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公开(公告)号：CN119882224A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411957218.6
申请日：2024-12-29
Applicant: 北京高光文明科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种显示器（屏）防蓝光光学膜，在显示屏上选取若干采样点，基于对各采样点的实测数据获得对应于各采样点的光谱辐射功率，基于对应于各采样点的光谱辐射功率，依据光谱辐射功率和蓝光危害加权系数计算对应于各采样点的蓝光辐射能量，将对应于各采样点的蓝光辐射能量与相应安全阈值比较，依据比较结果为采样点的蓝光辐射过滤系数赋值，依据各采样点数据进行曲面拟合，生成获得防蓝光光学膜应有的蓝光辐射过滤系数分布函数，据此制备防蓝光光学膜，这种防蓝光光学膜更符合实际状况，可用于贴合在最外端LCD屏、或OLED屏、或MiniLED屏、或Micro LED屏上。
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公开(公告)号：CN119351962B
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411910744.7
申请日：2024-12-24
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种金属件表面真空镀膜设备及真空镀膜方法，涉及真空镀覆技术领域，包括外仓以及通过转动轴转动安装在外仓上的仓盖，还包括靶材以及基材；所述外仓内部固定安装有内仓，所述内仓分为两半，其中一半位于外仓内，另一半位于仓盖内，所述内仓底部固定安装有注气盘，所述注气盘上开设有多个注气孔，所述外仓外部固定安装有真空泵，所述真空泵与内仓之间通过气管相连通。优点在于：本发明在进行基材镀膜时，不仅可有效地降低靶材受热不均导致覆膜质量差的概率，还可对靶材上溅射出来的离子进行集中发射，对基材进行局部覆膜，覆膜均匀性更高，且离子附着强度更大，后期覆膜脱落概率低，覆膜质量更高。
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公开(公告)号：CN116813598B
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202310619384.4
申请日：2023-05-30
Applicant: 南京高光半导体材料有限公司
IPC: C07D405/12 , C09K11/06 , H10K85/60 , H10K50/18
Abstract: 本发明公开了一种有机电致发光化合物及有机电致发光器件，其结构式如下式1所示。本发明设计了一种有机电致发光化合物及含有该化合物的有机电致发光器件，在化合物分子式中咔唑基团引入氘代，提高咔唑基团的热稳定性及化学稳定性，降低器件发光电压、提高使用寿命并大幅度提高器件寿命，能够有效提高化合物分子的热稳定性和化学稳定性，进而提高了使用该类化合物制备的器件的寿命及效率；将其应用于有机电致发光器件中，作为电子阻挡层使用，可以使有机电致发光器件的发光效率得到较大幅度提升，而且启动电压下降，功耗相对降低，使用寿命得到很大程度提升。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119306618B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411869518.9
申请日：2024-12-18
Applicant: 南京高光半导体材料有限公司
IPC: C07C211/61 , C07C209/10 , H10K85/60 , H10K50/11 , H10K50/17 , H10K50/15 , H10K50/18 , H10K50/16 , C09K11/06
Abstract: 本发明涉及一种化合物及有机发光器件,其中涉及新型有机电致发光材料，通过对分子结构的精心设计，实现了多种优异性能的协同提升。由于均在各自结构的活性位点进行氘代，因此，均具有良好的热稳定性、化学稳定性及光电稳定性。同时本发明的化合物具有良好的载流子迁移率，进一步扩宽激子复合区域，进而提高器件的寿命及效率。#imgabs0#。
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公开(公告)号：CN119161330B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411624923.4
申请日：2024-11-14
Applicant: 南京高光半导体材料有限公司
IPC: C07D405/14 , C07D409/14 , C09K11/06 , H10K85/60 , H10K50/11
Abstract: 本发明涉及一种含有氮杂环结构的化合物及有机电致发光器件。化合物活性位点氘代提升化合物化学稳定性、光电稳定性及热稳定性，提高器件的稳定性，进而提高寿命。能够与本发明的P‑type化合物形成良好的Premix材料，在蒸镀过程中具有良好的P/N稳定性及量产稳定性，并且形成的Premix材料具有更加平衡的载流子迁移率，进而大幅度提高器件的效率及寿命。#imgabs0#。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116391008B
