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公开(公告)号：CN112119133B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN201980015053.1
申请日：2019-02-25
IPC: C09D163/04 , C01B32/152 , B82Y30/00 , H01L21/033
Abstract: 本文公开并要求保护的是一种用于形成旋涂硬掩模的组合物，其具有被胺取代的富勒烯衍生物和交联剂。该配方与半导体工业中使用的其他溶剂消耗相容。
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公开(公告)号：CN105764501A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201480053571.X
申请日：2014-07-25
IPC: A61K31/336 , A61K31/506
Abstract: 本发明公开一种通过改善单药治疗效力或降低副作用的方式改善在先受限于次选治疗效能的治疗剂的治疗效力的方法及组合物。所述方法及组合物是特别适用于比生群或其衍生物、其类似物或其前药。
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公开(公告)号：CN117716292A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202280052657.5
申请日：2022-07-05
Applicant: 亚历克斯·P·G·罗宾逊 , 爱德华·杰克逊 , 约翰·罗斯 , 汤姆·拉达 , 格雷格·奥卡拉汉
Inventor： 亚历克斯·P·G·罗宾逊 , 爱德华·杰克逊 , 约翰·罗斯 , 汤姆·拉达 , 格雷格·奥卡拉汉
IPC: G03F7/004
Abstract: 本专利申请公开了一种物质组合物，其包含溶剂；和具有选自(I)的化学结构的酯，其中X和Y相同或不同，其中X、Y和R1至R4为具有1至24个碳原子的支链或非支链的、经取代或未经取代的烷基链，其具有取代到链中的0至16个杂原子；为经取代或未经取代的苯基基团、杂芳族基团，或者稠合芳族基团或稠合杂芳族基团或两者的组合。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN107548473A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201680023321.0
申请日：2016-04-26
Applicant: 亚历克斯·菲利普·格雷厄姆·罗宾逊 , 安德烈亚斯·弗罗姆霍尔德 , 亚历山德拉·麦克莱兰德 , 托马斯·拉达 , 约翰·罗斯
Inventor： 亚历克斯·菲利普·格雷厄姆·罗宾逊 , 安德烈亚斯·弗罗姆霍尔德 , 亚历山德拉·麦克莱兰德 , 托马斯·拉达 , 约翰·罗斯
IPC: G03F7/004
Abstract: 本公开内容涉及新的正性光致抗蚀剂组合物和负性光致抗蚀剂组合物以及使用这些组合物的方法，该正性光致抗蚀剂组合物和负性光致抗蚀剂组合物包含基于一种或更多种特定金属、金属盐和/或金属络合物的组分。光致抗蚀剂组合物和方法对于使用例如紫外线辐射、极端紫外线辐射、超极端紫外线辐射、X射线、电子束和其他带电荷的颗粒射线的高速的精细图案处理是理想的。金属的特征在于高吸收截面和选择的弹性和非弹性电子截面。
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公开(公告)号：CN112119133A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201980015053.1
申请日：2019-02-25
IPC: C09D163/04 , C01B32/152 , B82Y30/00 , H01L21/033
Abstract: 本文公开并要求保护的是一种用于形成旋涂硬掩模的组合物，其具有被胺取代的富勒烯衍生物和交联剂。该配方与半导体工业中使用的其他溶剂消耗相容。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107406392A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201580070057.1
申请日：2015-12-21
Applicant: 亚历克斯·菲利普·格雷厄姆·罗宾逊 , 杨冬旭 , 安德烈亚斯·弗罗姆霍尔德 , 托马斯·拉达 , 约翰·罗斯 , 薛湘 , 爱德华·A·杰克逊
Inventor： 亚历克斯·菲利普·格雷厄姆·罗宾逊 , 杨冬旭 , 安德烈亚斯·弗罗姆霍尔德 , 托马斯·拉达 , 约翰·罗斯 , 薛湘 , 爱德华·A·杰克逊
IPC: C07D245/02 , C07D487/04 , C07D487/08 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , C07D245/02 , C07D487/14 , C07D498/14 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L51/0018 , H01L51/0047
Abstract: 本发明申请公开了一种物质组合物，其包含：包含溶剂；以及具有选自(I)、(II)或(III)的化学结构的酯；其中X和Y相同或不同，其中X和Y中的至少一个包含酸不稳定基团，其中R1是具有1-4个碳原子的饱和或不饱和的基团，R2选自氢或具有1-4个碳原子的饱和或不饱和的基团，R3是具有1-4个碳原子的饱和或不饱和的基团，并且R4是具有1-4个碳原子的饱和或不饱和的基团，并且A-是阴离子。
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