公开(公告)号：CN101052917B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200580036565.4

申请日：2005-09-08

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  冈崎智 ,  原口崇 ,  岩片政秀 ,  高木干夫 ,  福岛祐一 ,  佐贺匡

IPC: G03F1/08

CPC classification number: G03F1/46 ,  G03F1/58 ,  G03F1/68

Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料及光掩模，其是形成在透明基板上设置了具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模的原材料，是在透明基板上，经过或不经过其它的膜(A)形成1层或2层以上的遮光膜，构成上述遮光膜的层的至少1层(B)作为主要成分含有硅和过渡金属，而且硅和过渡金属的摩尔比是硅∶金属＝4～15∶1(原子比)的光掩模坯料及使用该光掩模坯料在透明基板上形成具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模。

公开(公告)号：CN101852983A

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN201010158156.4

申请日：2010-03-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 稻月判臣 ,  金子英雄 ,  吉川博树

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/84 ,  G03F7/70783

Abstract: 公开了一种用于检查和判定光掩模坯或其中间体的方法。通过下述步骤来检查衬底上有膜的光掩模坯：(A)测量具有待检查应力的膜的光掩模坯的表面形貌，(B)从所述光掩模坯去除所述膜以提供经处理的衬底，(C)测量去除所述膜之后经处理的衬底的表面形貌，以及(D)比较光掩模坯或中间体的表面形貌和经处理的衬底的表面形貌，由此评估膜中的应力。

公开(公告)号：CN101140416A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200710167651.X

申请日：2007-04-20

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  冈崎智 ,  原口崇 ,  佐贺匡 ,  福岛佑一

IPC: G03F1/08 ,  G03F1/00

CPC classification number: G03F1/58 ,  G03F1/32 ,  Y10T428/31616

Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯，光掩模坯具有一层光屏蔽膜和一层或多层铬基材料膜，光屏蔽膜由一个单独的层或多个层构成，一个单独的层由含有过渡金属、硅以及氮的材料制成，多个层中包括至少一层由含有过渡金属、硅以及氮的材料制成。高的过渡金属含量确保了电导率，防止了在光掩模制造工艺中的充电，并且还提供了在光掩模制造中清洗时的足够的化学稳定性。对于存在氯和氧的情况下的铬基材料膜的干法刻蚀，光屏蔽膜具有良好的阻抗，从而确保了高加工精度。

公开(公告)号：CN1955840A

公开(公告)日：2007-05-02

申请号：CN200610136330.9

申请日：2006-10-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛慎泰 ,  吉川博树 ,  金子英雄 ,  稻月判臣

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 一种具有最基本结构的基座(11)，具有包括第一和第二透明石英部分(11a)以及夹在它们之间的不透明石英部分(11b)的三层结构。例如，不透明石英部分(11b)由“泡沫石英”制成。另外，考虑在衬底(10)上所形成的薄膜的组分或厚度以及在闪光照射期间关于照射光能量的各种条件等，将不透明石英部分(11b)对闪光的不透明度确定在基于不透明石英部分(11b)材料或厚度的适当范围内。叠置结构可以包括具有不同透明度的多个不透明石英层的叠置。

公开(公告)号：CN119493327A

公开(公告)日：2025-02-21

申请号：CN202411118546.7

申请日：2024-08-15

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 稻月判臣 ,  高坂卓郎 ,  生越大河 ,  樱井敬佑 ,  三村祥平 ,  金子英雄

IPC: G03F1/24 ,  G03F1/54 ,  G03F1/76 ,  G03F1/80

Abstract: 能够由能够通过使用含有氧(O)的气体的干法蚀刻图案化的吸收膜通过反射型掩模坯料形成细微且良好的吸收膜的图案，该反射型掩模坯料包括基板、在基板的一个主表面上形成的反射曝光光的多层反射膜、在多层反射膜上形成的吸收曝光光的吸收膜、和在吸收膜上的含有铌(Nb)的蚀刻掩模膜。

公开(公告)号：CN118778342A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202410393516.0

申请日：2024-04-02

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 稻月判臣 ,  高坂卓郎 ,  生越大河 ,  三村祥平

IPC: G03F1/24

Abstract: 在包括基板、多层反射膜、保护膜、吸收体膜和硬掩模膜的反射掩模坯中，保护膜由含有钌(Ru)的材料组成，吸收体膜由第一层和第二层或第一层、第二层和第三层组成，第一层具有含有钽(Ta)且不含氮(N)的组成，第二层具有含有钽(Ta)和氮(N)的组成，第三层具有含有钽(Ta)、氮(N)和氧(O)的组成，和硬掩模膜由含有铬(Cr)的材料组成。

公开(公告)号：CN118226700A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202311758324.7

申请日：2023-12-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 生越大河 ,  高坂卓郎 ,  稻月判臣

IPC: G03F1/24

Abstract: 一种反射掩模坯料，其包含基板、形成在所述基板的一个主表面上并且反射曝光用光的多层反射膜、以及形成在所述多层反射膜上且包含钌(Ru)和铌(Nb)的保护膜，所述保护膜包括在厚度方向上与靠近所述多层反射膜的一侧和最远离所述多层反射膜的一侧两者的钌(Ru)含量相比钌(Ru)含量低的部分。

公开(公告)号：CN108572509B

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN201810188726.0

申请日：2018-03-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 深谷创一 ,  稻月判臣

IPC: G03F1/26

Abstract: 本发明涉及光掩模坯料，该光掩模坯料具有在透明衬底上的任选第一膜、第二膜、第三膜和第四膜。第一膜和第三膜由含硅材料形成，该含硅材料耐氯基干法刻蚀并通过氟基干法刻蚀可除去。第二膜和第四膜由含铬材料形成，该含铬材料耐氟基干法刻蚀并通过氯基干法刻蚀可除去。在氯基干法刻蚀时，第四膜的刻蚀完成时间比第二膜的刻蚀完成时间长。

公开(公告)号：CN111290213B

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202010110602.8

申请日：2015-07-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 笹本纮平 ,  金子英雄 ,  稻月判臣 ,  深谷创一

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/26

Abstract: 提供设计包含透明基材和其上的光学膜的光掩模坯料的方法。所述光掩模坯料被加工成具有光学膜图案的透射性光掩模使得在通过光掩模透射曝光光时可转印该膜图案。使用比反射率作为指标来选择该光学膜，该比反射率等于反射率除以膜厚度。

公开(公告)号：CN108572510B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN201810188719.0

申请日：2018-03-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 稻月判臣 ,  深谷创一

IPC: G03F1/32 ,  G03F1/62

Abstract: 本发明涉及半色调相移光掩模坯料，该半色调相移光掩模坯料具有在透明衬底上的用作半色调相移膜的第一膜、用作遮光膜的第二膜、用作硬掩模膜的第三膜、和第四膜。第一膜和第三膜由含硅材料形成，该含硅材料耐氯基干法刻蚀并通过氟基干法刻蚀可除去。第二膜和第四膜由无硅的含铬材料形成，该含铬材料耐氟基干法刻蚀并通过氯基干法刻蚀可除去。