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202280006488.1
申请日：2022-02-11
Applicant: 南京高光半导体材料有限公司
IPC: C07D405/14 , H10K50/11 , H10K50/12 , H10K85/60 , C09K11/06
Abstract: 本发明公开了一种含有咔唑的化合物及有机电致发光器件，化合物以特定的方式将两个咔唑、三嗪、以及二苯并呋喃连接而成。且在传统的该类有机材料中引入重氢(氘)，氘的引入提高了该类材料与掺杂材料的相溶解性，提高界面稳定性，进而大幅度提高了器件的发光效率及稳定性，同时氘代的引入使得该类化合物能够更好的与掺杂材料进行搭配，进一步提高了器件的寿命及发光效率。
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公开(公告)号：CN119433443A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411628288.7
申请日：2024-11-14
Applicant: 苏州亦高光电有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种功能薄膜的制造方法，其包含：步骤1，基板清洗：选取基板材料，对表面进行处理，再进行清洗、干燥，覆膜后备用；步骤2，镀增透膜层：在基板上镀设SiO2膜，以及Si3N4膜和SiON膜交替重复组成的增透膜层；步骤3，镀SiO2结合层：在增透膜层表面镀SiO2结合层；步骤4，镀超硬膜层：在SiO2结合层表面镀Si3N4膜和CNx膜交替组成的超硬膜层；步骤5，再镀SiO2结合层：在超硬膜层表面再镀一次SiO2结合层；步骤6，镀防指纹膜层：在薄膜表面蒸镀防指纹膜层。本发明的方法，通过在增透膜和防指纹膜中间，引入一层超硬复合膜层，使薄膜兼具高透过率、低反射和抗指纹的同时，还具有高硬度。
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公开(公告)号：CN119411096A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202510005364.7
申请日：2025-01-03
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开一种真空镀膜设备及镀膜工艺，具体涉及镀膜技术领域，该真空镀膜设备，包括镀膜腔，在镀膜腔前端两侧分别通过铰链转动安装有一号闭合门、二号闭合门，在一号闭合门、二号闭合门内均设置有避让区。本发明通过隔离层完成镀膜腔的主动封闭，避免了镀膜腔内出现破空状况，提高了镀膜效率，同时减少了外界环境的接触，降低了环境落尘、杂质或其他污染物影响产品的外观的几率，同时真空机构能够主动的切换至沉积区、避让区，完成两个区域的真空处理，保持沉积区、避让区内的真空状态，使得隔离层携带两个循环机构转动时不会出现破空的问题，无需反复的针对整个镀膜腔完成真空复原，优化了镀膜步骤，提高了良品率。
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公开(公告)号：CN112230445B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202011170169.3
申请日：2020-10-28
Applicant: 深圳美高光学有限公司
Inventor： 赵克银
Abstract: 本发明的实施例提供了一种眼镜腿结构及眼镜，涉及眼镜领域。旨在改善现有眼镜腿结构易摇摆晃动的问题。眼镜腿结构包括眼镜腿、连接件以及弹片结构；连接件绕预设轴线可转动地连接于眼镜腿，且连接件具有第一配合面以及第二配合面；弹片结构连接于眼镜腿，且弹片结构用于在连接件相对眼镜腿转动的过程中，抵靠第一配合面或第二配合面，以对连接件进行限位。在连接件相对眼镜腿转动的过程中，连接件压缩弹片结构的同时，使得第一配合面与弹片结构配合，此时连接件相对眼镜腿停留在第一位置，转动到第二配合面与弹片结构配合时，连接件相对眼镜腿停留在第二位置，弹片结构利用弹力作用使得连接件相对眼镜腿在两个位置易固定，不易晃动。
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公开(公告)号：CN111413789B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202010311305.X
申请日：2020-04-20
Applicant: 威海世高光电子有限公司
Abstract: 本发明揭示了一种红外光学镜头及红外光学设备，所述红外光学镜头从物侧至像侧包括第一透镜、第二透镜、第三透镜及第四透镜，所述第一透镜、第二透镜、第三透镜及第四透镜的物侧面和像侧面均为非球面，所述第一透镜的有效焦距f1与红外光学镜头的总有效焦距f满足1.2＜f1/f＜1.5，且3.69mm≤f≤3.70mm，光源波长范围为812nm～832nm。本发明中的红外光学镜头及红外光学设备通过优化透镜的厚度、焦距、有效口径等参数，能够提高镜头的分辨率，减小光学畸变，并能够保证相对照度，能够广泛适用于红外波段的光学设备中。
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