情况下向1，2，3，4-四氯丁烷供给氟气、使1，2，3，4-四氯丁烷与氟气反应时，将从一反应器排出的未反应的氟气的一部分或全部导入到其它反应器中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102203104A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980143306.X
申请日：2009-10-30
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07F7/045 , C01B33/00 , C01B33/04 , C01B33/043
Abstract: 本发明涉及使通式(1)所示的烷氧基硅烷在包含碱金属氟化物的催化剂和催化剂活化剂的存在下、在气相中进行歧化反应的甲硅烷和四烷氧基硅烷的制造方法，HnSi(OR)4-n (1)(式中，R表示碳原子数1～6的烷基，n是1～3的整数。)。根据本发明的制造方法，通过液相中的烷氧基硅烷的歧化反应来制造甲硅烷和四烷氧基硅烷的方法，可以解决与溶剂难以分离的问题和由于反应非常慢而不适合工业制造的问题。
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公开(公告)号：CN101432252A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200780014919.4
申请日：2007-04-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/158 , C07C17/383 , C07C19/10
CPC classification number: C07C17/38 , C07C17/02 , C07C17/10 , C07C17/383 , C07C19/10 , C07C19/01 , C07C21/073
Abstract: 本发明提供1，2，3，4－四氯六氟丁烷的安全、收率好、廉价、且经济的工业制造方法。本发明所涉及的1，2，3，4－四氯六氟丁烷的制造方法的特征在于，包括(1)将1，3－丁二烯进行氯化，从而得到含有1，2，3，4－四氯丁烷的混合物的工序，和(2)在稀释气体存在下，在气相中使工序(1)中得到的1，2，3，4－四氯丁烷与氟气反应，从而得到含有1，2，3，4－四氯六氟丁烷的混合物的工序。
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公开(公告)号：CN101248006A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200680031146.6
申请日：2006-08-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C01B21/083
Abstract: 本发明的三氟化氮的制造方法，其特征在于，将氟气和氨气供给到管状反应器中，使其在稀释气体的存在下、气相中、无催化剂条件下进行反应，生成主要含有三氟化氮的气体生成物和主要含有氟化铵和/或酸式氟化铵的固态生成物，利用安装在上述管状反应器上的用于除去上述固态生成物的装置，来除去附着在上述管状反应器的内壁的上述固态生成物。
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公开(公告)号：CN100400484C
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN02802328.5
申请日：2002-07-05
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07C17/21 , C07C17/206 , C07C17/38 , C07C17/389 , C07C19/08 , C07C21/12 , C07C19/12
Abstract: 使含稳定剂的四氯乙烯与具有平均孔径3.4-11埃的沸石和/或具有平均孔径3.4-11埃的含碳吸附剂在液相中接触以获得高纯四氯乙烯。将卤化链烯烃和/或卤化链烷烃与氟化氢在氟化催化剂存在下反应生产第一种氢氟烃，将卤化链烯烃和/或卤化链烷烃与氟化氢在氟化催化剂存在下反应生产第二种氢氟烃，将这些产品合并，然后蒸馏获得第一和第二种氢氟烃。
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公开(公告)号：CN100343210C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200410101217.8
申请日：2002-08-06
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07C19/08 , B01J23/08 , B01J23/26 , B01J23/44 , B01J37/26 , C07C17/10 , C07C17/206 , C07C17/21 , C07C17/23 , C07C17/395
Abstract: 高纯度六氟乙烷的生产方法，其中让含有六氟乙烷和氯三氟甲烷的混合气体与氟化氢在气相中于氟化催化剂的存在下在200-450℃下反应，以使氯三氟甲烷氟化；或者让含有1-3碳原子氯化合物的五氟乙烷与氢在气相中于氢化催化剂的存在下在150-400℃下反应，然后此产物与氟在气相中于稀释气的存在下反应。
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