公开(公告)号：CN102321212A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN201110141664.6

申请日：2011-02-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  畠山润 ,  大泽洋一 ,  土门大将

IPC: C08F220/30 ,  C08F212/14 ,  C08F222/18 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F20/22 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  C08F2220/283 ,  C08F232/08 ,  C08F2220/382

Abstract: 将一种包括在侧链上具有氟化羧酸鎓盐结构的重复单元的聚合物用于配制化学放大正性抗蚀剂组合物。当该组合物通过平版印刷处理形成正性图案时，酸在抗蚀剂膜中的扩散均匀并且缓慢，以及该图案的LER得到改善。

公开(公告)号：CN102243439A

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN201110121500.7

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物，其包括(A)聚合物或聚合物共混物，其中聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂，但是在酸的作用下变为可溶于其中，(B)酸产生剂，(C)碱性化合物，和(D)溶剂。碱性化合物(C)为包括带有侧链的重复单元的聚合物，并且构成作为组分(A)的一种聚合物或多种聚合物的一部分或全部，所述侧链具有仲胺或叔胺结构作为碱性活性位点。

公开(公告)号：CN102129172A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN201110005991.9

申请日：2011-01-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  增永惠一 ,  田中启顺 ,  渡边聪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C08F212/14 ,  C08F220/30

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/0045

Abstract: 负性抗蚀剂组合物，其包括包含具有烷基硫基基团重复单元且具有1000-2500的MW的基础聚合物，产酸剂和碱性组分，典型地为包含羧基、但不包括活性氢的胺化合物。其可以形成具有低LER值的45-nm线间隔的图案。

公开(公告)号：CN101900939A

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN201010194426.7

申请日：2010-05-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 田中启顺 ,  增永惠一 ,  土门大将 ,  渡边聪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382

Abstract: 本发明提供一种负型光阻组合物，其至少包含：(A)碱可溶性且可通过酸的作用而成为碱不溶性的基质高分子、及/或碱可溶性且可通过酸的作用与交联剂进行反应而成为碱不溶性的基质高分子与交联剂的组合；(B)酸产生剂；(C)作为碱性成份的含氮化合物，其中，作为该基质高分子，是将含有两种以上通式(1)所代表的单体、或一种以上通式(1)所代表的单体及一种以上通式(2)所代表的苯乙烯单体的混合物聚合所获得的高分子，或是将该高分子所具有的官能团更进一步加以化学转化所获得的高分子，且相对于构成前述所获得的高分子的全部重复单元，源于通式(1)所代表的单体的重复单元合计为50摩尔％以上。