公开(公告)号：CN103282408A

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN201180062705.0

申请日：2011-02-25

Applicant: 同济大学

Inventor： 黄美荣 ,  黄绍军 ,  李新贵

IPC: C08G73/02 ,  C09D179/02

CPC classification number: C08G73/026 ,  C02F1/285 ,  C02F2101/103 ,  C02F2101/20 ,  C02F2101/203 ,  C02F2101/22 ,  C02F2103/003 ,  C02F2103/007 ,  C02F2103/06 ,  C02F2103/346 ,  C02F2305/08 ,  Y10T428/2982

Abstract: 本文中公开了聚(磺基氨基蒽醌)聚合物组合物和制备这些组合物的方法。所述聚合物组合物可以例如用于从样品中去除金属离子。

公开(公告)号：CN103209931A

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201180054810.X

申请日：2011-08-10

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 目黑裕章 ,  岛田泰彦 ,  长谷部吉昭

IPC: C02F3/12 ,  C02F3/08 ,  C02F3/10

CPC classification number: C02F3/30 ,  C02F2103/32 ,  C02F2103/346

Abstract: 本发明涉及一种排水处理装置，其具有：反应槽，所述反应槽通过生物污泥而对含有BOD成分的有机性排水进行生物处理；污泥分离槽(16)，所述污泥分离槽(16)将在所述反应槽中所得到的处理水与所述污泥分离，所述反应槽包括无氧生物处理槽(10)、和被供给所述生物处理所必需的氧的第一生物处理槽(12)及第二生物处理槽(14)，所述有机性排水连续地流入第一生物处理槽(12)，并在第一生物处理槽(12)及第二生物处理槽(14)中被实施生物处理，向第二生物处理槽(14)及无氧生物处理槽(10)送回污泥分离槽(16)内的污泥，至少向第一生物处理槽(12)供给无氧生物处理槽(10)内的污泥，第一生物处理槽(12)的MLSS负荷高于第二生物处理槽(14)的MLSS负荷。

公开(公告)号：CN1939841B

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN200610142195.9

申请日：2006-09-27

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 立石文则

IPC: C02F1/00

CPC classification number: C02F1/008 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/02

Abstract: 本发明目的是在对废液进行冷却时，提供通过冷却来安全处理废液的机制，且不增加成本，不使用大的设备的。提出废液的处理方法，该方法中，将化学液体从化学液体供应部分供给化学处理部分；水从水供应部分供给水处理部分；使从化学液体处理部分排出的第一废液通过废化学品部分流入内管，同时从水处理部分排出的第二废液流经废水处理部分进入外管，所述外管在内管的外部；第二废液的温度低于第一废液的温度。

公开(公告)号：CN101541686B

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：CN200780032921.4

申请日：2007-07-31

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 加来启宪 ,  大泽公伸

IPC: B01D61/48 ,  C02F1/469

CPC classification number: B01D61/485 ,  B01D2313/30 ,  C02F1/42 ,  C02F1/4602 ,  C02F1/4695 ,  C02F2103/32 ,  C02F2103/343 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/05 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供一种电去离子装置。该电去离子装置1是在阴极11和阳极12之间，交替排列多个阴离子交换膜13和阳离子交换膜14交替形成浓缩室15和脱盐室16而成；在浓缩室15种设置双极性膜20将浓缩室15内间隔成阴极侧和阳极侧，自被处理水的流动方向的上游侧将脱盐室16分割为第一层16A及第二层16B的至少二层，填充由阴离子交换体30A和阳离子交换体30B构成的离子交换体30，填充在第一层16A的离子交换体30含有50体积％以上的阳离子交换体30B，填充在第二层16B的离子交换体30含有超过50-80体积％的阴离子交换体30A，由此，可以在浓缩室及脱盐室防止水垢的发生，长时期稳定地运转。

公开(公告)号：CN102648160A

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201080045398.0

申请日：2010-10-06

Applicant: 高Q-工厂GmbH

Inventor： 弗朗兹·布鲁默

IPC: C02F1/44 ,  B24B37/04 ,  B24B57/02 ,  H01L21/321

CPC classification number: B01D61/18 ,  B01D61/142 ,  B01D61/145 ,  B01D61/22 ,  B01D2315/16 ,  B01D2315/18 ,  B24B37/042 ,  B24B57/00 ,  C02F1/444 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/02 ,  C02F2209/40

Abstract: 本发明涉及一种用于从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中再循环含抛光浆料废水的再循环方法和再循环装置。所述方法由以下步骤组成：一个过滤步骤，在其中将含新鲜抛光浆料的废水连续引入一个循环容器(10)中，在此过程中从该循环容器(10)中连续抽出该混合废水，将该抽出的废水引导穿过一个超滤装置(20)并且通过去除液体而进行浓缩从而形成浓缩废水，并且将该浓缩废水引入该循环容器(10)中并且与该循环容器(10)的内含物混合以便得到该混合废水；以及在该过滤步骤之后的一个浓缩步骤，其中当从该循环容器(10)中连续抽出混合废水时阻止或实质上停止向该循环容器(10)中添加新鲜废水，将所述抽出的混合废水引导穿过该超滤装置(20)并且通过去除液体而进行浓缩从而形成浓缩废水，并且将该浓缩废水引入该循环容器(10)中。

