显示装置及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112436035A

    公开(公告)日:2021-03-02

    申请号:CN202010855072.X

    申请日:2020-08-24

    Abstract: 本公开内容涉及显示装置及其制造方法。该显示装置包括:基板、设置在基板上的发光元件层、设置在发光元件层上的第一封装层和第二封装层以及覆盖第一封装层和第二封装层的缓冲层。第二封装层包括:第一膜、设置在第一膜上的第二膜以及设置在第一膜和第二膜之间的第三膜,并且第三膜的侧表面较之第一膜的侧表面和第二膜的侧表面设置在更向内的位置处。

    发光二极管、其制造方法以及包括所述发光二极管的显示装置

    公开(公告)号:CN111755473A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN202010173581.4

    申请日:2020-03-13

    Abstract: 根据本公开内容的实施方案的发光二极管包括第一电极;与所述第一电极相对的第二电极;在所述第一电极与所述第二电极之间的发射层,所述发射层包含量子点;在所述第一电极与所述发射层之间的第一电荷转移层;在所述第二电极与所述发射层之间的第二电荷转移层;以及在所述第一电荷转移层与所述发射层之间和/或在所述第二电荷转移层与所述发射层之间的至少一个位置中的绝缘层,其中所述绝缘层包含无机材料。所述发光二极管和包括所述发光二极管的显示装置显示改善的寿命特性和发射效率性质。

    制造显示器的方法及用于该方法的沉积装置

    公开(公告)号:CN104103582B

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201310540886.4

    申请日:2013-11-05

    CPC classification number: H01L51/0011 H01L2251/566

    Abstract: 本发明提供一种当同时制造多个显示器时可以降低沉积的不均匀性的制造显示器的方法,以及一种可在该方法中使用的沉积装置。其中,该方法包括:制备具有矩阵图案的多个区域的母衬底,所述母衬底被用于形成对应于所述多个区域的多个显示器单元;将母衬底插入沉积室,其中,沉积源在沉积室中;通过使用包括了沿第一方向延伸的多个平行条纹形状的掩模板的掩模来在母衬底上沉积材料;沿着所述多个显示器单元的每个的边缘切割母衬底,从而得到多个显示器。

    沉积设备
    4.
    发明公开
    沉积设备 审中-公开

    公开(公告)号:CN117364059A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202310828385.X

    申请日:2023-07-06

    Abstract: 公开了一种沉积设备,所述沉积设备包括:气体供应件,包括多个气体注入口;板,设置为面对气体供应件,并且设置为朝向气体供应件上下移动,其中,目标基底放置在板上;主体部,包括限定板与气体供应件之间的反应空间的第一部分、设置在第一部分下方并且限定下空间的第二部分、以及与板间隔开的内壁;以及多个第一排出部,设置在第一部分的外壁上。

    显示装置的制造装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113496920A

    公开(公告)日:2021-10-12

    申请号:CN202110356769.7

    申请日:2021-04-01

    Abstract: 本发明的一实施例公开一种显示装置的制造装置,包括:第一喷嘴部,包括放出第一源气体的第一喷嘴单元以及布置于所述第一喷嘴单元的外侧并排出所述第一源气体的第一排气部;以及第二喷嘴部,沿第一方向与所述第一喷嘴部并排排列,并且包括放出第二源气体的第二喷嘴单元以及布置于所述第二喷嘴单元的外侧并排出所述第二源气体的第二排气部,其中,所述第一排气部以及所述第二排气部中的至少一个放出清洗气体。

    制造显示装置的装置和方法

    公开(公告)号:CN105489630A

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201510645298.6

    申请日:2015-10-08

    Abstract: 公开了一种制造显示装置的装置和方法。在一方面,该装置包括室和形成在室中并被配置为形成至少一个无机层的无机层形成喷嘴单元。该装置还包括形成在室中并被配置为形成至少一个有机层的有机层形成喷嘴单元,其中,有机层形成喷嘴单元与无机层形成喷嘴单元基本上直列地布置。该装置还包括形成在无机层形成喷嘴单元与有机层形成喷嘴单元之间并被配置为喷射惰性气体的分隔喷嘴单元。

    原子层沉积设备和使用该设备的原子层沉积方法

    公开(公告)号:CN116641040A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310136594.8

    申请日:2023-02-20

    Abstract: 公开原子层沉积设备和使用该设备的原子层沉积方法。所述原子层沉积设备包括:支撑基板的基板支撑部;在基板支撑部上的工艺模块;将第一气体供应到工艺模块的第一气体管道;将第二气体供应到工艺模块的第二气体管道;以及排放供应到工艺模块的第一气体和第二气体的排放部。工艺模块包括:连接到第一气体管道的第一气体供应流路部分;在第一气体供应流路部分下面并且连接到第二气体管道的第二气体供应流路部分;以及连接到排放部的气体排放流路部分。气体排放流路部分与第一气体供应流路部分和第二气体供应流路部分间隔开,基板介于气体排放流路部分与第一气体供应流路部分和第二气体供应流路部分之间,并且第一气体和第二气体以层流穿过工艺区域。

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