公开(公告)号：CN105579419B

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201480048869.1

申请日：2014-09-03

Applicant: 攀时奥地利公司 ,  攀时复合材料有限公司

Inventor： 彼得·波尔奇克 ,  恩里科·弗兰茨克 ,  马库斯·沃尔夫

IPC: H01M6/18 ,  C04B35/01 ,  C01B25/30 ,  C04B35/52 ,  H01M6/40 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明涉及一种导电靶材，其包含主要一种锂化合物、优选磷酸锂，及碳，以及常见杂质。本发明还涉及一种制造导电靶材的方法及其用途。

公开(公告)号：CN107889538B

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201680026248.2

申请日：2016-04-28

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 安德烈·德龙豪弗 ,  克里斯汀·林克

IPC: H01J37/34

Abstract: 本发明涉及一种用于管状标靶的连接件，该连接件具有一圆柱形内侧面和一圆柱形外侧面以及至少一磁性插件，其中该磁性插件的位置能够沿着该连接件的轴线方向在该连接件的至少一内侧面或外侧面上改变。

公开(公告)号：CN107592940B

公开(公告)日：2019-12-13

申请号：CN201680026796.5

申请日：2016-05-02

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 尼科·埃伯哈特 ,  沃尔弗拉姆·克纳布 ,  斯特凡·舍瑙尔 ,  安德列亚斯·武赫尔芬尼希

IPC: H01J35/08 ,  H01J35/10

Abstract: 本发明涉及一种用于产生X射线的X射线阳极，其具有承载基体(13)和一个第一放射层(14)和至少一个第二放射层(15)，其在电子碰撞时产生X射线，其中这些放射层在承载基体的一个面上通过中间层(16)分开并在X射线阳极的中央方向(17)上间隔安置。

公开(公告)号：CN105593800B

公开(公告)日：2019-11-08

申请号：CN201480054704.5

申请日：2014-10-01

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 哈拉尔德·科斯腾鲍尔 ,  多米尼克·洛伦茨 ,  布鲁斯·曾 ,  约尔格·温克勒

IPC: G06F3/044

Abstract: 本发明系关于一种触控传感器装置，其具有一个光学透明的电绝缘基板、配置于该基板上的至少一个光学透明的导电传感器元件及用于电接触该光学透明的传感器元件的至少一个接触结构。该接触结构具有由包括组成成分MoaXbOcNd的金属氮氧化物制成的至少一个层，其中b≥0，其中X为来自元素铌、钽、钒、钨、铬、铼、铪、钛及锆的群组的一种元素或多种元素的组合。

公开(公告)号：CN104968828B

公开(公告)日：2018-10-19

申请号：CN201480007071.2

申请日：2014-01-29

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 克里斯汀·林克 ,  李杰华 ,  彼得·舒马赫 ,  沃尔弗拉姆·克纳布 ,  格哈德·莱希特弗雷德

IPC: C23C14/34 ,  C22C24/00 ,  C22C28/00 ,  C22C9/00 ,  C22C1/04

Abstract: 本发明涉及一种由合金构成的溅镀靶，该合金由5at％至70at％的至少一种来自(Ga，In)群组的元素及0.1at％至15at％的Na、剩余Cu及常见杂质组成，其特征在于该溅镀靶包含至少一个金属间含Na相。

公开(公告)号：CN107408480A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680013323.1

申请日：2016-02-25

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 托马斯·韦宁豪斯 ,  伯恩哈德·迈尔-施莫尔奇 ,  马丁·卡特赖因

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明描述一种离子注入机，离子注入机包含至少一个由群组W、W合金、Mo和Mo合金的难熔金属构成的组件。组件的表面至少区域性地具有涂层，涂层至少区域性地由至少一种化合物形成，化合物具有选自C、B及N组成的群组的至少一种元素和选自W及Mo组成的群组的至少一种元素。

公开(公告)号：CN106165080A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201580018462.9

申请日：2015-01-27

Applicant: 攀时奥地利公司 ,  攀时美国有限责任公司

Inventor： 瓦迪姆·博古斯拉夫斯基 ,  阿尔诺·普兰肯施泰纳

IPC: H01L21/67 ,  H05B1/02

CPC classification number: F16M13/02 ,  H01L21/67103 ,  H05B6/08

Abstract: 本发明涉及一种用于支撑加热单元的支撑系统，其包括支撑构件及基底构件。该支撑构件具有实质上沿高度方向延伸的主要延伸方向以及近位端及远位端，其中近位端适用于支撑加热单元。基底构件经由至少一个铰链被连接至支撑构件的远位端部分，远位端部分被配置在近位端的远侧。支撑构件可相对于基底构件绕着旋转轴线枢转，该旋转轴线定向成平行于实质上刚性方向。

公开(公告)号：CN106133191A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201480068640.4

申请日：2014-12-17

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 马丁·卡特赖因 ,  迈克尔·奥沙利文

IPC: C23C24/04 ,  C23C4/06 ,  C23C4/08 ,  C23C4/129 ,  B22F9/22 ,  B22F1/00

Abstract: 本发明涉及一种包含富含Cr的区域的涂布材料，所述区域的Cr含量>95质量％，其形成含Cr粒子。所述粒子至少部分呈聚集物或聚结物形式，至少部分提供有孔，具有在所述富含Cr的区域中≤4gpa的平均纳米硬度HIT 0.005/5/1/5和/或通过BET测量的>0.05m2/g的平均表面积。所述涂布材料尤其较适用于冷气喷涂。本发明进一步涉及一种产生层的方法和一种使用所述方法产生的层。

公开(公告)号：CN106574324B

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201580044609.1

申请日：2015-08-10

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 哈拉尔德·科斯滕鲍尔 ,  朱迪思·科斯滕鲍尔 ,  格哈德·莱希特弗雷德 ,  约尔格·温克勒 ,  黄茂成 ,  马丁·卡特赖因 ,  伊丽莎白·艾登伯格

IPC: C22C1/04 ,  C23C14/34 ,  C23C24/04 ,  H01L23/532

Abstract: 本发明涉及一种用于薄膜部件的金属镀层以及用于制造金属镀层的方法。本发明此外涉及一种含Al以及Ti和常见杂质的由Mo基合金组成的溅镀靶以及一种用于制造由Mo基合金组成的溅镀靶的方法。

公开(公告)号：CN105517733B

公开(公告)日：2019-02-01

申请号：CN201480048403.1

申请日：2014-08-19

Applicant: 攀时奥地利公司

Inventor： 迈克尔·奥沙利文 ,  洛伦茨·西格尔 ,  马尔科·布兰德纳 ,  安德列亚斯·韦斯库托尼斯 ,  沃尔夫冈·克劳斯勒

IPC: B22F1/00 ,  C22C1/04 ,  C22C1/10 ,  C22C32/00 ,  H01M8/02

Abstract: 本发明涉及到一种具有至少80重量％铬含量的粉末冶金部件，其中孔隙和/或氧化物夹杂物存在于该部件中，其中在至少一个区域中贯穿该部件的切割表面处孔隙及氧化物夹杂物总和的每单位面积数目为至少10000/mm2。