公开(公告)号：CN101198552B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN200680021658.4

申请日：2006-08-17

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 德永伸二 ,  古贺义明 ,  井上利彦

IPC: C02F1/56 ,  B01D21/01

CPC classification number: C02F1/56 ,  C02F1/5236 ,  C02F9/00 ,  C02F2101/10 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/06

Abstract: 本发明涉及一种含硅粉的排水的处理方法，其在含硅粉的排水中添加含有硅对铝的摩尔比为0.05～1.5的由硅溶胶-水溶性金属盐所构成的无机凝聚剂，以铝换算，使该无机凝聚剂的浓度为15～300(mg/L)，然后，添加有机高分子凝聚剂。采用该法，对含含细微硅粉的排水进行凝聚处理。

公开(公告)号：CN102216226A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN200980146183.5

申请日：2009-10-21

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 安池友时 ,  根本笃史

IPC: C02F1/58 ,  C02F1/78

CPC classification number: C02F1/5245 ,  C02F1/78 ,  C02F2101/38 ,  C02F2103/346

Abstract: 有效地除去半导体设备制造工艺中的CMP工序的排水等含有唑系铜用防腐蚀剂的水中的唑系铜用防腐蚀剂的方法。在含有唑系铜用防腐蚀剂的水中添加亚铁离子，将生成的不溶性的铁•唑系络合物分离。将不溶性的铁•唑系络合物分离后，对残留的TOC成分进行臭氧分解。通过亚铁离子，可以有效地使唑系铜用防腐蚀剂以铁•唑系络合物的形式不溶化，以进行凝聚·固液分离处理。除去由添加亚铁离子而生成的不溶物之后的水由于不仅除去了唑系铜用防腐蚀剂，还除去了悬浊物质，因此在利用臭氧进行高级氧化分解处理时，可以防止臭氧的无谓消耗，以少的臭氧注入量高度地分解除去含有残留的唑系铜用防腐蚀剂的TOC成分。

公开(公告)号：CN101037251B

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200710005340.3

申请日：2007-02-14

Applicant: 尔必达存储器株式会社

Inventor： 段畠政善

IPC: C02F1/68

CPC classification number: C02F1/20 ,  C02F1/02 ,  C02F1/685 ,  C02F2103/346 ,  C02F2301/063 ,  C02F2303/26 ,  H01L21/6704

Abstract: 提供一种系统，该系统在不增加批量生产半导体工厂中制造的纯水量的条件下能够提供几乎不包含溶解气体的纯水和包含溶解气体的纯水。在本发明中，使用纯水供应系统提供纯水，该纯水供应系统包括：用于制造具有0.4ppm或0.4ppm以下的溶解气体浓度的纯水制造装置；能够从纯水制造装置提供纯水的第一纯水供应装置；经由耦合部分耦合到纯水制造装置并在经由耦合部分从纯水制造装置传送的纯水中溶解气体的溶解装置；以及能够提供其中通过溶解装置溶解气体的纯水的第二纯水供应装置。

公开(公告)号：CN101671075B

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN200810304420.3

申请日：2008-09-08

Applicant: 富葵精密组件(深圳)有限公司 ,  鸿胜科技股份有限公司

Inventor： 陈文村 ,  廖新治 ,  廖道明 ,  沈家弘 ,  林承贤

IPC: C02F1/70

CPC classification number: C22B7/006 ,  C02F2101/20 ,  C02F2103/346 ,  C22B3/02 ,  C22B3/46 ,  C22B15/0091 ,  Y02P10/234 ,  Y02P10/236

Abstract: 本发明提供一种废液回收装置，其包括还原剂供给装置、与该还原剂供给装置相对设置的废液导流装置及传送带。该废液导流装置包括一注入端，用于向传送带提供废液。该传送带一端靠近该还原剂供给装置，另一端靠近该注入端。该还原剂供给装置用于向该传送带提供还原剂，该传送带的传输方向为使该还原剂向传送带靠近注入端的一端运动。该传送带倾斜设置使得该废液在传送带上的流动方向与该传输方向相反。本发明还提供一种废液回收方法。

公开(公告)号：CN101891280A

公开(公告)日：2010-11-24

申请号：CN201010171783.1

申请日：2010-05-14

Applicant: 江西金达莱环保研发中心有限公司

Inventor： 廖志民

IPC: C02F1/44 ,  C02F1/62

CPC classification number: C02F1/444 ,  C02F1/5236 ,  C02F1/66 ,  C02F2101/20 ,  C02F2103/16 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/03

Abstract: 本发明涉及一种重金属废水化学法处理后的固液分离系统及分离方法，提供一种高效且分离效果较好，且可连续操作的固液分离方法。该固液分离系统包括膜组件产水管路和反冲洗管路：膜组件产水管路由内置于膜滤区的膜组件、膜组件产水管道(1)、电接点压力表(3)、抽吸泵(4)、产水管道(2)连接组成；反冲洗管路由反冲洗水泵(10)、反冲洗管道(5)、电接点压力表(3)、膜组件产水管道(1)连接组成。膜组件由膜箱(7)与膜材料(8)组成；膜材料为孔径0.01--10um的板式或中空纤维微滤或超滤膜材料。